(19)
(11) EP 1 105 703 A1

(12)

(43) Date of publication:
13.06.2001 Bulletin 2001/24

(21) Application number: 99918803.0

(22) Date of filing: 23.04.1999
(51) International Patent Classification (IPC)7: G01J 3/00, G01J 3/44
(86) International application number:
PCT/US9908/894
(87) International publication number:
WO 9954/694 (28.10.1999 Gazette 1999/43)
(84) Designated Contracting States:
AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

(30) Priority: 23.04.1998 US 65203
23.04.1998 US 64966
23.04.1998 US 65245
23.04.1998 US 65006
23.04.1998 US 65359
23.04.1998 US 64793
23.04.1998 US 64957
23.04.1998 US 65680
23.04.1998 US 64991
23.04.1998 US 65257
23.04.1998 US 65307
23.04.1998 US 65274
23.04.1998 US 64970
23.04.1998 US 65247
23.04.1998 US 64965
23.04.1998 US 65195
23.04.1998 US 65362
23.04.1998 US 64972
23.04.1998 US 65358

(71) Applicant: Sandia Corporation
Albuquerque,New Mexico 87185-0161 (US)

(72) Inventors:
  • SMITH, Michael, Lane, Jr.
    Albuquerque, NM 87111 (US)
  • STEVENSON, Joel, O'Don
    Albuquerque, NM 87111 (US)
  • WARD, Pamela, Denise, Peardon
    Rio Rancho, NM 87124 (US)

(74) Representative: Mallalieu, Catherine Louise et al
D. Young & Co.,21 New Fetter Lane
London EC4A 1DA
London EC4A 1DA (GB)

   


(54) METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING PLASMA PROCESSING OPERATIONS