Reinigungsmittel und Verwendung des Reinigungsmittels

Beschreibung

[0001] Die Erfindung betrifft ein Reinigungsmittel zur Entfernung von Verunreinigungen von Oberflächen. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Verwendung des erfindungsgemäßen Reinigungsmittels.

[0002] Mit den aus der Praxis bekannten Reinigungsmitteln ist es bislang nicht oder nur schwierig möglich, siliciumhaltige Verunreinigungen von Oberflächen vollständig zu entfernen. Siliciumhaltige Verunreinigungen meint dabei insbesondere silikathaltige Verunreinigungen wie Wasserglasrückstände oder Rückstände von Silikatfarben, Silikatputzen und Silikatmörteln oder Verunreinigungen aus Mischungen der vorgenannten Stoffe. Wenn kritische Oberflächen wie glasierte und unglasierte keramische Beläge oder Glasoberflächen die genannten silikathaltigen Verunreinigungen aufweisen, müssen diese innerhalb einer kurzen Zeitspanne vollständig entfernt werden. Diese genannte Zeitspanne entspricht normalerweise der Aushärtungsphase von silikathaltigen Stoffen, die in der Regel nur wenige Stunden beträgt. Wenn innerhalb dieser Zeitspanne eine vollständige Reinigung der Oberflächen nicht erfolgt, können die Verunreinigungen anschließend nur noch mechanisch entfernt werden. Dies hat oftmals zumindest eine teilweise Zerstörung der Oberfläche bzw. des Untergrundes zur Folge.

[0003] Demgegenüber liegt der Erfindung das technische Problem zugrunde, ein Reinigungsmittel der eingangs genannten Art anzugeben, mit dem Verunreinigungen auch nach längeren Zeitspannen noch problemlos von Oberflächen entfernt werden können.

[0004] Zur Lösung dieses technischen Problems lehrt die Erfindung ein Reinigungsmittel zur Entfernung von Verunreinigungen von Oberflächen,
wobei Salzsäure sowie 1 bis 45 Gew.-% zumindest einer organischen Säure enthalten sind,
wobei das Reinigungsmittel außerdem 0,02 bis 2 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 2 Gew.-% zumindest eines Tensides aufweist,
und wobei fernerhin Wasser in dem Reinigungsmittel enthalten ist. - Die hier angegebenen Gew.-%-Angaben beziehen sich auf die Gesamtmischung, die das Reinigungsmittel bildet. Die Gew.-%-Anteile aller Komponenten dieser Gesamtmischung bzw. aller Komponenten des Reinigungsmittels addieren sich somit zu 100 Gew.-%.

[0005] Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel silikathaltige Verunreinigungen von Oberflächen auf sehr einfache und zugleich effektive Weise entfernt werden können. Diese Entfernung der Verunreinigungen mit dem Reinigungsmittel ist auch nach langen Zeitspannen noch problemlos möglich. Mit anderen Worten muss die Reinigung nicht zwingend vor dem Ende der Aushärtungsphase von beispielsweise Wasserglasrückständen, Silikatfarben, Silikatputzen oder Silikatmörteln vorgenommen werden. Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel eignet sich insbesondere zur Entfernung von silikathaltigen Rückständen an empfindlichen bzw. kritischen Oberflächen wie Fliesen oder Glasoberflächen.

[0006] Nach einer Ausführung s form der Erfindung beträgt die Gesamtkonzentration der Salzsäure in dem Reinigungsmittel 0,5 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 4,5 Gew.-%, bevorzugt 0,5 bis 3 Gew.-%. Das heißt, die wässrige Lösung des Reinigungsmittel entspricht vom Salzsäuregehalt her eine 0,5 bis 5 Gew.-%igen, vorzugsweise einer 0,5 bis 4,5 Gew.-%igen, bevorzugt einer 0,5 bis 3 Gew.-%igen Salzsäure. - Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist Salzsäure in einer Konzentration enthalten, die einem Gehalt von 2 bis 30 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure, vorzugsweise 2,5 bis 25 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure entspricht. Vorzugsweise kann zur Herstellung des Reinigungsmittels unmittelbar 30 Gew.-%ige Salzsäure verwendet werden und dann enthält das Reinigungsmittel zweckmäßigerweise 2 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 2,5 bis 25 Gew.-% dieser 30 Gew.-%igen Salzsäure. Wenn zu der Herstellung des erfindungsgemäßen Reinigungsmittels Salzsäure einer anderen Konzentration verwendet wird, ist vorzugsweise deren Menge so zu wählen, dass in dem Reinigungsmittel eine Konzentration erzielt wird, wie sie im Patentanspruch 2 beansprucht ist. Es liegt im Rahmen der Erfindung, dass in dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel Salzsäure in einer Konzentration enthalten ist, die einem Gehalt von 2,5 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 2,5 bis 15 Gew.-%, bevorzugt 2,5 bis 12 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure entspricht. Es liegt fernerhin im Rahmen der Erfindung, dass das Reinigungsmittel Salzsäure in einer Konzentration enthält, die einem Gehalt von 2,5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 7 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure entspricht. Nach einer sehr bevorzugten Ausführungsform der Erfindung enthält das Reinigungsmittel Salzsäure in einer Konzentration, die einem Gehalt von etwa 5 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure entspricht.

[0007] Nach bevorzugter Ausführungsform, der im Rahmen der Erfindung ganz besondere Bedeutung zukommt, ist in dem Reinigungsmittel zumindest eine organische Säure aus der Gruppe "Monocarbonsäure, Dicarbonsäure, Hydroxysäure" enthalten. Monocarbonsäure meint eine Carbonsäure mit nur einer Carboxylgruppe und Dicarbonsäure meint eine Carbonsäure mit zwei Carboxylgruppen. Eine Hydroxysäure enthält neben zumindest einer Carboxylgruppe noch eine oder mehrere Hydroxylgruppen.

[0008] Vorzugsweise ist in dem Reinigungsmittel zumindest eine organische Säure aus der Gruppe "Ameisensäure, Essigsäure, Oxalsäure, Milchsäure, Weinsäure, Zitronensäure" enthalten. Nach sehr bevorzugter Ausführungsform der Erfindung ist in dem Reinigungsmittel zumindest eine Hydroxysäure enthalten. Dabei handelt es sich zweckmäßigerweise um eine Säure aus der Gruppe "Milchsäure, Weinsäure, Zitronensäure". Nach sehr bevorzugter Ausführungsform, der im Rahmen der Erfindung ganz besondere Bedeutung zukommt, wird in dem Reinigungsmittel Zitronensäure als organische Säure eingesetzt. Insoweit liegt es im Rahmen der Erfindung, dass das erfindungsgemäße Reinigungsmittel nur eine einzige organische Säure enthält.

[0009] Zweckmäßigerweise sind in dem Reinigungsmittel 2 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 5 bis 35 Gew.-% der organischen Säure enthalten. Es liegt im Rahmen der Erfindung, dass das Reinigungsmittel 10 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 12 bis 28 Gew.-%, bevorzugt 15 bis 25 Gew.-%, sehr bevorzugt 17 bis 23 Gew.-% der organischen Säure enthält.

[0010] Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung sind in dem Reinigungsmittel 0,03 bis 1 Gew.-%, vorzugsweise 0,03 bis 0,5 Gew.-% des Tensides enthalten sind. Zweckmäßigerweise beträgt der Gehalt des Tensides in dem Reinigungsmittel 0,04 bis 0,3 Gew.-%, bevorzugt 0,05 bis 0,15 Gew.-%. Nach einer sehr bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind etwa 0,1 Gew.-% des Tensides in dem Reinigungsmittel enthalten.

[0011] Zweckmäßigerweise wird für das erfindungsgemäße Reinigungsmittel ein Tensid verwendet, dass eine gute Alkaliverträglichkeit und Elektrolytverträglichkeit aufweist. Das erfindungsgemäß eingesetzte Tensid soll insbesondere mit Wasserglas verträglich sein. Vorzugsweise weist das in dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel enthaltene Tensid einen hohen hydrophilen Anteil in der Molekülkette auf. Insoweit liegt es im Rahmen der Erfindung, ein Tensid auf Basis kurzkettiger Fettalkohole zu verwenden. - Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung ist das Tensid ein nichtionisches und/oder ein anionisches Tensid. Nach sehr bevorzugter Ausführungsform, der im Rahmen der Erfindung ganz besondere Bedeutung zukommt, wird in dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel ein nichtionisches Tensid eingesetzt. Vorzugsweise ist in dem Reinigungsmittel zumindest ein nichtionisches Tensid aus der Gruppe "Alkylphenoxylat, Alkylpolyglykosid" enthalten. Es liegt im Rahmen der Erfindung, dass zumindest ein Alkylphenoxylat und/oder zumindest ein Alkylpolyglykosid auf Basis von Fettalkoholen eingesetzt wird, die vorzugsweise 8 bis 10 Kohlenstoffatome aufweisen.

[0012] Zweckmäßigerweise sind in dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel 50 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 92 Gew.-% Wasser enthalten. Es liegt im Rahmen der Erfindung, dass der Wassergehalt des erfindungsgemäßen Reinigungsmittels 65 bis 90 Gew.-%, bevorzugt 70 bis 85 Gew.-%, sehr bevorzugt etwa 80 Gew.-% beträgt.

[0013] Nach einer Ausführungsform der Erfindung enthält das erfindungsgemäße Reinigungsmittel zumindest ein Fluorid. Dabei liegt es im Rahmen der Erfindung, dass zumindest ein Alkalifluorid und/oder Ammoniumfluorid in dem Reinigungsmittel enthalten ist. Das Reinigungsmittel kann beispielsweise Kaliumfluorid und/oder Natriumfluorid und/oder Ammoniumfluorid enthalten. Der Gehalt des Fluorides in dem Reinigungsmittel beträgt vorzugsweise 0,2 bis 2,5 Gew.-%, bevorzugt 0,5 bis 2 Gew.-% (bezogen auf die Gesamtmischung des Reinigungsmittels).

[0014] Die Erfindung betrifft auch eine Verwendung des erfindungsgemäßen Reinigungsmittels zur Entfernung von siliciumhaltigen Verunreinigungen, vorzugsweise zur Entfernung von silikathaltigen Verunreinigungen. Im Rahmen der Erfindung liegt bevorzugt eine Verwendung des Reinigungsmittels zur Entfernung von Wasserglas und/oder Silikatfarbe und/oder Silikatputz und/oder Silikatmörtel.

[0015] Mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel lassen sich silikathaltige Verunreinigungen sehr funktionssicher und effektiv entfernen. Je nach Verschmutzungsgrad und Alter der silikathaltigen Verschmutzung ist beispielsweise eine Einwirkzeit von etwa 2 bis 30 Min. des erfindungsgemäßen Reinigungsmittels erforderlich. Es liegt auch im Rahmen der Erfindung, dass bei intensiven und alten Verschmutzungen die Oberfläche auch unter zusätzlicher Anwendung von mechanischem Druck gereinigt werden. Mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel lassen sich empfindliche Oberflächen rückstandsfrei reinigen, ohne dass irgendwelche mechanischen Beschädigungen an den Oberflächen zu beobachten sind. Fernerhin treten nach der Reinigung mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsmittel keine farblichen Veränderungen bzw. keine farblichen Beeinträchtigungen der Oberflächen auf. Zu betonen ist auch, dass das erfindungsgemäße Reinigungsmittel auf einfache und wenig aufwendige Weise sowie auf kostengünstige Weise herstellbar ist.

[0016] Nach einem bevorzugten Ausführungsbeispiel enthält das erfindungsgemäße Reinigungsmittel 79 Gew.-% Wasser, 20 Gew.-% organische Säure, vorzugsweise Zitronensäure, 0,1 Gew.-% eines Tensides und 0,9 Gew.-% an Salzsäure. Die letztgenannten 0,9 Gew.-% Salzsäure beziehen sich auf die Gesamtkonzentration Salzsäure in der Gesamtmischung des Reinigungsmittels.

Ansprüche

1. Reinigungsmittel zur Entfernung von Verunreinigungen von Oberflächen,
wobei Salzsäure sowie 1 bis 45 Gew.-% zumindest einer organischen Säure enthalten sind,
wobei das Reinigungsmittel außerdem 0,02 bis 2 Gew.-% zumindest eines Tensides aufweist,
und wobei fernerhin Wasser in dem Reinigungsmittel enthalten ist.

2. Reinigungsmittel nach Anspruch 1, wobei Salzsäure in einer Konzentration enthalten ist, die einem Gehalt von 2 bis 30 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure, vorzugsweise 2,5 bis 25 Gew.-% einer 30 Gew.-%igen Salzsäure entspricht.

3. Reinigungsmittel nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei zumindest eine organische Säure aus der Gruppe "Monocarbonsäure, Dicarbonsäure, Hydroxysäure" enthalten ist.

4. Reinigungsmittel nach Anspruch 3, wobei zumindest eine organische Säure aus der Gruppe "Ameisensäure, Essigsäure, Oxalsäure, Milchsäure, Weinsäure, Zitronensäure" enthalten ist.

5. Reinigungsmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei 2 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 5 bis 35 Gew.-% der organischen Säure enthalten sind.

6. Reinigungsmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei 0,03 bis 1 Gew.-%, vorzugsweise 0,03 bis 0,5 Gew.-% des Tensides enthalten sind.

7. Reinigungsmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Tensid ein nichtionisches und/oder ein anionisches Tensid ist.

8. Reinigungsmittel nach Anspruch 7, wobei zumindest ein nichtionisches Tensid aus der Gruppe "Alkylphenoxylat, Alkylpolyglykosid" enthalten ist.

9. Reinigungsmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei 50 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 92 Gew.-% Wasser enthalten sind.

10. Verwendung des Reinigungsmittels nach einem der Ansprüche 1 bis 9, zur Entfernung von siliciumhaltigen Verunreinigungen.