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(11) | EP 1 143 031 A3 |
| (12) | EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG |
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| (54) | Plasmaborierung |
| (57) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Boridschicht
auf einer Oberfläche durch Plasmaborieren, wobei man einem Reaktor (10) ein ein Borspendermedium
enthaltendes Gasmedium zuführt und in dem Reaktor (10) eine Glimmentladung erzeugt.
Bekannte Verfahren zum Plasmaborieren von z. B. metallischen Oberflächen haben den
Nachteil, daß sie nicht zu porenfreien Boridschichten führen und eignen sich daher
nicht für industrielle Serienanwendungen. Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis,
daß man die Parameter der Erzeugung des in einem Behandlungsraum (11) des Reaktors
(10) erzeugten Plasmas so wählen muß, daß man einen erhöhten Anteil an angeregten
Borpartikeln im Plasma erhält. Man gelangt so zu porenfreien Boridschichten. Die Plasmaborierung
eignet sich z. B. zur Beschichtung von Bauteilen, die eine Oberfläche mit hoher Verschleißfestigkeit
aufweisen müssen, da sie einer erhöhten Beanspruchung ausgesetzt sind, z. B. Zahnräder,
Nockenwellen und dergleichen. Erfindungsgemäß verwendet man eine Vorrichtung mit einem
Plasmagenerator, der eine gepulste Gleichspannung mit einer veränderbaren Pulsbreite
und/oder Pulspause liefert. |