(19)
(11) EP 0 963 601 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
15.12.1999  Patentblatt  1999/50

(21) Anmeldenummer: 98905245.0

(22) Anmeldetag:  12.01.1998
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
H01L 27/ 04( . )
H01L 21/ 822( . )
H01L 29/ 94( . )
H01L 21/ 334( . )
H01L 21/ 8242( . )
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/DE1998/000089
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 1998/032166 (23.07.1998 Gazette  1998/29)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT CH DE DK ES FI FR GB IE IT LI NL SE

(30) Priorität: 21.01.1997 DE 19971001935

(71) Anmelder: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
80333 München (DE)

(72) Erfinder:
  • WENDT, Hermann
    D-85630 Grasbrunn (DE)
  • REISINGER, Hans
    D-82031 Grünwald (DE)
  • SPITZER, Andreas
    D-81739 München (DE)
  • STENGL, Reinhard
    D-86391 Stadtbergen (DE)
  • GRÜNING, Ulrike
    Wappingers Falls, NY 12590 (US)
  • WILLER, Josef
    D-85521 Riemerling (DE)
  • HÖNLEIN, Wolfgang
    D-82008 Unterhaching (DE)
  • LEHMANN, Volker
    D-80689 München (DE)

(74) Vertreter: Epping, Wilhelm, Dipl.-Ing., et al 
Epping Hermann & Fischer Ridlerstrasse 55
80339 München
80339 München (DE)

   


(54) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILIZIUMKONDENSATORS