[0001] Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf einer
Oberfläche des Trägers aufgebrachten Keramikschicht sowie einer lichtempfindlichen
Schicht und ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Aufzeichnungsmaterials.
[0002] Bei lithografischen Verfahren werden auf den lithografischen Druckplatten Bild-und
Nichtbildflächen auf einem Träger hergestellt, wobei die Nichtbildflächen im allgemeinen
hydrophil und die Bildflächen im allgemeinen oleophil sind. Dementsprechend werden
Druckfarben, die auf Ölbasis hergestellt sind, von den Nichtbildflächen abgewiesen,
nachdem auf das Substrat Wasser aufgebracht wurde. Sowohl die Nichtbild- als auch
die Bildflächen werden durch Belichten einer lichtempfindlichen Aufzeichnungsschicht
auf der Oberfläche des Trägers geschaffen. Die Belichtung bewirkt Unterschiede in
der Löslichkeit entsprechend den Bild- und den Nichtbildflächen.
[0003] Die Präparation des Trägers vor dem Antragen der lichtempfindlichen Schicht muß sicherstellen,
daß die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht fest auf dem Träger haftet, muß andererseits
jedoch auch zulassen, daß das lösliche Bildmaterial nach der Entwicklung entfernt
werden kann. Trägermaterialien für lithografische Druckplatten sind im allgemeinen
Aluminium und Aluminiumlegierungen, die eine Schicht aus Aluminiumoxid auf ihrer Oberfläche
aufweisen und eine darauf aufgebrachte lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht. Die
Aluminiumoxidschicht wird durch einen Oxidationsvorgang, der im allgemeinen elektrochemisch
abläuft, hergestellt. Vor der Oxidation wird die Oberfläche des Aluminiumträgers gereinigt,
danach erfolgt ein Ätzvorgang, der die Oberfläche des Aluminiumträgers mit einer texturierten
Schicht versieht, wobei die Oberfläche des Trägers vergrößert wird, die ihrerseits
die Stärke der Bindung zwischen Träger und der Aufzeichnungsschicht bestimmt. Des
weiteren wird durch die texturierte Oberfläche die Wasserrückhaltung vergrößert.
[0004] Nachteilig ist bei den bekannten Verfahren zur Präparation der Träger von lithografischen
Druckplatten, daß sehr viel elektrische Energie für die Aufrauhung und die Oxidation
der Trägeroberfläche benötigt wird und die durch Ätzen erreichte Aufrauhung nur bei
verhältnismäßig niedrigen Geschwindigkeiten erfolgen kann. Ein weiterer Nachteil besteht
darin, daß die Aufbereitung der beim Anodisieren und beim Aufrauhen des Trägers anfallenden
Abfallprodukte kostenintensiv ist.
[0005] Zur Vermeidung dieser Nachteile ist es aus der DE-C 25 04 545 bekannt, ein Aluminiumsubstrat
einer lithografischen Druckplatte durch in-situ gebildetes Alumiumhydroxyoxid zu beschichten,
wobei die Beschichtung aus teilchenförmigem Material einer mittleren Teilchengröße
von 0,05 bis 3000 µm besteht und das teilchenförmige Material vor der in-situ-Bildung
des Aluminiumhydroxyoxids auf das Substrat aufgebracht wird. Das teilchenförmige Material
wird beispielsweise aus der Gruppe Titandioxid, Zinkoxid, γ-Eisen(III)oxid, Bariumtitanat,
Aluminiumoxid, Ceroxid und Zirkonoxid ausgewählt. An der Oberfläche des Aluminiumsubstrats
wird das teilchenförmige Material durch in-situ gebildetes Aluminiumhydroxyoxid gebunden.
Das Aluminiumhydroxyoxid wird dadurch gebildet, daß die mit dem teilchenförmigen Material
beschichtete Aluminiumoberfläche einer oxidierenden Umgebung ausgesetzt wird, die
Wasser enthält, wodurch die Oberfläche des Aluminiumsubstrats unter Bildung von hydratisiertem
Aluminiumoxid oxidiert wird, das in Form von Kristalliten um das teilchenförmige Material
herum unter Bildung einer Matrix wächst, die das teilchenförmige Material fest an
die Oberfläche des Aluminiumsubstrats bindet. Das teilchenförmige Material kann beispielsweise
auf die Oberfläche des Aluminiumsubstrats aufgestäubt und anschließend einer oxidierenden
Atmosphäre ausgesetzt werden. Ebenso kann das teilchenförmige Material auf das Aluminiumsubstrat
aus einer Dispersion des teilchenförmigen Materials in einem flüssigen Trägermittel
aufgebracht und anschließend der größte Teil des flüssigen Trägermittels oder das
gesamte flüssige Trägermittel verdampft werden. Geeignete flüssige Trägermittel sind
Wasser, niedere aliphatische Alkohole wie beispielsweise Methanol, Ethanol, Isopropanol,
n-Propanol, n-Butanol und Isobutanol, niedere aliphatische Keton, aliphatische Kohlenwasserstoffe
mit etwa 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, aromatische Kohlenwasserstoffe und Gemische dieser
Trägermittel.
[0006] Aus dieser Druckschrift ist es auch bekannt, den Wirkungsgrad des Bindeprozesses
durch Zusätze u.a. aus Natriumhydroxid, Natriumdicarbonat, Natriumacetat, Magnesiumoxid,
Kalziumoxid, Kalziumcarbonat, Bariumcarbonat, Magnesiumnitrat, Kalziumnitrat, Kalziumfluorid,
Bariumnitrat und Kalziumacetat zu erhöhen. Zur Herstellung der Beschichtung wird der
beschichtete Aluminiumträger im allgemeinen zuerst mit Wasser befeuchtet und anschließend
in einen offenen Kessel gebracht, in den Dampf unter Druck eingeleitet wird. Der Aluminiumträger
wird dem Dampf bei 100 °C beispielsweise 15 min ausgesetzt und dann getrocknet.
[0007] Aus der Druckschrift WO 94/05507 ist ein Verfahren bekannt, bei dem auf der Oberfläche
eines Trägers durch eine thermische Sprühtechnik oder durch Plasmasprühen Teilchen
aufgebracht werden, deren Partikelgröße von 2 µm bis 15 µm reicht. Bei dem aufzubringenden
Material handelt es sich beispielsweise um Aluminiumoxid Al
2O
3. Die thermische Sprühtechnik basiert auf einer Flammsprühung. Insbesondere wird ein
Verfahren unter Einsatz einer Plasmasprühtechnik bevorzugt, bei der in einer Atmosphäre
aus einem Inertgas, beispielsweise Wasserstoff, Stickstoff oder Argon, oder Mischungen
dieser oder anderer Gase, das Pulver aufgesprüht wird. Das Gas wird durch einen elektrischen
Lichtbogen erhitzt, beispielsweise auf zumindest 10
4 °C, insbesondere 2 · 10
4 °C. Insofern ist der Energieaufwand bei dieser Technik sehr hoch. Das gleiche gilt
für eine Flammsprühung, bei der das Trägermaterial im dichten Kontakt mit einem Materialblock
steht, der eine hohe thermische Masse hat und dementsprechend auf einer vorgegebenen
Temperatur gehalten wird.
[0008] Die EP-B-0 087 469 beschreibt ein Verfahren, bei dem auf einem Alumiumsubstrat eine
Keramikschicht gebildet wird, indem eine Aufschlämmung mindestens eines einbasischen
Phosphats und von nichtmetallischen anorganischen Teilchen auf der Oberfläche des
Aluminiumsubstrats aufgetragen wird und durch Brennen der Aufschlämmung bei einer
Temperatur von mindestens 230 °C auf dem Aluminiumsubstrat ein Keramiküberzug gebildet
wird. Danach wird die Keramikschicht mit einer lichtempfindlichen lithografischen
Schicht überzogen. Die Teilchen für die Aufschlämmung bestehen teilweise aus Metalloxidteilchen
mit durchschnittlichen Korngrößen von 0,001 bis 45 µm, wobei die Metalloxidteilchen
Aluminiumoxidteilchen sind. Die Keramikschicht enthält ein Reaktionsprodukt von Aluminiumoxid
mit einem einbasischen Phosphat und ein Reaktionsprodukt eines Metalloxids, das nicht
Aluminiumoxid ist, mit einem einbasischen Phosphat. Das ortho-Phosphat des Metalloxids
ist in einer wäßrigen Lösung mit einem pH-Wert von 6 bis 12 unlöslich.
[0009] Aufgabe der Erfindung ist es, ein Aufzeichnungsmaterial mit einer Keramikschicht
zu schaffen und ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Aufzeichnungsmaterials
anzugeben, das ohne großen Energieaufwand zu einer sehr guten und beständigen Haftung
der Keramikschicht auf dem Träger führt und darüber hinaus aus dem Aufzeichnungsmaterial
eine lithografische Druckplatte herzustellen, die eine hohe Druckauflage bei weitgehend
fehlendem Farbschleier sicherstellt.
[0010] Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß in der Weise gelöst, daß die Keramikschicht aus
einer Silikatverbindung und aus Aluminiumoxid mit zumindest 99,6 Gew.-% Aluminium
besteht, und daß die Keramikschicht mittels der Silikatverbindung als Bindemittel
auf dem Träger haftet.
[0011] In Ausgestaltung der Erfindung liegt die Teilchengröße des pulverisierten Aluminiumoxids
Al
2O
3 im Bereich von 0,20 bis 3 µm und ist das Aluminiumoxid zusammen mit dem Bindemittel
und Wasser als wäßrige Dispersion auf den Träger aufgebracht und mittels Wärme mit
diesem verbunden. In der Dispersion liegt die Partikelgrößen-Verteilung im Bereich
von 0,5 bis 15 µm, mit einer mittleren Partikelgröße von 4,5 µm.
[0012] Zweckmäßigerweise enthält das Aluminiumoxid neben 99,6 bis 99,8 Gew.-% Aluminium
0,2 bis 0,4 Gew.-% Na-, Si-, Fe-, Ca- und Mg-oxid.
[0013] In weiterer Ausgestaltung der Erfindung besteht die Keramikschicht aus Aluminiumoxid,
einer Titan- und einer Silikatverbindung. Die Titanverbindung ist bevorzugt TiO
2 und ihr Anteil beträgt 10 bis 90 Gew.-%, insbesondere 15 bis 30 Gew.-% der Keramikschicht.
Ebenso ist es möglich, daß die Keramikschicht aus Aluminiumoxid, einer Silizium- und
einer Silikatverbindung besteht. Geeignete weitere Verbindungen anstelle einer Titanverbindung
sind Zirkoniumoxid oder -hydroxid, Bor- oder Germaniumoxid.
[0014] Eine erfindungsgemäß geeignete Silikatverbindung ist ein Natriumsilikat in Form von
Natronwasserglas als Bindemittel, wobei der Feststoffgehalt einer wäßrigen Lösung
des Natronwasserglases 30 Gew.-% beträgt und 2 bis 4 Mol SiO
2 auf 1 Mol Natriumoxid Na
2O kommen.
[0015] Diese Siliziumverbindung ist zweckmäßigerweise SiO
2, ihr Anteil beträgt zusammen mit dem Anteil SiO
2 der Silikatverbindung 25 bis 80 Gew.-% und der Anteil von Na
2O aus der Silikatverbindung 5 bis 10 Gew.-% der Keramikschicht und der prozentuale
Anteil des Aluminiumoxids Al
2O
3 ergänzt die Gew.-% der Keramikschicht auf 100 Gew.-%. Andere geeignete Siliziumverbindungen
sind Alkylsilane, die während der Trocknung hydrolisiert werden, wodurch das Verfahren
schwieriger zu steuern ist.
[0016] In weiterer Ausgestaltung der Erfindung besteht die Keramikschicht aus Aluminiumoxid,
Titan-, Siliziumdioxid und einer Silikatverbindung, wobei die Gewichtsanteile des
Aluminiumoxids 35 bis 55 %, des Titan- als auch des Siliziumdioxids jeweils 15 bis
25 % der Keramikschicht betragen.
[0017] Das Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials zeichnet sich dadurch
aus, daß die wäßrige Dispersion aus Aluminiumoxid und einer Silikatverbindung allein
oder zusammen mit Titan- und/oder Siliziumdioxid über einen Fließer, eine Walze oder
eine Rakel auf den Träger angetragen wird und bei einer Temperatur von 150 bis 220
°C für 50 bis 80 sec getrocknet wird. Die Trocknungstemperatur kann auch schon bei
140 °C beginnen und bis 220 °C reichen. Die Trocknungszeit kann dann von 50 sec bis
120 sec dauern. Ein zweiter Trocknungsschritt kann sich anschließen.
[0018] Die Keramikschicht hat in einigen Fällen eine Dicke von 0,6 bis 10 µm und insbesondere
von 3,2 bis 20 µm.
[0019] Mit der Erfindung wird in überraschend einfacher Weise ein Aufzeichnungsmaterial
mit einem Keramiküberzug beschichtet, ohne daß ein hoher elektrischer Energieeinsatz
wie beim Plasmaspritzen, der thermischen Flammsprühung oder bei der Behandlung eines
Aufzeichnungsmaterials, das mit einer Titandioxiddispersion beschichtet ist, mit Dampf
unter Druck, erforderlich ist.
[0020] Bei der Erfindung erfolgt das Beschichten des Trägers mit einer Metalloxiddispersion
durch Fließer-, Walzen- oder Rakelbeschichtung, d.h. durch sehr energiearme konventionelle
Antragsverfahren. Auch die Temperaturen zum Trocken der aufgetragenen Dispersionsschicht
im Bereich von 140 °C bis 220°C erfordern relativ wenig elektrische Heizenergie. Dies
gilt auch für eine eventuelle Nachtrocknung bei einer Temperatur von 190 bis 280 °C
[0021] Das erfindungsgemäße Aufzeichungsmaterial besitzt eine hydrophile Keramikschicht,
die eine texturierte Oberfläche aufweist. Diese Keramikschicht ersetzt somit bei den
herkömmlichen Verfahren zur Herstellung eines für Druckplatten geeigneten Aufzeichnungsmaterials
die Verfahrensschritte des üblichen elektrochemischen Aufrauhens und der anschließenden
Anodisierung der Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials. Diese beiden Verfahrensschritte
sind sehr energieintensiv und verursachen darüber hinaus noch Abfallprodukte, die
entsprechend aufgearbeitet werden müssen, bevor sie deponiert werden können.
[0022] Die Erfindung wird im folgenden näher beschrieben:
[0023] Die Träger aus Metall wie Aluminium, Stahl, Messing oder Kupfer können vor der Beschichtung
im allgemeinen bei Zimmertemperatur über 60 bis 120 sec mit einer Mischung aus Natriumhydroxid
als Hauptbestandteil, Natriumphosphat und einem Netzmittel gebeizt (Produktbezeichnung
GRISAL der Fa. Messer-Griesheim) und anschließend mit vollentsalztem Wasser gespült
werden. Danach werden die Träger mit einer wäßrigen Dispersion aus Aluminiumoxid Al
2O
3 und einer Silikatverbindung, wie z. B. Wasserglas, beschichtet. Bei Wasserglas handelt
es sich um wasserlösliche Kalium- und Natriumsilikate, d.h. Salze von Kieselsäuren,
oder deren viskosewäßrigen Lösungen. Bei Wasserglas kommen 2 bis 4 Mole SiO
2 auf 1 Mol Alkalioxid, so daß die Natron- und Kaliwassergläser üblicherweise durch
das Masse- oder Molverhältnis SiO
2 zu Alkalioxid sowie die Dichte der wäßrigen Lösung charakterisiert werden. Bevorzugt
liegt das Molverhältnis SiO
2 zu Na
2O des Natronwasserglases im Bereich von 3,0 zu 3,5 und beträgt insbesondere 3,4. Wegen
der Hydrolyse enthalten sie in der Hauptsache hydrogene Salze wie M
3HSiO
4, M
2H
2SiO
4 und MH
3SiO
4 mit M = Kalium oder Natrium. Bei der Erfindung werden bevorzugt Träger aus Aluminium
und als Bindemittel für die Keramikschicht in der wäßrigen Dispersion Natronwasserglas
verwendet. Der Anteil des Aluminiumoxids Al
2O
3 in der wäßrigen Dispersion liegt bei 19 bis 28 Gew.-%, insbesondere bei 26 %. Die
Teilchengröße des pulverisierten Aluminiumoxids Al
2O
3 liegt im Bereich von 0,20 bis 3 µm und die wäßrige Dispersion aus dem Aluminiumoxid,
dem Wasserglas und vollentsalztem Wasser wird mittels Wärme mit dem Träger verbunden.
In einem ersten Trocknungsschritt beträgt die Temperatur 140 bis 220 °C, wobei die
Dauer der Trocknung zwischen 50 bis 120 sec liegt. Der Auftrag der wäßrigen Dispersion
erfolgt mit Hilfe eines Fließers, einer Walze oder einer Rakel. Nach dem möglichen
zweiten Trocknungsschritt mit Temperaturen von 190 °C bis 280 °C wird eine abriebfeste
Keramikschicht erhalten, die eine Struktur mit Partikelgrößen von 0,5 bis 15 µm Durchmesser,
insbesondere 4,5 µm aufweist und eine Dicke von etwa 3,20 bis 20 µm besitzt. Auf diese
Keramikschicht aus Al
2O
3 und einer Silikatverbindung wird eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen.
Beispiele 1 - 10
[0024] In der nachfolgenden Tabelle 1 sind die Bestandteile der wäßrigen Dispersion aus
Aluminiumoxid, Natronwasserglas, VE-Wasser gewichtsmäßig für verschiedene Beispiele
zusammengestellt. Die Tabelle 1 enthält des weiteren Angaben zur Druckauflage, dem
Farbschleier und den Temperaturen bei dem 1. und 2. Trocknungsschritt der Druckplatten,
die mit einer Keramikschicht beschichtet sind, die mittels der angeführten Dispersionen
hergestellt wurden. Der Feststoffgehalt des Natronwasserglases beträgt 30 %, d.h.
100 g Natronwasserglas enthalten 30 g Feststoff Natronwasserglas. Das Molverhältnis
der Oxidanteile des Natronwasserglases betrug bei den Dispersionen 3,4, d.h. von 30
g Feststoffanteil sind 23,2 g SiO
2 und 6,8 g Na
2O, wie aus der Beziehung SiO
2 : Na
2O = 3,4 : 1 folgt.
[0025] Aus den Beispielen 1 und 2 einerseits und 3 bis 10 andererseits wurde die prozentuale
Zusammensetzung der Bestandteile der Keramikschicht berechnet, mit der Annahme, daß
nach dem 2. Trocknungsschritt nur noch die Feststoffanteile des Natronwasserglases,
nämlich SiO
2 und Na
2O und das Aluminiumoxid Al
2O
3 in der Keramikschicht enthalten sind. Mit einem Feststoffanteil von 30 g an Natronwasserglas
und einem Al
2O
3-Anteil von 43,5 g bis 58,8 g ergibt sich eine prozentuale Zusammensetzung der Keramikschicht
mit SiO
2 im Bereich von 59,2 bis 66,2 Gew.-%, Na
2O im Bereich von 7,7 bis 9,5 Gew.-% und Al
2O
3 im Bereich von 59,2 bis 66,2 Gew.-%. Weiterführende Untersuchungen mit einem höheren
Anteil an Natronwasserglas, bei gleichem Anteil an Al
2O
3 in den Beispielen 1 bis 10 zeigen, daß ein Al
2O
3-Anteil von 45 Gew.-% an der Keramikschicht deren Druckqualitäten weitgehend unverändert
lassen.

[0026] Das Aluminiumoxid Al
2O
3 besteht zu 99,6 bis 99,8 Gew.-% aus reinem Aluminium und enthält daneben noch Na-,
Si-, Fe-, Ca- und Mg-oxide, die insgesamt 0,20 bis 0,4 Gew.-% ausmachen. Die wäßrige
Dispersion aus Aluminiumoxid Al
2O
3 wird durch Vermahlen eines Gemisches aus pulverisertem Aluminiumoxid, Natronwasserglas
und vollentsalztem Wasser in einer Kugelmühle oder mittels Dispergierscheiben erhalten.
[0027] Bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung besteht die Keramikschicht aus Siliziumdioxid
und einer Titanverbindung, bei der es sich beispielsweise um TiO
2 handelt. Der Anteil von Titandioxid liegt im Bereich von 10 bis 90 Gew.-%, insbesondere
von 15 bis 30 Gew.-% der Keramikschicht.
[0028] Zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials mit einem niedrigen Titandioxidanteil
wird eine wäßrige Dispersion verwendet, die beispielsweise 18 Gew.-% SiO
2, 6 Gew.-% TiO
2, 50 Gew.-% Wasserglas, 25 Gew.-% vollentsalztes Wasser und 1 Gew.-% Zusätze enthält.
Durch das Einarbeiten verschiedener Zusätze in die Dispersion kann der Wirkungsgrad
des Bindeprozesses auf dem Träger erhöht werden. Diese Zusätze sind dann von Vorteil,
wenn die Keramikschicht eine größere Dicke bis zu 20 µm haben soll. Derartige Zusätze
sind jedoch keineswegs zwingend erforderlich, da die Haftung der Keramikschicht auch
ohne derartige Zusätze voll ausreichend ist. Bei diesen Zusätzen handelt es sich beispielsweise
um Fluorkohlenwasserstoff-Verbindungen wie Polyvinylidenfluorid oder um ein Copolymer
aus Vinylchlorid-Vinyl-iso-butylether. In dem voranstehend angeführten Beispiel erhöht
sich der Anteil des Wassers in der Dispersion um 1 %, falls ohne Zusätze die Dispersion
aufbereitet wird.
[0029] In einerweiteren Ausführungsform der Erfindung besteht die Keramikschicht aus Aluminiumoxid,
einer Siliziumverbindung, bei der es sich beispielsweise um SiO
2 handelt, und einer Silikatverbindung. Der Anteil der Siliziumverbindung an der Keramikschicht
zusammen mit dem Anteil SiO
2 der Silikatverbindung beträgt 25 bis 80 Gew.-%. Der Anteil von Natriumoxid Na
2O an der Silikatverbindung macht 5 bis 10 Gew.-% der Keramikschicht aus. Der Anteil
des Aluminiumoxids bildet den Rest der Keramikschicht. Zur Herstellung einer derartigen
Keramikschicht wird eine Dispersion beispielsweise aus 35 bis 48 Gew.-% Natronwasserglas,
14 bis 17 Gew.-% Aluminiumoxid Al
2O
3, 6 Gew.-% Siliziumdioxid SiO
2 und 32 bis 42 Gew.-% vollentsalztes Wasser auf den Träger aufgetragen.
Beispiele 11 bis 25
[0030] In Tabelle 2 sind die Bestandteile der wäßrigen Dispersion aus Titandioxid TiO
2, Siliziumdixoid SiO
2, Natronwasserglas, VE-Wasser und verschiedener Zusätze wie Phosphorsäure, Polyvinylidenfluorid,
Vinylchlorid-Vinylisobutylether, Hydroxymethylcellulose zusammengestellt. Tabelle
2 enthält des weiteren Angaben zur Druckauflage, dem Farbschleier und den Temperaturen
bei dem 1. und 2. Trocknungsschritt. Ansonsten gelten die im Zusammenhang mit den
Beispielen 1 bis 10 gemachten Ausführungen zu dem Feststoffanteil des Natronwasserglases
und dem Molverhältnis von SiO
2 zu Na
2O des Natronwasserglases.
[0031] Aus den Beispielen 12 bis 14 einerseits und dem Beispiel 16 andererseits wurde die
prozentuale Zusammensetzung der Bestandteile der Keramikschicht bestimmt, mit der
Annahme, daß nach dem 2. Trocknungsschritt folgende Bestandteile in der Keramikschicht
enthalten sind: SiO
2 und Na
2O als Feststoffanteile des Natronwasserglases, SiO
2, das als Kieselsäure und Diatomeen in der Dispersion vorhanden war und Titandioxid.
Mit einem Feststoffanteil von 50 g an Natronwasserglas, 48 bis 72,7 g SiO
2 und 18 bis 27,3 g Titandioxid TiO
2 lautet die prozentuale Zusammensetzung: Fluorad 0,1 bis 0,2 Gew.-%, SiO
2 74 bis 75 Gew.-%, Na
2O 7,6 bis 9,8 Gew.-%, TiO
2 15,5 bis 18,2 Gew.-%.
Tabelle 2a
| (Beispiele 11 bis 18) |
| Dispersionsbestandteile (g) |
Produktname |
Beispiele |
| |
|
11 |
12 |
13 |
14 |
15 |
16 |
17 |
18 |
| Phosphorsäure |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
| Netzmittel |
Fluorad FC98 |
0,167 |
0,167 |
0,167 |
0,167 |
0,167 |
0,167 |
|
|
| Natronwasserglas |
|
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
| Kieselsäure SiO2 |
Cab-O-Sil M5 |
3 |
3 |
|
|
|
4,5 |
|
|
| Kieselsäure SiO2 |
Gasil 114 |
|
|
3 |
|
|
|
|
65,1 |
| Kieselsäure SiO2 |
HP 250 |
|
|
|
3 |
|
|
|
|
| Titandioxid TiO2 |
|
18 |
18 |
18 |
18 |
18 |
27,3 |
|
|
| Diatomeen SiO2 |
Celite White Snow Floss |
45 |
45 |
45 |
45 |
45 |
68,2 |
65,25 |
|
| Polyvinylidenfluorid |
Vidar 1002 |
3 |
|
|
|
|
|
|
|
| Copolymer Vinylchlorid/-Vinylisobutylether |
Hostaflex CM620 |
|
|
|
|
|
|
|
|
| Hydroxymethylcellulose |
Tylose C10000 |
|
|
|
|
|
|
|
|
| VE-Wasser |
|
120 |
120 |
120 |
120 |
100 |
179,6 |
118,35 |
208,5 |
| Gesamt |
|
339 |
336 |
336 |
336 |
313 |
429,6 |
333,6 |
423,6 |
| Druckauflage |
|
190 000 |
5 000 |
10 000 |
10 000 |
20 000 |
13 000 |
40 000 |
40 000 |
| Farbschleier |
|
O |
O |
+ |
O |
O |
O |
O |
O |
| 1. Trocknung 60 s |
|
190° |
190° |
190° |
190° |
190° |
190° |
190° |
190° |
| 2. Trocknung 60 s (max. 280 °C) |
|
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
270 |
| O = kein Farbschleier, |
| + = sehr geringer Farbschleier |
Tabelle 2b
| (Beispiele 19 - 25) |
| Dispersionsbestandteile (g) |
Produktname |
Beispiele |
| |
|
19 |
20 |
21 |
22 |
23 |
24 |
25 |
| Phosphorsäure |
|
|
3,85 |
6 |
6 |
6 |
6 |
6 |
| Netzmittel |
Fluorad FC98 |
0,167 |
0,167 |
0,167 |
|
0,167 |
0,167 |
0,167 |
| Natronwasserglas |
|
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
150 |
| Kieselsäure SiO2 |
Cab-O-Sil M5 |
3 |
3 |
3 |
3,15 |
3,15 |
|
3 |
| Kieselsäure SiO2 |
Gasil 114 |
|
|
|
|
|
|
|
| Kieselsäure SiO2 |
HP 250 |
|
|
|
|
|
|
|
| Titandioxid TiO2 |
|
18 |
18 |
18 |
18,81 |
18,81 |
18,81 |
18 |
| Diatomeen SiO2 |
Celite White Snow Floss |
45 |
45 |
45 |
47,04 |
47,04 |
47,04 |
45 |
| Polyvinylidenfluorid |
Vidar 1002 |
3 |
|
3 |
|
|
3,15 |
|
| Copolymer Vinylchlorid/-Vinylisobutylether |
Hostaflex CM620 |
|
|
|
|
|
|
3 |
| Hydroxymethylcellulose |
Tylose C10000 |
2,4 |
|
|
|
|
|
|
| VE-Wasser |
|
255 |
182,5 |
210 |
185,1 |
185,1 |
185,1 |
185,1 |
| Gesamt |
|
476,4 |
398,5 |
429 |
404,1 |
404,1 |
404,1 |
404,1 |
| Druckauflage |
|
22 500 |
10 000 |
130 000 |
50 000 |
40 000 |
80 000 |
110 000 |
| Farbschleier |
|
+ |
+ |
O |
+ |
O |
O |
+ |
| 1. Trocknung 60 s |
|
190° |
220° |
190° |
190° |
190° |
190° |
190° |
| 2. Trocknung 60 s (max. 280 °C) |
|
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
270° |
| O = kein Farbschleier, |
| + = sehr geringer Farbschleier |
[0032] In einer anderen Ausführungsform der Erfindung besteht die Keramikschicht des Aufzeichnungsmaterials
aus Aluminiumoxid, Titan- und Siliziumdioxid und einer Silikatverbindung. Dabei betragen
die Anteile des Aluminiumoxids 35 bis 55 Gew.-%, die des Titandioxids als auch des
Siliziumdioxids 15 bis 25 Gew.-% und der Anteil des Natriumoxids Na
2O aus der Silikatverbindung 5 bis 8 Gew.-%.
[0033] Wie schon erwähnt, kann durch Einarbeiten verschiedener Zusätze in die Dispersion
bzw. in das Natronwasserglas die Bindungswirkung der Dispersion auf dem Träger erhöht
werden. Zu diesen Zusätzen gehören u.a. Celluloseverbindungen wie Hydroxymethylcellulose
(Produktname Tylose C10000), die als Stabilisator wirken. Im allgemeinen liegt das
Verhältnis zwischen der Menge an Natronwasserglas und dem Stabilisator im Bereich
von 1,5 : 1 bis 4 : 1.
[0034] Ein anderer Stabilisator, der dem Natronwasserglas hinzugefügt werden kann, wird
aus der Gruppe Silikonharz-Emulsionen, Phenylmethylpolysiloxanharzlösungen, modifizierte
Acrylpolymere, Xylol, Propylenglykol, Entschäumer auf der Basis von Mineralölen und
Polysiloxanen ausgewählt.
[0035] Ebenso können Tenside und Netzmittel den Dispersionen hinzugefügt werden. Die Netzmittel
sind beispielsweise auf Basis perfluorierter Carbonsäuren aufgebaut (Fluorad® FC98).
1. Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf einer Oberfläche des Trägers
aufgebrachten Keramikschicht sowie einer lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet,
daß die Keramikschicht aus einer Silikatverbindung und Aluminiumoxid mit zumindest
99,6 Gew.-% Aluminium besteht, und daß die Keramikschicht mittels der Silikatverbindung
als Bindemittel auf dem Träger haftet.
2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchengröße
des pulverisierten Aluminiumoxids Al2O3 im Bereich von 0,20 bis 3 µm liegt und daß das Aluminiumoxid zusammen mit dem Bindemittel
und Wasser als wäßrige Dispersion auf dem Träger aufgebracht und mittels Wärme mit
diesem verbunden ist.
3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aluminiumoxid
neben 99,6 bis 99,8 Gew.-% Aluminium Na-, Si-, Fe-, Ca- und Mg-oxid enthält.
4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikschicht
aus Aluminiumoxid, einer Titan- und einer Silikatverbindung besteht.
5. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Titanverbindung
TiO2 ist und ihr Anteil 10 bis 90 Gew.-%, insbesondere 15 bis 30 Gew.-% der Keramikschicht
beträgt.
6. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikschicht
aus Aluminiumoxid, einer Silizium- und einer Silikatverbindung besteht.
7. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Silikatverbindung
ein Natriumsilikat in Form von Natronwasserglas als Bindemittel ist, wobei der Feststoffanteil
einer wäßrigen Lösung des Natronwasserglases 30 Gew.-% beträgt und daß 2 bis 4 Mol
SiO2 auf 1 Mol Natriumoxid Na2O kommen.
8. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Molverhältnis
SiO2 zu Na2O 3,0 bis 3,5, insbesondere 3,4 beträgt.
9. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliziumverbindung
SiO2 ist, daß ihr Anteil zusammen mit dem Anteil SiO2 der Silikatverbindung 25 bis 80 Gew.-% und der Anteil von Na2O aus der Silikatverbindung 5 bis 10 Gew.-% der Keramikschicht betragen und daß der
prozentuale Anteil des Aluminiumoxids Al2O3 diese Gew.-% der Keramikschicht auf 100 Gew.-% ergänzt.
10. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikschicht
eine Fluorkohlenwasserstoff-Verbindung mit einem Anteil von bis zu 1 Gew.-% enthält.
11. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Fluorkohlenwasserstoff-Verbindung
Polyvinylidenfluorid ist.
12. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikschicht
ein Copolymer des Vinylchlorid-vinylisobutylether enthält.
13. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikschicht
aus Aluminiumoxid-, Titan-, Siliziumdioxid und einer Silikatverbindung besteht.
14. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Gewichtsanteile
des Aluminiumoxids 35 bis 55 %, des Titan- als auch des Siliziumdioxids jeweils 15
bis 25 % und der Anteil des Natriumoxids Na2O aus der Silikatverbindung 5 bis 8 % der Keramikschicht betragen.
15. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Stabilisator
dem Natronwasserglas eine Celluloseverbindung wie Hydroxymethylcellulose im Verhältnis
1,5 : 1 bis 4 : 1 zugesetzt ist.
16. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Dispersion
0,25 bis 5 Gew.-% Zusätze, ausgewählt aus der Gruppe Silikonharz-Emulsionen, Phenylmethylpolysiloxanharz-Lösungen,
modifizierte Acrylcopolymere, Xylol, Propylenglykol, Entschäumer auf der Basis von
Mineralölen und Polysiloxanen, enthält.
17. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger ein
Metall oder dessen Legierungen aus der Gruppe Aluminium, Stahl, Messing, Kupfer ist.
18. Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schichtdicke der Keramikschicht 3,2 bis 20 µm beträgt.
19. Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials nach einem oder mehreren der
Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Dispersion aus Aluminiumoxid
und einer Silikatverbindung allein oder zusammen mit Titan- und/oder Siliziumdioxid
über einen Fließer, eine Walze oder eine Rakel auf dem Träger angetragen wird und
bei einer Temperatur von 150 °C bis 220 °C für 50 bis 80 s getrocknet wird.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer Temperatur von 140
° bis 220 °C für 50 bis 120 s getrocknet wird.
21. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß eine Nachtrocknung bei einer
Temperatur von 190 bis 280 °C stattfindet.
22. Verwendung des Aufzeichnungsmaterials nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
18 zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.