| (84) |
Benannte Vertragsstaaten: |
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DE FR NL |
| (30) |
Priorität: |
20.11.1997 EP 97120354
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| (43) |
Veröffentlichungstag der Anmeldung: |
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26.05.1999 Patentblatt 1999/21 |
| (73) |
Patentinhaber: Applied Films GmbH & Co. KG |
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63755 Alzenau (DE) |
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| (72) |
Erfinder: |
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- Stollenwerk, Johannes
63571 Gelnhausen (DE)
- Daube, Christoph
63755 Alzenau (DE)
- Guerke, Achim
63739 Aschaffenburg (DE)
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| (74) |
Vertreter: Troesch Scheidegger Werner AG |
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Patentanwälte
Postfach 8032 Zürich 8032 Zürich (CH) |
| (56) |
Entgegenhaltungen: :
EP-A- 0 570 182
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EP-A- 0 803 587
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- PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 013, no. 562 (C-665), 13. Dezember 1989 & JP 01 234398
A (MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD), 19. September 1989
- YASUHISA KANEKO ET AL: "PREPARATION OF MGO THIN FILMS BY RF MAGNETRON SPUTTERING"
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Bd. 30, Nr. 5, 1. Mai 1991, Seiten 1091-1092,
XP000263714
- BRULEY J ET AL: "NANOSTRUCTURE AND CHEMISTRY OF A (100)MGO/(100)GAAS INTERFACE" APPLIED
PHYSICS LETTERS, Bd. 65, Nr. 5, 1. August 1994, Seiten 564-566, XP000464872
- TSUGUO ISHIHARA ET AL: "STRUCTURE OF MGO FILMS PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING" JOURNAL
OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN, INTERNATIONAL EDITION, Bd. 97, Nr. 8, 1. August 1989,
Seiten 4-10, XP000083701
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