VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FREITRAGENDEN MIKROSTRUKTUREN, VON DÜNNEN FLACHTEILEN ODER VON MEMBRANEN UND VERWENDUNG NACH DIESEM VERFAHREN HERGESTELLTER MIKROSTRUKTUREN ALS WIDERSTANDSGITTER IN EINER EINRICHTUNG ZUR MESSUNG SCHWACHER GASSTRÖMUNGEN - Patent 1181239

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EP 1 181 239 A1

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(43)	Veröffentlichungstag:
	27.02.2002 Patentblatt 2002/09

(21)	Anmeldenummer: 00920411.6

(22)	Anmeldetag: 23.03.2000

(51)	Internationale Patentklassifikation (IPC)⁷: B81C 1/00, G01F 1/69

(86)	Internationale Anmeldenummer:
	PCT/DE0000/890

(87)	Internationale Veröffentlichungsnummer:
	WO 0059/824 (12.10.2000 Gazette 2000/41)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

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Priorität:

31.03.1999 DE 19914712

(71)	Anmelder: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
	80333 München (DE)

(72)	Erfinder:
	TRAUSCH, Günter, Elmar D-81477 München (DE)

(54)	VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FREITRAGENDEN MIKROSTRUKTUREN, VON DÜNNEN FLACHTEILEN ODER VON MEMBRANEN UND VERWENDUNG NACH DIESEM VERFAHREN HERGESTELLTER MIKROSTRUKTUREN ALS WIDERSTANDSGITTER IN EINER EINRICHTUNG ZUR MESSUNG SCHWACHER GASSTRÖMUNGEN