(19)
(11) EP 1 123 560 A2

(12)

(88) Veröffentlichungstag A3:
05.04.2001

(43) Veröffentlichungstag:
16.08.2001  Patentblatt  2001/33

(21) Anmeldenummer: 00940151.4

(22) Anmeldetag:  26.04.2000
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)7: H01L 21/00, C23C 16/458
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/DE0001/312
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 0067/311 (09.11.2000 Gazette  2000/45)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

(30) Priorität: 30.04.1999 DE 19919902

(71) Anmelder: AIXTRON Aktiengesellschaft
52072 Aachen (DE)

(72) Erfinder:
  • SCHMITZ, Dietmar
    D-52072 Aachen (DE)
  • KAEPPELER, Johannes
    D-52146 Würselen (DE)
  • STRAUCH, Gert
    D-52072 Aachen (DE)
  • JÜRGENSEN, Holger
    D-52072 Aachen (DE)
  • HEUKEN, Michael
    D-52078 Aachen (DE)

(74) Vertreter: Münich, Wilhelm, Dr. 
Dr. Münich & KollegenAnwaltskanzleiWilhelm-Mayr-Strasse 11
80689 München
80689 München (DE)

   


(54) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES WAFERTRÄGERS IN EINEM HOCHTEMPERATUR-CVD-REAKTOR