[0001] Die Erfindung betrifft einen elektrischen Widerstand mit einer ein Platinmetall oder
eine Platinmetallverbindung aufweisenden Widerstandsschicht, die auf einer elektrisch
isolierenden Oberfläche eines Substrats aufgebracht ist, und eine Sensoranordnung.
[0002] Der Sensor soll insbesondere als Flip-Chip-Element montierbar sein, wie es beispielsweise
aus der DE 44 42 960 C1 bekannt ist. Weiterhin ist aus der EP 0 588 609 B1 eine Kontaktanordnung
für Flip-Chip-Elemente bekannt.
[0003] Aus der DE 31 45 583 A1 ist eine Paste zum Bedrucken von Substraten mittels eines
elastisch verformbaren Stempels bekannt, wobei die Paste zum Auftrag von Flächenmustern
auf vorgegebene Bereiche eines vorzugsweise unebenen Substrates vorgeschlagen wird,
das sich besonders für Druckverfahren eignet, bei denen der Auftrag mittels eines
elastisch verformbaren Stempels erfolgt. Bei der Paste liegt das Mischungsverhältnis
von Feststoff zu organischem Träger, bezogen auf die Gewichtsanteile, zwischen 6:4
und 8:2 und der organische Träger besteht aus 4 bis 14 Gew-% Äthylcellulose, 73 bis
83 Gew-% α-Terpineol und bis 5 bis 17 Gew-% Benzylalkohol. Als Feststoffe sind Metallpulver
und/oder Keramikpulver und/oder Glaspulver verwendbar; demgemäss sind elektrisch leitfähige
Pasten, Widerstandspasten oder isolierende Pasten herstellbar, mit denen sich Flächenmuster
entsprechender Leitfähigkeit herstellen lassen.
[0004] Der Aufbau von elektrischen Messelementen mit einer solchen Paste erscheint verhältnismäßig
aufwendig.
[0005] Weiterhin ist aus der DE 40 25 715 C1 ein Temperaturfühler sowie ein Verfahren zur
Herstellung von Temperaturfühlerelementen aus Keramikfolien bekannt. Die Temperaturfühlerelemente
sind derart ausgestaltet, dass ein PTC-Widerstand aus mehreren, stapelförmig übereinander
aufgebrachten Widerstandsbahnen besteht, und somit eine geringe flächenhafte Ausdehnung
aufweist. Durch die Stapel-Anordnung können ausreichend hohe Messwiderstandswerte
und eine weitgehende Unabhängigkeit derselben vom Temperaturgradienten im Abgas erreicht
werden. Allerdings erscheint der Aufbau mehrerer übereinander angeordneter Widerstandsbahnen
verhältnismäßig aufwendig.
[0006] Weiterhin beschreibt die US 3,565,682 eine elektrische Widerstandsanordnung, die
pulverförmiges dielektrisches Material sowie elektrisch leitende Palladiumoxide der
Formel PdMO
2 aufweist, wobei M als Symbol für Kobalt, Chrom, Rhodium oder eine Mischung von Chrom
mit Rhodium steht. Vorzugsweise werden als Palladiumoxide PdCrO
2 oder PtRhO
2 eingesetzt. Der Aufbau solcher Widerstandsanordnungen erscheint verhältnismäßig aufwendig.
[0007] Aus der DE 197 57 258 A1 ist ein temperaturabhängiger Messwiderstand eines TemperaturSensors
bekannt, der mit einem Referenzwiderstand in Reihe geschaltet ist, wobei diese Reihenschaltung
von einem konstanten, eingeprägten Strom durchflossen wird; ein zwischen beiden Widerständen
befindlicher Verbindungspunkt ist mit dem N-Eingang eines ersten gegengekoppelten
Operationsverstärkers verbunden, dessen P-Eingang mit einer von einem Spannungsteiler
abgegriffenen Gleichspannung versorgt wird; bei einer Temperaturerhöhung im Bereich
des Messwiderstandes erhöht sich das Potential am Ausgang des mit dem Messwiderstand
verbundenen ersten Operationsverstärkers, welcher den eingeprägten konstanten Strom
liefert, während sich das Potential am Ausgang des Operationsverstärkers bei fallender
Temperatur absenkt; das am Operationsverstärker abgegebene temperaturabhängige Spannungssignal
wird dem P-Eingang eines nachgeschalteten zweiten Operationsverstärkers in Subtrahierschaltung
zugeführt, dessen Ausgang mit einer Messeinrichtung zur Messung der für die Temperatur
charakteristischen Spannung verbunden ist. Der Temperatur-Sensor weist eine kompakte
Bauform auf und ist bis zu einer Temperatur von ca. 300°C einsetzbar.
[0008] Als problematisch erweist sich hierbei einerseits der verhältnismäßig komplexe Aufbau,
andererseits ist die Genauigkeit der Temperaturmessung unter anderem auch vom Referenzwiderstand
abhängig.
[0009] Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, mittels verbesserter Materialkombination und
Dünnschichtmethoden einen Widerstand herzustellen, der auch bei thermischer Belastung
einen weitgehend konstanten Widerstandstemperatur-Koeffizienten (TCR) aufweist. Weiterhin
stellt sich die Aufgabe, diesen Widerstand als Vor- bzw. Referenz-Widerstand in einem
Netzwerk mit einem elektrischen Temperaturmesswiderstand in einer Sensoranordnung
zu integrieren, so dass eine Genauigkeit von ca. 0,1% und weiterhin auch eine Langzeitstabilität
in einem Temperaturbereich oberhalb von 100°C möglich ist.
[0010] Die Aufgabe wird in einer ersten Ausführungsform dadurch gelöst, dass die Widerstandsschicht
als Dünnschicht-Element mit einer Schichtdicke im Bereich von 0,1 µm bis 2 µm ausgebildet
ist und eine physikalische Mischung aus feindispergierter Keramik und Platinmetall
aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis von Keramik zu Metall im Bereich von 5:95 bis
50:50 liegt. Als Metall der Widerstandsschicht wird vorzugsweise Iridium oder eine
Iridium-Basislegierung eingesetzt.
[0011] Dabei liegt das bevorzugte Verhältnis von feindispergierter Keramik zu Metall im
Bereich von 5 bis 35 Gew-%. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Widerstandes sind in
den Ansprüchen 2 und 3 angegeben.
[0012] Die Aufgabe wird in einer zweiten Ausführungsform dadurch gelöst, dass die Widerstandsschicht
als Dünnschicht-Element mit einer Schichtdicke im Bereich von 0,1 µm bis 2 µm ausgebildet
ist und eine physikalische Mischung aus feindispergierter Keramik und einer Platinmetallverbindung
aufweist.
[0013] Dabei hat sich der Einsatz von Platinsilizid als besonders vorteilhaft erweisen.
[0014] Vorteilhafte Ausgestaltungen des elektrischen Widerstandes sind in den Ansprüchen
5 bis 9 angegeben.
[0015] Als vorteilhaft erweist es sich, dass ein solcher Widerstand eine kostengünstige
Herstellung mit einfacher Abgleichung ermöglicht.
[0016] Ein weiterer Vorteil ist darin zu sehen, dass der Widerstand zusammen mit einem temperaturabhängigen
Widerstand auf ein Substrat aufzubringen ist.
[0017] Vorzugsweise wird als feindispergierte Keramik SiO, SiO
2, Ta
2O
5, MgO, Al
2O
3, oder eine Mischung daraus eingesetzt. Das Substrat ist als elektrisch isolierende
Keramik ausgebildet. Vorzugsweise weist die Keramik des Substrats Al
2O
3 auf.
[0018] In einer vorteilhaften Ausgestaltung weist die Widerstandsschicht einen Widerstands-Temperatur-Koeffizienten
(TCR) im Bereich von -500 bis +1000 ppm/K auf. Als besonders vorteilhaft erweist es
sich, dass der Widerstands-Temperatur-Koeffizient (TCR) auf einen Wert im Bereich
von 0 ppm/K einstellbar ist, wie insbesondere für Referenzwiderstände erwünscht ist.
[0019] In einer Sensoranordnung wird der elektrische Widerstand gemäß den Ansprüchen 1 bis
10 als Referenz-Widerstand zusammen mit einem temperaturabhängigen elektrischen Messwiderstand,
der mit jeweils einem Anschlusskontaktfeld an eine elektrische Schaltung zur Ausgabe
eines Temperatursignals angeschlossen ist, angeordnet ist, wobei ein am Messwiderstand
abfallendes Spannungssignal ermittelt wird, das sich wenigstens näherungsweise linear
proportional zu dessen Temperatur verhält; dabei ist der Messwiderstand über ein weiteres
Anschlusskontaktfeld mit der elektrischen Schaltung elektrisch verbunden, wobei weiterhin
ein Mittelabgriff einer Reihenschaltung aus dem Messwiderstand und dem Referenz-Widerstand
mit der elektrischen Schaltung verbunden ist; der temperaturabhängige Messwiderstand
sowie der Referenz-Widerstand sind jeweils gemeinsam auf einem Substrat mit elektrisch
isolierender Oberfläche angeordnet und die Anschlusskontaktfelder für den Messwiderstand
und die Anschlusskontaktfelder für den Referenzwiderstand sind jeweils über Leiterbahnen
oder Drahtverbindungen mit der elektrischen Schaltung verbunden, wobei außer dem Referenz-Widerstand
auch der Messwiderstand als Platinmetall enthaltendes Dünnschicht-Element aufgebracht
ist; die Metallschicht des Messwiderstandes weist einen Widerstandstemperatur-Koeffizienten
im Bereich von 3500 ppm/k bis 3920 ppm/K auf.
[0020] Vorteilhafte Ausgestaltungen der Sensoranordnung sind in den Ansprüchen 12 bis 15
angegeben.
[0021] Vorzugsweise ist der Referenz-Widerstand in einem Netzwerk der Sensoranordnung mit
dem Messwiderstand integriert.
In einer bevorzugten Ausgestaltung weist der Messwiderstand eine Widerstandsschicht
aus Platin oder aus einer Platin-Basis-Legierung auf.
[0022] Vorzugsweise beträgt der Wert des Widerstandstemperaturkoeffizienten 3850 ppm/K.
[0023] Dieser Wert entspricht dem in der DIN IEC751 angegebenen Temperaturkoeffizienten
α = 0,003850 Ω × Ω
-1 x °C
-1 bzw. 0,00385(°C.)
-1 gemäß US-PS 4,469,717 für Platinwiderstandsthermometer.
[0024] Die angeschlossene Auswerteschaltung ist in Silizium-Technologie ausgeführt.
[0025] Als vorteilhaft erweist es sich, dass bei Verwendung eines solchermaßen integrierten
Referenzbzw. Vorwiderstandes auf einem Substrat mit dem Messwiderstand eine kostengünstige
Herstellung mit einfacher Abgleichung sowie Verpackung und Versand kompletter Bauelemente
ermöglicht wird. Dabei erweist es sich als besonders vorteilhaft, dass der integrierte
Referenzwiderstand auch bei höherer thermischer Belastung infolge Temperaturmessung
seinen vorgegebenen Temperaturkoeffizienten praktisch nicht verändert.
[0026] Darüber hinaus kann auch an Raum auf einer Leiterplatte für den Sensor gespart werden,
wobei das zugehörige Netzwerk in einem Gehäuse beispielsweise SMD-Bauteil mit drei
Anschlüssen oder in einem typischen Bauelementgehäuse, wie SOT oder TO-Gehäuse untergebracht
ist.
[0027] In einer bevorzugten Ausführungsform weist der Messwiderstand eine Widerstandsschicht
aus Platin auf, wobei die Metallschicht des Referenzwiderstandes einen temperaturunabhängigen
Widerstandsverlauf besitzt.
[0028] Die zugehörige Auswerteschaltung ist vorzugsweise in Silizium-Technologie ausgeführt.
[0029] Im folgenden ist der Gegenstand der Erfindung anhand der Figuren 1 bis 3 näher erläutert.
[0030] Figur 1 zeigt ein SMD-Netzwerk als Flippchip-Bauteil mit drei Anschlüssen.
[0031] Figur 2 zeigt den Sensor als SOT-Bauteil mit kunststoffumspritztem Leadframe, welcher
das Netzwerk, das mittels Dünndrahtbohrung angeschlossen ist, beinhaltet.
[0032] Figur 3 zeigt ein Dual-In-Line Gehäuse, dem ein Temperatur-Sensor-Netzwerk hinzugefügt
ist.
[0033] Gemäß Figur 1 ist ein Flipchip-Bauteil als Substrat 4 vorgesehen, auf dessen Oberfläche
in Reihe zwei Widerstände angeordnet sind, von denen der erste als temperaturabhängiger
Messwiderstand 5 vorgesehen ist, während der zweite Widerstand als Vor- oder Referenzwiderstand
6 (gemäß den Ansprüchen 1 bis 8) eingesetzt ist. Die beiden Widerstände 5 und 6 sind
über ein Anschlusskontaktfeld 2 miteinander elektrisch verbunden, wobei deren Enden
an ihren äußeren Punkten jeweils an Anschlusskontaktfelder 1, 3 elektrisch angeschlossen
sind.
[0034] Vorzugsweise werden zum Anschluss SnAg10-Paste bzw. auch AgPd- oder Silber-Platin-Pads
eingesetzt.
[0035] Beide Widerstände 5 und 6 sind als Dünnschichtelement aufgebracht, wobei Messwiderstand
5 als Platindünnschichtwiderstand bzw. Dünnschichtwiderstand auf der Basis von Platingruppenmetall
ausgebildet ist, während der Vor- oder Referenzwiderstand 6 einen temperaturunabhängigen
Widerstandsverlauf besitzt; der Referenzwiderstand weist vorzugsweise eine physikalische
Mischung aus feindispergierter Keramik und Metall auf.
[0036] Für den Referenz-Widerstand wird als Metall vorzugsweise Platin bzw. ein Platingruppenmetall
eingesetzt. Darüber hinaus kann das Metall auch aus einer Platin-.Basis-Legierung
mit einer Komponente bzw. Komponenten aus Titan, Nickel oder Silizium bestehen. Aufgrund
der verhältnismäßig geringen prozentualen Anteile der Komponenten wird in der Praxis
auch von einer "Verunreinigung" des Platins gesprochen.
[0037] Darüber hinaus kann an Stelle des Metalls auch eine Platinverbindung, insbesondere
Platinsilizid eingesetzt werden.
[0038] Der Referenzwiderstand wird ebenso wie der Messwiderstand vorzugsweise mittels Aufdampfverfahren
auf die Oberfläche des Substrats 4 aufgebracht.
[0039] Die Montage erfolgt vorzugsweise nach dem Prinzip der SMD-Technik.
[0040] Gemäß Figur 2 ist ein SOT-Bauteil 11 mit einem kunststoffumspritzten Leadframe vorgesehen,
bei dem ein Widerstandsnetzwerk - entsprechend Figur 1 - in das SOT-Gehäuse eingesenkt
ist, wobei das Widerstandsnetzwerk über seine Anschluss-Kontaktflächen 1, 2 und 3
mittels Dünndrahtbondung 10 an nach außen ragende Kontakte 12, 13, 14 des umspritzten
Leadframes angeschlossen ist.
[0041] Eine solche Anordnung wird vorteilhafterweise in der Kfz-Elektronik eingesetzt.
[0042] Gemäß Figur 3 wird das einen Messwiderstand und Referenzwiderstand umfassende Temperatursensornetzwerk
22 auf ein Dual-Inline-Gehäuse 20 aufgebracht, welches einen kunststoffumspritzten
Leadframe enthält, der die äußeren Kontakte 23 bis 28 sowie auf der gegenüberliegenden
Seite Anschlusskontakte 29 bis 34 aufweist. Das Temperatursensornetzwerk 22 kann hier
ebenfalls über Bonddrähte mit kontaktierenden Anschlüssen, beispielsweise Anschluss
23 bzw. Anschluss 29 zwecks Auswertung einer Temperaturmessung verbunden sein. Der
Einsatz eines Dual-Inline-Gehäuses kann auch in Verbindung mit weiteren Widerständen,
beispielsweise Messwiderständen erfolgen, wobei deren Kontaktfelder ebenso wie die
Kontaktfelder des Temperatursensornetzwerkes 22 mit den aus dem Dual-Inline-Gehäuse
20 herausragenden Anschlusskontakten 23 bis 34 verbunden sind. Dabei ist es auch möglich,
ein Netzwerk mit mehreren Sensoren aufzubauen.
[0043] Der Einsatz eines Dual-Inline-Gehäuses hat insbesondere den Vorteil, dass es sich
hierbei um ein handelsübliches Produkt handelt, das preisgünstig zu erhalten ist.
1. Elektrischer Widerstand mit einer ein Platinmetall aufweisenden Widerstandsschicht,
die auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines Substrats aufgebracht ist,
dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsschicht als Dünnschicht-Element mit einer Schichtdicke im Bereich
von 0,1 µm bis 2 µm ausgebildet ist und eine physikalische Mischung aus feindispergierter
Keramik und Metall aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis von Keramik zu Metall im
Bereich von 5:95 bis 50:50 liegt.
2. Elektrischer Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Metall der Widerstandsschicht Iridium oder eine Iridium-Basislegierung eingesetzt
ist.
3. Elektrischer Widerstand nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil von feindispergierter Keramik zu Metall im Bereich von 5 bis 35 Gewichts-%
liegt.
4. Elektrischer Widerstand mit einer ein Platinmetall aufweisenden Widerstandsschicht,
die auf einer elektrisch isolierenden Oberfläche eines Substrats aufgebracht ist,
dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsschicht als Dünnschicht-Element mit einer Schichtdicke im Bereich
von 0,1 µm bis 2 µm ausgebildet ist und eine physikalische Mischung aus feindispergierter
Keramik und einer Platinmetallverbindung aufweist.
5. Elektrischer Widerstand nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass als Platinmetallverbindung Platinsilizid eingesetzt wird.
6. Elektrischer Widerstand nach einem der Anspüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass als feindispergierte Keramik SiO, SiO2, Ta2O5, MgO, Al2O3, oder eine Mischung daraus eingesetzt wird.
7. Widerstand nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat als elektrisch isolierende Keramik ausgebildet ist.
8. Widerstand nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Keramik des Substrats aus Al2O3 besteht.
9. Widerstand nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsschicht einen Widerstandstemperatur-Koeffizienten (TCR) im Bereich
von - 500 bis + 1000 ppm/K aufweist, wobei das Gewichtsverhältnis von feindispergierter
Keramik zu Iridium im Bereich von 5:95 bis 8:92 liegt.
10. Widerstand nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsschicht einen Widerstandstemperatur-Koeffizienten (TCR) im Bereich
von 0 ppm/K aufweist.
11. Sensoranordnung mit einem elektrischen Widerstand nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet dass dieser als Referenz-Widerstand (6) in einem Sensor zusammen mit einem temperaturabhängigen
elektrischen Messwiderstand (5), der mit jeweils einem Anschlusskontaktfeld (1, 2)
an eine elektrische Schaltung zur Ausgabe eines Temperatursignals angeschlossen ist,
angeordnet ist, wobei ein am Messwiderstand (5) abfallendes Spannungssignal ermittelt
wird, das sich wenigstens näherungsweise linear proportional zu dessen Temperatur
verhält, wobei der Messwiderstand über ein weiteres Anschlusskontaktfeld mit der elektrischen
Schaltung elektrisch verbunden ist, wobei weiterhin ein Mittelabgriff einer Reihenschaltung
aus dem Messwiderstand und dem Referenz-Widerstand mit der elektrischen Schaltung
verbunden ist, und der temperaturabhängige Messwiderstand (5) sowie der Referenz-Widerstand
(6) jeweils auf einem Substrat mit elektrisch isolierender Oberfläche angeordnet sind
und die Anschlusskontaktfelder für den Messwiderstand und die Anschlusskontaktfelder
für den Referenzwiderstand jeweils über Leiterbahnen oder Drahtverbindungen mit der
elektrischen Schaltung verbunden sind, wobei außer dem Referenz-Widerstand auch der
Messwiderstand als Platinmetall enthaltendes Dünnschicht-Element aufgebracht ist und
die Metallschicht des Messwiderstandes einen Widerstandstemperatur-Koeffizienten im
Bereich von 3500 ppm/k bis 3920 ppm/K aufweist.
12. Sensoranordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Referenz-Widerstand (6) in einem Netzwerk mit dem temperaturabhängigen Messwiderstand
(5) integriert ist.
13. Sensoranordnung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Messwiderstand (5) eine Widerstandsschicht aus Platin oder aus einer Platin-Basis-Legierung
aufweist.
14. Sensoranordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Widerstandstemperatur-Koeffizienten (TCR) der Metallschicht des Messwiderstandes
(5) einen Wert von 3850 ppm/K aufweist.
15. Sensoranordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Auswerteschaltung (4) in Silizium-Technologie ausgeführt ist.