| (84) |
Benannte Vertragsstaaten: |
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AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE |
| (30) |
Priorität: |
22.12.1998 DE 19859502
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| (43) |
Veröffentlichungstag der Anmeldung: |
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17.10.2001 Patentblatt 2001/42 |
| (73) |
Patentinhaber: SiCED Electronics Development GmbH & Co KG |
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91058 Erlangen (DE) |
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| (72) |
Erfinder: |
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- TIHANYI, Jenö
D-85551 Kirchheim (DE)
- MITLEHNER, Heinz
D-91080 Uttenreuth (DE)
- STEPHANI, Dietrich
D-91088 Bubenreuth (DE)
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| (74) |
Vertreter: Maier, Daniel Oliver et al |
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Siemens AG
CT IP Com E
Postfach 22 16 34 80506 München 80506 München (DE) |
| (56) |
Entgegenhaltungen: :
EP-A- 0 732 734 DE-A- 4 309 764
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WO-A-98/49733 US-A- 5 323 040
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- SHENOY P M ET AL: "A NOVEL P+ POLYSILICON/N-SIC HETEROJUNCTION TRENCH GATE VERTICAL
FET" IEEE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON POWER SEMICONDUCTOR DEVICES AND ICS,US,NEW YORK,
NY: IEEE, Bd. CONF. 9, 1997, Seiten 365-368, XP000800222 ISBN: 0-7803-3994-0
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