SPUTTERTARGET AUF DER BASIS EINES METALLES ODER EINER METALLLEGIERUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG - Patent 1268874

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EP 1 268 874 A1

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(43)	Veröffentlichungstag:
	02.01.2003 Patentblatt 2003/01

(21)	Anmeldenummer: 01929445.3

(22)	Anmeldetag: 23.03.2001

(51)	Internationale Patentklassifikation (IPC)⁷: C23C 14/34

(86)	Internationale Anmeldenummer:
	PCT/EP0103/310

(87)	Internationale Veröffentlichungsnummer:
	WO 0107/7403 (18.10.2001 Gazette 2001/42)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR
	Benannte Erstreckungsstaaten:
	AL LT LV MK RO SI

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Priorität:

07.04.2000 DE 10017414

(71)	Anmelder: Unaxis Materials AG
	9496 Balzers (LI)

(72)	Erfinder:
	SCHLOTT, Martin 63075 Offenbach (DE) HEINDEL, Josef 63512 Hainburg (DE)

(74)	Vertreter: Herrmann-Trentepohl, Werner, Dipl.-Ing. et al
	PatentanwälteHerrmann-TrentepohlGrosse - Bockhorni & PartnerForstenrieder Allee 59 81476 München 81476 München (DE)

(54)	SPUTTERTARGET AUF DER BASIS EINES METALLES ODER EINER METALLLEGIERUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG