(57) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Beschichten von Substratwerkstoffen
durch thermisches Spritzen, wobei das Gas oder Gasgemisch aus mindestens einem Gasdruckbehälter
in einen Gaspufferbehälter und von diesem Gaspufferbehälter zu einer Vorrichtung zum
Vermischen eines pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch geleitet
wird, wobei das Gas oder Gasgemisch erhitzt wird und wobei der Zusatzwerkstoff mittels
des Gases oder Gasgemisches auf die zu beschichtende Oberfläche des Substratwerkstoffes
geleitet wird.
Erfindungsgemäß wird das Gas oder Gasgemisch nach Verlassen des Gaspufferbehälters
erhitzt.
Die Heißgaserzeugung kann mittels einer elektrischen Widerstandsheizung oder induktiver
Erwärmung erfolgen. Das Gas oder Gasgemisch kann aber auch mittels eines Flammbrenners
oder mittels eines Plasmabrenners erhitzt werden.
[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten von Substratwerkstoffen durch
thermisches Spritzen, wobei das Gas oder Gasgemisch aus mindestens einem Gasdruckbehälter
in einen Gaspufferbehälter und von diesem Gaspufferbehälter zu einer Vorrichtung zum
Vermischen eines pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch geleitet
wird, wobei das Gas oder Gasgemisch erhitzt wird und wobei der Zusatzwerkstoff mittels
des Gases oder Gasgemisches auf die zu beschichtende Oberfläche des Substratwerkstoffes
geleitet wird. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Beschichten von
Substratwerkstoffen durch thermisches Spritzen, wobei die Vorrichtung mindestens einen
Gasdruckbehälter, mindestens einen Gaspufferbehälter, eine Vorrichtung zum Vermischen
eines pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch und eine Vorrichtung
zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches, sowie Leitungen für das Gas oder Gasgemisch
aus dem Gasdruckbehälter in den Gaspufferbehälter und von diesem Gaspufferbehälter
zu der Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas
oder Gasgemisch umfaßt.
[0002] Das thermische Spritzen zum Beschichten kennt als Verfahrensvarianten das autogene
Flammspritzen oder das Hochgeschwindigkeits-Flammspritzen, das Lichtbogenspritzen,
das Plasmaspritzen, das Detonationsspritzen und das Laserspritzen.
[0003] Thermische Spritzverfahren werden in allgemeiner Form beispielsweise in
- Übersicht und Einführung in das "Thermische Spritzen", Peter Heinrich, Linde-Berichte aus Technik und Wissenschaft, 52/1982, Seiten 29 bis
37,
oder
- Thermisches Spritzen - Fakten und Stand der Technik, Peter Heinrich, Jahrbuch Oberflächentechnik 1992, Band 48, 1991, Seiten 304 bis
327, Metall-Verlag GmbH,
beschrieben.
[0004] Thermische Spritzverfahren zeichnen sich im wesentlichen dadurch aus, daß sie gleichmäßig
aufgetragene Beschichtungen ermöglichen. Durch thermische Spritzverfahren aufgetragene
Beschichtungen können durch Variation der Spritzmaterialien an unterschiedliche Anforderungen
angepaßt werden. Die Spritzmaterialien können dabei in Form von Drähten, Stäben oder
als Pulver verarbeitet werden. Beim thermischen Spritzen kann zusätzlich eine thermische
Nachbehandlung vorgesehen sein.
[0005] In jüngerer Zeit wurde darüber hinaus ein weiteres thermisches Spritzverfahren entwickelt,
welches auch als Kaltgasspritzen bezeichnet wird. Es handelt sich dabei um eine Art
Weiterentwicklung des Hochgeschwindigkeits-Flammspritzens. Dieses Verfahren ist beispielsweise
in der europäischen Patentschrift EP 0 484 533 B1 beschrieben. Beim Kaltgasspritzen
kommt ein Zusatzwerkstoff in Pulverform zum Einsatz. Die Pulverpartikel werden beim
Kaltgasspritzen jedoch nicht im Gasstrahl geschmolzen. Vielmehr liegt die Temperatur
des Gasstrahles unterhalb des Schmelzpunktes der Zusatzwerkstoffpulverpartikel (EP
0 484 533 B1). Im Kaltgasspritzverfahren wird also ein im Vergleich zu den herkömmlichen
Spritzverfahren "kaltes" bzw. ein vergleichsweise kälteres Gas verwendet. Gleichwohl
wird das Gas aber ebenso wie in den herkömmlichen Verfahren erwärmt, aber in der Regel
lediglich auf Temperaturen unterhalb des Schmelzpunktes der Pulverpartikel des Zusatzwerkstoffes.
[0006] Das Gas oder Gasgemisch, mit dessen Hilfe der Zusatzwerkstoff auf die zu beschichtende
Oberfläche des Substratwerkstoffes geleitet wird, wird üblicherweise in einem oder
mehreren Gasdruckbehälter, beispielsweise einem oder mehreren Gastanks, unter hohem
Druck gespeichert. Im Falle der Speicherung als tiefkalt verflüssigter Gase ist üblicherweise
zunächst eine Hochdruckverdampfer vorhanden, in welchem das verflüssigte Gas in den
gasförmigen Aggregatzustand überführt wird. Außerdem ist eine Druckerhöhung erforderlich.
[0007] Als Gase für das thermische Spritzen kommen beispielsweise Stickstoff, Helium, Argon,
Neon, Krypton, Xenon, ein Wasserstoff enthaltendes Gas, ein kohlenstoffhaltiges Gas,
insbesondere Kohlendioxid, Sauerstoff, ein Sauerstoff enthaltendes Gas, Luft oder
Mischungen der vorgenannten Gase in Frage. Neben den aus der EP 0 484 533 B1 bekannten
Gasen Luft und/oder Helium eignen sich auch für das den pulverförmigen Zusatzwerkstoff
tragende Gas ein Stickstoff, Argon, Neon, Krypton, Xenon, Sauerstoff, ein Wasserstoff
enthaltendes Gas, ein kohlenstoffhaltiges Gas, insbesondere Kohlendioxid, oder Mischungen
der vorgenannten Gase und Mischungen dieser Gase mit Helium. Der Anteil des Helium
am Gesamtgas kann bis zu 90 Vol.-% betragen. Bevorzugt wird ein Heliumanteil von 10
bis 50 Vol.-% im Gasgemisch eingehalten.
[0008] Es hat sich gezeigt, daß durch den Einsatz von unterschiedlichen Gasen zum Beschleunigen
und Tragen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes die Flexibilität und Wirksamkeit des
thermischen Spritzverfahrens wesentlich vergrößert werden kann. Die so hergestellten
Schichten haften sehr gut auf den verschiedensten Substratwerkstoffen, beispielsweise
auf Metall, Metallegierungen, Keramik, Glas, Kunststoffe und Verbundwerkstoffe. Die
Beschichtungen sind von hoher Güte, weisen eine außerordentlich geringe Porosität
auf und besitzen extrem glatte Spritzoberflächen, so daß sich in der Regel eine Nacharbeitung
erübrigt. Die erwähnten Gase besitzen eine ausreichende Dichte und Schallgeschwindigkeit,
um die erforderlichen hohen Geschwindigkeiten der Pulverpartikel gewährleisten zu
können. Das Gas kann dabei inerte und/oder reaktive Gase enthalten. Mit den genannten
Gasen ist die Herstellung von sehr dichten und besonders gleichmäßigen Beschichtungen
möglich, welche sich außerdem durch ihre Härte und Festigkeit auszeichnen. Die Schichten
weisen extrem geringe Oxidgehalte auf. Sie besitzen keine oder zumindest keine ausgeprägte
Textur, d.h. es gibt keine Vorzugsorientierung der einzelnen Körner oder Kristalle.
Das Substrat wird ferner nicht durch eine Flamme oder ein Plasma erwärmt, so daß keine
oder nur extrem geringe Veränderungen am Grundkörper und auch kein Verzug von Werkstücken
durch Wärmespannungen infolge des thermischen Spritzens auftreten.
[0009] Um sich für die Güte der gespritzten Schicht nachteilig auswirkende Druckschwankungen
des Gases oder Gasgemisches zu verhindern, kann das Gas oder Gasgemisch gepuffert
werden. Dabei ist denkbar, die Heißgaserzeugung direkt im Pufferbehälter vorzunehmen,
d.h. das zur Pufferung gespeicherte Gas oder Gasgemisch im Pufferbehälter zu erhitzen.
Dies erscheint vorteilhaft, da in diesem Fall mit Hilfe einer Steuereinheit leicht
der gewünschte Druck und die gewünschte Temperatur für den das pulverförmigen Zusatzwerkstoff
tragenden Gasstrahl eingestellt werden können.
[0010] Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs genannte Verfahren
und die Vorrichtung weiterzubilden, insbesondere die Effizienz und die Flexibilität
zu vergrößern.
[0011] Die gestellte Aufgabe wird für das Verfahren dadurch gelöst, daß das Gas oder Gasgemisch
nach Verlassen des Gaspufferbehälters erhitzt wird.
[0012] Die gestellte Aufgabe wird für die Vorrichtung dadurch gelöst, daß die Vorrichtung
zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches in Strömungsrichtung nach dem Gaspufferbehälter
angeordnet ist.
[0013] Der Vorteil der Erfindung liegt darin, daß einerseits nur das direkt benötigte Gas
und nicht die gesamte gepufferte Gasmenge erhitzt wird und somit die Heißgaserzeugung
effizienter, leichter einstellbar und kostengünstiger wird.
[0014] Dadurch, daß das Gas oder Gasgemisch unmittelbar vor der Vorrichtung zum Vermischen
des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch erhitzt wird, kann
die energetische Effizienz weiter und zusätzlich die Flexibilität erhöht werden. Denn
bei der Heißgaserzeugung im Pufferbehälter muß die Gasleitung zwischen Pufferbehälter
und Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder
Gasgemisch thermisch isoliert werden und/oder der Wärmeverlust in dieser Leitung beim
Erhitzen des Gases oder Gasgemisches berücksichtigt werden. Insbesondere eine thermische
Isolierung führt aber zu dicken relativ steifen und wenig oder gar nicht biegsamen
Leitungen. Diese schränken die Flexibilität ein und reduzieren oder verhindern die
Beweglichkeit der Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes
mit dem Gas oder Gasgemisch. Mit der Erfindung wird ermöglicht, daß die Vorrichtung
zum Vermischen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch, beispielsweise
eine Spritzpistole, auch gegebenenfalls von Hand geführt werden kann.
[0015] Die Heißgaserzeugung kann mittels einer elektrischen Widerstandsheizung erfolgen.
Diese bringt den Vorteil einer gut handhabbaren und wenig aufwendigen Heizung. Das
Gas oder Gasgemisch kann aber auch mittels eines Flammbrenners oder mittels eines
Plasmabrenners erhitzt werden. Diese Möglichkeiten sind in der Regel energetisch besonders
günstig. Darüber hinaus kann auch eine induktive Erwärmung (Induktionsheizung) zur
Erhitzung des Gases oder Gasgemisches vorgesehen sein.
[0016] Der Gasstrahl kann auf eine Temperatur im Bereich zwischen 30 und 1000 °C, vorzugsweise
zwischen 100 und 800 °C erwärmt werden, wobei alle bekannten pulverförmigen Spritzmaterialien
eingesetzt werden können, beispielsweise Spritzpulver aus Metallen, Metallegierungen,
Hartstoffen, Keramiken und/oder Kunststoffen.
[0017] Im Zusammenhang mit der Erfindung kann insbesondere ein Gasstrahl mit einem Druck
von 5 bis 50 bar eingesetzt werden. Vor allem das Arbeiten mit höheren Gasdrücken
bringt zusätzliche Vorteile, da die Energieübertragung in Form von kinetischer Energie
erhöht wird. Es eignen sich insbesondere Gasdrücke im Bereich von 21 bis 50 bar. Hervorragende
Spritzergebnisse wurden beispielsweise mit Gasdrücken von etwa 35 bar erzielt. Die
Hochdruckgasversorgung kann beispielsweise durch das in der eigenen deutschen Patentanmeldung
DE 197 16 414.5 beschriebene Verfahren bzw. die dort beschriebene Gasversorgungsanlage
sichergestellt werden.
[0018] Die Pulverpartikel können vorteilhafterweise auf eine Geschwindigkeit von 300 bis
1600 m/s beschleunigt werden. Es eignen sich dabei insbesondere Geschwindigkeiten
der Pulverpartikel zwischen 1000 und 1600 m/s, besonders bevorzugt zwischen 1250 und
1600 m/s, da in diesem Fall die Energieübertragung in Form von kinetischer Energie
besonders hoch ausfällt.
[0019] Die im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Pulver besitzen bevorzugt Partikelgrößen
von 1 bis 100 µm.
[0020] Die Erfindung bietet auch die Möglichkeit, in Verbindung mit einer Automatisierung
und mit computergesteuerter Bewegung des Substrats oder der Vorrichtung zum Vermischen
des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch bzw. der Spritzpistole
das thermische Spritzverfahren besonders rasch und kostengünstig durchzuführen.
1. Verfahren zum Beschichten von Substratwerkstoffen durch thermisches Spritzen, wobei
das Gas oder Gasgemisch aus mindestens einem Gasdruckbehälter in einen Gaspufferbehälter
und von diesem Gaspufferbehälter zu einer Vorrichtung zum Vermischen eines pulverförmigen
Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch geleitet wird, wobei das Gas oder Gasgemisch
erhitzt wird und wobei der Zusatzwerkstoff mittels des Gases oder Gasgemisches auf
die zu beschichtende Oberfläche des Substratwerkstoffes geleitet wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder Gasgemisch nach Verlassen des Gaspufferbehälters erhitzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder Gasgemisch unmittelbar
vor der Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas
oder Gasgemisch erhitzt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder
Gasgemisch mittels einer elektrischen Widerstandsheizung erhitzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder
Gasgemisch mittels eines Flammbrenners oder mittels eines Plasmabrenners erhitzt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder
Gasgemisch mittels induktiver Erwärmung erhitzt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder
Gasgemisch auf eine Temperatur für das thermische Spritzen im Bereich zwischen 30
und 1000 °C, vorzugsweise zwischen 100 und 800 °C erhitzt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Gaspufferbehälter
ein Gasflaschenbündel eingesetzt wird.
8. Vorrichtung zum Beschichten von Substratwerkstoffen durch thermisches Spritzen, wobei
die Vorrichtung mindestens einen Gasdruckbehälter, mindestens einen Gaspufferbehälter,
eine Vorrichtung zum Vermischen eines pulverförmigen Zusatzwerkstoffes mit dem Gas
oder Gasgemisch und eine Vorrichtung zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches, sowie
Leitungen für das Gas oder Gasgemisch aus dem Gasdruckbehälter in den Gaspufferbehälter
und von diesem Gaspufferbehälter zu der Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen
Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches in Strömungsrichtung
nach dem Gaspufferbehälter angeordnet ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zum Erhitzen
des Gases oder Gasgemisches unmittelbar vor der Vorrichtung zum Vermischen des pulverförmigen
Zusatzwerkstoffes mit dem Gas oder Gasgemisch angeordnet ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung
zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches eine elektrische Widerstandsheizung umfaßt.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung
zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches einen Flammbrenner oder Plasmabrenner umfaßt.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung
zum Erhitzen des Gases oder Gasgemisches Mittel zum induktiven Erwärmen umfaßt.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Gaspufferbehälter
aus einem Gasflaschenbündel besteht.