Technisches Gebiet
[0001] Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Hochleistungs-Elektronik.
Sie betrifft ein Verfahren zum Ansteuern eines Leistungshalbleiterelements, wobei
das Leistungshalbleiterelement ein Integrated-Gate Dual-Transistor (IGDT) mit zwei
steuerbaren Gates ist, wobei ein erstes Gate kathodenseitig angebracht ist und über
einen niederinduktiven ersten Gateanschluss mit einem ersten Gatestrom angesteuert
wird, und ein zweites Gate anodenseitig angebracht ist und über einen niederinduktiven
zweiten Gateanschluss mit einem zweiten Gatestrom angesteuert wird.
Weiter betrifft sie eine Schaltungsanordnung zum Durchführen diese Verfahrens.
Stand der Technik
[0002] Im Bereich der Leistungselektronik hat die Suche nach dem optimalen, abschaltbaren
Halbleiterelement verschiedene schnelle, leistungsstarke Halbleiterelemente hervorgebracht.
Der Weg zu noch grösseren geschalteten Leistungen führt für die immer kleiner werdenden
Halbleiterelemente über die Reduktion der Verluste. Sowohl dynamischen Schaltverluste
als auch stationäre Leit- bzw. Sperrverluste führen zu hohen Temperaturen und beschränken
Schaltleistung und -frequenz.
Der
Gate
Turn-
Off thyristor (GTO) ist ein seit mehreren Jahren bekanntes abschaltbares Halbleiterelement
mit charakteristischer Freiwerdezeit und einer Abschaltverstärkung grösser als 1.
Zum Abschalten wird an ein kathodenseitiges Gate des GTO ein Abschaltbefehl in Form
eines positiven Stromes angelegt. Der Gatestrom wird von einer Gateansteuerung gesteuert.
Die Freiwerde- oder Reaktionszeit zwischen dem Abschaltbefehl und dem eigentlichen
Abschaltprozess beträgt ein Vielfaches der eigentlichen Schaltdauer und hängt sowohl
vom aktuellen Betriebszustand, insbesondere von der zu schaltenden Stromstärke, als
auch von der Gateansteuerung ab. Dies macht insbesondere snubberlose Abschaltung von
GTOs unmöglich, und Serieschaltung und Parallelschaltung sehr aufwendig.
[0003] Der Dual-Gate GTO wie er in
Tsuneo Ogura et
al., "High-Frequency 6000V Double Gate GTOs", 1993, IEEE Transactions on Electron
Devices, Vol 40. NO.3, beschrieben ist, weist im Vergleich zum normalen GTO anodenseitig ein zusätzliches
Gate auf wodurch sich die Möglichkeit ergibt, den Abschaltvorgang durch je eine Gateansteuerungen
auf beiden Seiten des Elementes einzuleiten. Dem Vorteil der deutlich reduzierten
Abschaltverluste steht hier die deutlich aufwendigeren Gateansteuerung gegenüber.
Denn wenn schon der GTO erhebliche, vom Betriebszustand abhängige Reaktionszeiten
aufweist, erstaunt nicht, dass der Dual-Gate GTO nochmals komplexer reagiert. Kathodenseitig
und anodenseitig ergeben sich deutlich unterschiedliche Freiwerdezeiten, welche wiederum
vom jeweiligen Betriebszustand sowie von den beiden Gateansteuerungen abhängig sind.
Das Schalten eines Dual-Gate GTOs ist also nicht bloss zwingend mit Verzögerungen
verbunden, es erfordert auch ein äusserst präzises und vom Betriebszustand abhängiges
Timing zwischen den beiden Gateansteuerungen. Das Zeitmuster für die Ansteuerung eines
Dual-Gate GTOs ist somit weit komplexer als für einen normalen GTO. Aus diesem Grund
hat sich der Dual-Gate GTO in der Praxis nicht durchgesetzt, obschon er seit über
10 Jahren bekannt ist und potentiell erhebliche Vorteile aufweisen könnte.
[0004] Der
Integrated
Gate-
Comutated
Thyristor (IGCT) wie er in
S.Eicher et al, "
The 10 kV IGCT - A New Device for Medium Voltage Drives", IEEE-IAS 2000, beschrieben ist, ist ein weiteres abschaltbares Halbleiterelement mit Abschaltverstärkung
gleich oder kleiner als 1 und sehr kurzer Reaktionszeit. Der IGCT ist ein 'hart' angesteuerter
Trench GTO. Das Konzept der ,harten' Ansteuerung basiert auf einem neuen Typ von Gateansteuerung
und einer sehr niederinduktiven Gateverbindung zum Aktivteil. Daraus ergeben sich
eine Reihe von wesentlichen Vorteilen, insbesondere eine äusserst kurze Schaltverzögerungszeit,
die Möglichkeit der snubberlosen Schaltung sowie die verbesserte Möglichkeit der Serieschaltung.
Gegenüber dem GTO kann ausserdem die Schaltleistung erhöht werden, in der Regel bis
zu einer fixen spezifischen Schaltleistung pro Fläche. Damit entfallen auch die komplizierten
Skalierungsregeln des GTO. Zudem vermeidet der IGCT durch homogen anfallende spezifische
Schaltleistung pro Fläche lokale Überhitzung und damit thermische Instabilität.
Kurze Darstellung der Erfindung
[0005] Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Ansteuern
eines Integrated-Gate Dual-Transistors (IGDT) zu schaffen, welches auf die Eigenschaften
des IGDTs zugeschnitten ist und somit einen optimalen Betrieb des IGDTs erlaubt, sowie
darin, eine Schaltungsanordnung zur Durchführung dieses Verfahrens zu schaffen.
Die Aufgabe wird gelöst mit einem Verfahren mit den Merkmalen des Patentanspruchs
1 sowie einer Schaltungsanordnung mit den Merkmalen der Patentansprüchen 8 oder 9.
Nach dem erfindungsgemässen Verfahren angesteuert können die Stärken des IGDT optimal
genutzt werden.
Mit einer harten Ansteuerung je eines oder beider Gates können Schaltverluste durch
schnelles Schalten und durch Reduktion des Tail-Stromes minimiert werden.
Insbesondere beim Abschaltvorgang des IGDT führt das harte Ansteuern des anodenseitigen
Gates zu einer erheblichen Reduktion der Abschalt-Verluste im Vergleich zum herkömmlichen
IGCT, wobei insbesondere andere Einstellungen der der Lebensdauer der Ladungsträger
(lifetime control techniques) benutzt werden können.
Das Optimieren von lifetime control kombiniert mit der starken (high-gain) Anodenstruktur
ermöglicht eine Reduktion der Durchlassverluste des IGDTs gegenüber herkömmlichen
IGCTs um 20 bis 50%.
Durch gleichzeitiges Reduzieren von Schalt- und Durchlassverlusten kann der IGDT für
höhere Spannungen (10kV) als der herkömmliche IGCT (6kV) ausgelegt werden.
Durch Begrenzen der Anstiegsgeschwindigkeit der Spannung über dem IGDT über die beiden
Gates im Ausschaltvorgang des IGDTs, und/ oder durch Steuern des Sperrstroms zwischen
Anode und Kathode über die beiden Gates im ausgeschalteten Zustand des IGDTs, wird
der Einsatz des IGDTs in Serienschaltungen erleichtert.
Begrenzung der Anstiegsgeschwindigkeit der Spannung über dem IGDT verhindert, dass
in einer Serienschaltung IGDTs unterschiedlich schnell Spannungen aufbauen und so
ungleiche Belastungen die einzelnen IGDTs überhitzen oder sogar zerstören. Ebenso
im ausgeschalteten Zustand, in dem ungleiche Sperrströme unterschiedliche Spannungsabfälle
über einzelnen IGDTs zur Folge hätten, was wiederum zu enormen Belastungen bis hin
zur Zerstörung einzelner IGDTs führen würde. Sperrströme können durch das anodenseitige
Gate des IGTDs gegenüber herkömmlichen IGCTs um bis zu 50% reduziert werden. Das Erfindungsgemässe
Verfahren ermöglicht so die Serienschaltung von abschaltbaren Leistungshalbleitern
ohne parallelgeschaltete Widerstände.
[0006] Zusätzlich wird der Einsatz des IGDTs in Parallelschaltungen dadurch ermöglicht,
dass im Einschaltvorgang des IGDTs die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms über
die beiden Gates begrenzt wird.
Durch Begrenzen des Sperrstromes zwischen Anode und Kathode durch beide Gates im ausgeschalteten
Zustand, kann der IGDT mit einer höheren Sperrschichttemperatur betrieben werden,
wodurch sich die Safe Operating Area (SOA) des IGDT vergrössert.
Das verbesserte thermische Budget, welches dank den obengenannten Vorteilen eingehalten
werden kann, erlaubt den IGDT im Vergleich zu herkömmlichen IGCTs mit bis zu 100%
höheren Schaltfrequenzen zu betreiben.
Im Gegensatz zu herkömmlichen Dual-Gate GTOs kann mit dem IGDT der Gatestrom eines
der Gates während dem Abschalten gesteuert werden. Dadurch lassen sich gefährliche
Spannungsspitzen, wie sie etwa auftreten, wenn in Dioden oder Dual-Gate-Halbleitern
Ströme plötzlich abreissen (snapp-off), verhindern.
Aus der Gesamtheit der abhängigen Ansprüche ergeben sich weitere vorteilhafte Ausführungsformen.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
[0007] Zum besseren Verständnis und zur Illustration der erzielten Vorteile wird anschliessend
die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert:
- Fig. 1
- zeigt schematisch ein Schnittbild eines Integrated-Gate Dual-Transistors IGDT, mit
einem kathodenseitigen ersten Gate und einem anodenseitigen zweiten gate,
- Fig. 2
- zeigt ein Schaltsymbol des IGDTs von Fig. 1,
- Fig. 3
- zeigt ein Ersatzschaltbild des IGDTs von Fig. 1,
- Fig. 4
- zeigt den IGDT von Fig. 1 mit einer kathodenseitigen Gateansteuerung und einer anodenseitigen
Gateansteuerung in einem Stack von vier seriengeschalteten IGDTs,
- Figs. 5 bis 7
- zeigen verschiedene Ausführungen von Gateansteuerungen für seriengeschaltete IGDTs
- Fig. 8
- zeigt ein Beispiel vom Ersatzschaltbild eines IGDTs während einem stromgesteuerten
Ausschaltvorgang,
- Fig. 9
- zeigt ein Ersatzschaltbild eines IGDTs im ausgeschalteten Zustand
- Figs. 10
- zeigt ein Diagramm eines IGDTs in der Ausschaltphase beim beschleunigten Ausschalten
ohne Reststrom,
- Figs. 11
- zeigt ein Diagramm eines IGDTs in der Ausschaltphase beim Begrenzen der Anstiegsgeschwindigkeit
der Anoden-Kathodenspannung,
- Fig. 12
- zeigt ein Diagramm eines IGDTs in der Einschaltphase beim Begrenzen der Anstiegsgeschwindigkeit
des Anodenstromes,
- Fig. 13
- zeigt ein Diagramm eines IGDTs im leitenden Zustand beim Begrenzen des Anodenstromes,
und
- Fig. 14
- zeigt eine Schaltung zum Testen des IGDTs.
Weg zur Ausführung der Erfindung
[0008] In allen Figuren beziehen sich gleiche Bezugszeichen auf gleichwirkende Teile.
Der Integrated-Gate Dual-Transistor IGDT weist ein vierschichtiges Halbleitersubstrat
auf, welches auf beiden Seiten mit jeweils zwei elektrischen Anschlüssen versehen
ist.
Fig. 1 zeigt schematisch ein Schnittbild des IGDTs mit den vier unterschiedlich dotierten
Halbleiterschichten,
- einer anodenseitigen äusseren p-dotierten Anodenschicht,
- einer zweiteiligen, n-dotierten Basisschicht mit integriertem n-Buffer,
- einer p-dotierten Basisschicht sowie
- einer kathodenseitigen äusseren n-dotierten Kathodenschicht.
[0009] Beidseitig weist der IGDT jeweils ein Hauptanschluss, Anode A und Kathode K, sowie
einen Gateanschluss, kathodenseitig das erste Gate G
1 und anodenseitig das zweite Gate G
2, auf.
[0010] Fig. 2 zeigt ein Symbol des IGDTs. In dieser Beschreibung werden für die Spannungen
und die Ströme positive Werte in Pfeilrichtung gemäss dieser Darstellung verwendet.
[0011] Fig. 3 zeigt ein Erstzschaltbild des IGDTs mit einem anodenseitigen pnp-Transistor
sowie einem kathodenseitigen npn-Transistor.
[0012] Wie in Fig. 1 angedeutet, sind die beiden Gateanschlüsse rotationssymmetrisch ausgebildet
und durch die Hauptanschlüsse hindurch aus dem Gehäuse des IGDTs geführt. Dadurch
ergeben sich niederinduktive Anschlüsse mit einer inneren Induktivität von weniger
als 100 nH (gemessen zwischen Anode und zweitem Gateanschluss G
2 rsp. Kathode und erstem Gateanschluss G
1 mit einer Metallscheibe anstelle des Halbleitersubstrats).
[0013] Fig. 4 zeigt einen IGDT mit Gehäuse und beidseitig angeschlossenen Gateansteuerungseinheiten
GU
1 und GU
2 in einem Stapel (Stack) von vier in Serie geschalteten IGDTs. Die Gateansteuerungseinheiten
sind wie abgebildet auf einer Leiterplatte angeordnet, welche beitseitig mit einer
Metallisierung versehen ist. Auf der Anodenseite beispielsweise, wird die eine, dem
IGDT zugewandte Metallisierung mit dem zweiten Gateanschluss G
2 verbunden. Die andere Metallisierung wird mit dem Anodenanschluss verbunden. Dazu
wird im Bereich des Anodenanschlusses die Leiterplatte und die Gate-Metallisierung
entfernt, so dass der Anodenanschluss durch ein Loch der Leiterplatte die Metallisierung
kontaktiert.
[0014] Zwischen den beiden aus dem Gehäuse herausgeführten Gateanschlüssen G
1 und G
2 ist ein Isolationsabstand, welcher zumindest der maximalen Betriebsspannung des IGDTs
standhält.
[0015] Der IGDT ist im sperrenden Zustand, wenn bei der maximal zulässigen Anode-Kathodespannung
zwischen Anode und Kathode kein Strom fliesst, der zu einer ständigen Erhöhung der
Halbleitertemperatur und letztendlich zur Zerstörung des Halbleiters führen würde.
[0016] Der IGDT ist im leitenden Zustand, wenn die Anode-Kathode Leitfähigkeit so gross
ist, dass der maximal zulässige Anode-Kathodestrom nicht zu einer ständigen Erhöhung
der Halbleitertemperatur und letztendlich einer Zerstörung des Halbleiters führen
würde.
[0017] Der IGDT kann durch einen positiven Zündstrom an einer der beiden Gateanschlüssen
in einen leitenden Zustand zwischen Anode und Kathode versetzt werden.
[0018] Bei einem geeigneten Betrieb erlaubt der IGDT beim Übergang vom sperrenden in den
leitenden Zustand eine hohe Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms, grösser als
20 A/µs/cm
si2.
[0019] Bei einem ausreichend grossen Strom (einige Prozente des maximal zulässigen Stroms)
zwischen Anode und Kathode erhält das Bauelement auch ohne einen Gatestrom seinen
leitenden Zustand
[0020] Der IGDT kann durch Anlegen eines ausreichend grossen negativen Gatestromes an einer
der Gateanschlüssen oder an beiden gleichzeitig vom leitenden in den sperrenden Zustand
versetzt werden.
[0021] Beim Übergang vom leitenden in den sperrenden Zustand können in Abhängigkeit der
Gateansteuerung sehr hohe Änderungsgeschwindigkeiten des Anodenstroms erreicht werden.
Zudem erlaubt der IGDT eine hohe Anstiegsgeschwindigkeit der Spannung zwischen Anode
und Kathode (grösser als 1 kV/µs).
[0022] Beim Übergang vom leitenden in den sperrenden Zustand ist für den IGDT dank der beidseitig
niederinduktiv angesteuerten Gates der Betrieb ohne Snubberschaltung möglich.
[0023] Um den IGDT in den leitenden oder sperrenden Zustand zu versetzen, können beide oder
nur eines von beiden Gates mit einer Steuerschaltungseinheit betrieben werden. Dabei
dürfen an den beiden Gateanschlüssen unterschiedliche Signale geführt werden.
[0024] Die Gateansteuerungseinheit muss so ausgelegt sein, dass die für das Betreiben beider
Gates notwendige Gateströme mit einer Anstiegsgeschwindigkeit von mehr als 20 A/µs/cm
si2 erzeugt werden können. Die beiden Gateströme müssen gleichzeitig oder zeitlich versetzt
erzeugt werden können.
[0025] Durch Anlegen eines sehr schnell ansteigenden Gatestromes an das anodeseitge Gate,
das kathodenseitige Gate oder gleichzeitig oder zeitlich versetzt an beide Gates schaltet
der IGDT sehr schnell ab. Insbesondere beim beidseitig angesteuerten Abschalten verschwindet
der beim herkömmlichen GCT vorhandene Tailstrom praktisch ganz, da über die beidseitig
angesteuerten Gates Ladungsträger aus dem Innern des IGDT rasch entfernt werden. Dadurch
werden Schaltverluste drastisch reduziert. Gegenüber dem herkömmlichen Dual-Gate GTO
ist dabei zu beachten, dass die Gates des IGDT vom aktuellen Betriebszustand unabhängig
angesteuert werden können und dass insbesondere keine, rsp. eine sehr kleine zeitliche
Verzögerung von 0-10µs, insbesondere 0-6µs, zwischen dem ersten und dem zweiten Gatestrom
notwendig ist, um den Tailstrom restlos zum verschwinden zu bringen. Die sehr steil
ansteigenden Gateströme können somit praktisch synchron in die Gateanschlüsse eingespiesen
werden.
[0026] Der schnell abfallende Anodenstrom zusammen mit dem Verschwinden des Tail-Stromes
bringt eine erhebliche Reduktion der dynamischen Schaltverluste mit sich.
[0027] Fig. 10 illustriert das schnelle Abschalten des IGDTs anhand dem zeitlichen Verlauf
des Anodenstromes I
A und der Anode-Kathodenspannung U
AK beim Abschalten mit unterschiedlichen und zeitlich um 2µs versetzten Spannungen an
den beiden Gates G
1 und G
2. Im oberen Diagramm sind Anodenstrom I
A und Anode-Kathodenspannung U
AK über der Zeit aufgezeigt, im unteren Diagramm die beiden Gatespannungen.
[0028] Die in den Fig. 10 bis 13 dargestellte Kurven wurden in einer Testanordnung gemäss
Fig. 14 gemessen.
[0029] Speziell hervorzuheben ist die verbesserte Einsatzmöglichkeit des IGDT als abschaltbares
Leistungshalbleiterelement in Serien- und/ oder Parallelschaltungen. Dabei ist zu
beachten, dass die Belastung der in Serie geschalteten Bauelemente im Bereich der
Safe Operating Area liegt, um die Lebensdauer der Bauelemente nicht negativ zu beeinträchtigen.
[0030] Beispielsweise ist die Änderungsgeschwindigkeit der Anode-Kathodespannung beim Einund
Ausschalten des Bauelement zu Begrenzen, damit in der Serienschaltung eine gleichmässige
Spannungsverteilung über alle Bauelemente erreicht werden kann.
[0031] Oder es ist der Sperrstrom beim ausgeschalteten Zustand zu steuem (vergrössern oder
verkleinern), damit wiederum für die Serienschaltung eine gleichmässige Spannungsverteilung
über allen Bauteilen erreicht werden kann.
[0032] Oder es ist die Änderungsgeschwindigkeit des Anodenstroms beim Ein- und Ausschalten
des Bauelements zu Begrenzen, damit in der Parallelschaltung eine gleichmässige Stromverteilung
über alle Bauelemente erreicht werden kann.
[0033] Die Anstiegsgeschwindigkeit der Anode-Kathodespannung kann im Ausschaltvorgang auf
drei verschieden Arten begrenzt werden:
1. Indem nur das anodenseitige Gate mit einem stark ansteigenden Gatestrom IG2 angesteuert wird.
Fig. 11 zeigt den Vergleich zwischen einem kathodenseitig und einem anodenseitig abgeschalteten
IGDT. Beim kathodenseitig abgeschalteten IGDT fällt der Anodenstrom IA nach 2.5µs stark ab, während die Anoden-Kathodenspannung UAK zwischen 0 und 2.5µs steil ansteigt. Beim anodenseitig abgeschalteten IGDT fällt
der Anodenstrom erst nach 6µs steil ab, entsprechend länger und flacher baut sich
die Anoden-Kathodenspannung UAK auf.
2. Indem, mit einem stark ansteigenden und ausreichend grossen Gatestrom IG2 der Anodenstrom IA auf Null gebracht wird, und anschliessend der kathodenseitige Gatestrom IG1 von seinem Maximalwert gleichmässig auf Null zurückgefahren wird. Anhand des Ersatzschaltbildes
in Fig. 8 ist dabei ersichtlich, dass der anodenseitige Transistor über die Gateansteuerung
kurzgeschlossen wird. Der Kathodenstrom IK wird durch den kathodenseitigen Transistor gleichmässig abgebaut, indem der Gatestrom
IG1 entsprechend gleichmässig auf Null zurückgefahren wird.
3. Indem mit einem stark ansteigenden und ausreichend grossen Gatestrom IG1 der Kathodenstrom auf Null gebracht wird, und anschliessend der anodenseitige Gatestrom
IG2 von seinem Maximalwert gleichmässig auf Null zurückgefahren wird. Anhand des Ersatzschaltbildes
ist dabei ersichtlich, dass der kathodenseitige Transistor über die Gateansteuerung
kurzgeschlossen wird. Der Anodenstrom wird durch den anodenseitigen Transistor gleichmässig
abgebaut, indem der Gatestrom IG2 entsprechend gleichmässig auf Null zurückgefahren wird.
[0034] Zum Steuern des Sperrstromes im ausgeschalteten Zustand wird wie in Fig. 9 gezeigt,
am kathodenseitigen ersten Gate G
1 eine negative Gatespannung U
GK angelegt. Durch Anlegen eines geringen positiven Gatestroms I
G2 am anodenseitigen Gate wird der Sperrstrom vergrössert. Der positive Gatestrom wird
durch den inneren Halbleiter (pnp-Transistor) linear verstärkt (ca. 1:1) wodurch der
Sperrstrom anwächst. Eine Verringerung des Sperrstromes ergibt sich aus einer negativen
Gatespannung am anodenseitigen Gate U
AG. Dank dieser erfindungsgemässen Ansteuerung mindestens zweier in Serie geschalteter
IGDT können statische Parallelwiderstände (sharing resistors) zum Ausgleichen von
ungleichen Spannungsverteilungen über den Bauelementen weggelassen werden.
[0035] Die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms kann im Einschaltvorgang begrenzt werden,
indem an einem der beiden Gates eine negative Gatespannung angelegt wird, und das
andere Gate mit einem positiven Gatestrom beschaltet wird. Der Verlauf des Anodenstromes
ist folglich abhängig von der Last, vom Verlauf des Gatestromes sowie von der Auslegung
des Halbleiters. Ein entsprechendes Beispiel ist in Fig. 12 dargestellt. Im Bereich
von -10 bis 0µs wird am zweiten Gate G
2 eine negative Gatespannung U
AG = 20V angelegt und am ersten Gate G
1 ein positiver Gatestrom von I
G1>50A eingespiesen. Im Gegensatz zum IGCT zündet der IGDT in diesem Fall nicht, sondern
lässt den Anodenstrom I
A über den positiven Gatestrom I
G1 steuern. Ein typischer Verstärkungsfaktor beträgt dabei 500.
[0036] Der IGDT kann sowohl vom eingeschalteten als vom ausgeschalteten Zustand in einen
stromgeführten Zustand gebracht werden. Der Anodenstrom wird hierbei direkt von den
Gateströmen bestimmt. Hierzu wird das anodenseitige zweite Gate G
2 ausgeschaltet (mit einem ausreichend grossen negativen Gatestrom I
G2 wird der Anodenstrom I
A 'umgeleitet'), so dass sich kathodenseitig ein vom kathodenseitigen ersten Gatestrom
I
G1 geführter Laststrom einstellt. Auf diese Weise kann im eingeschalteten Zustand ein
Anodenüberstrom oder im Ausschattvorgang eine Anoden-Kathodenüberspannung verhindert
oder schnell abgebaut werden.
[0037] Fig. 13 zeigt ein entsprechendes Beispiel. Zum Zeitpunkt 0µs wird das zweite Gate
G
2 ausgeschaltet während das erste Gate G
1 weiter mit 10A angesteuert wird. Anodenseitig steigt die Gatespannung U
AG innert 10µs auf ihren Maximalwert (ca. 800-900V) an, während der Anodenstrom I
A auf einen Lastunabhängigen Wert (500A) abfällt. Nach 18µs wird das zweite Gate G
2 wieder eingeschaltet.
[0038] Die Fig. 5 bis 7 zeigen verschiedene Möglichkeiten, wie die Gateanschlüsse für mehrere
seriengeschaltete IGDTs angeordnet und mit Energie versorgt werden können. Der Vorteil
der dargestellten Anordnungen liegt in der Minimierung der Kosten zur Ansteuerung
der seriengeschalteten Bauelemente.
[0039] Eine Gateansteuerung umfasst jeweils zwei Gateansteuerungseinheiten, welche wiederum
getrennt oder gemeinsam von einer Energieversorgungseinheit gespiesen werden.
[0040] In Fig. 5 zeigt eine erste Anordnung, bei welcher die beiden Gateansteuerungseinheiten
je das erste Gate G
1 und das zweite Gate G
2 eines IGDTs ansteuern. Die Energieversorgungen der beiden Ansteuerungseinheiten sind
gekoppelt. Die gesamte Energie wird entweder von einer externen Schaltung oder von
der Anoden-Kathodenspannung des angesteuerten IGDTs bezogen. Auf diese Weise sind
für n IGDTs nur n Gateansteuerungen notwendig.
[0041] Fig. 6 zeigt eine zweite Anodnung, bei welcher von einer Gateansteuerung die beiden
benachbarten, und auf gleichem Potential liegenden Gates zweier seriegeschalteter
IGDTs angesteuert werden. Die Energieversorgungen zur Steuerung der beiden Gates sind
direkt miteinander gekoppelt und bilden wiederum einen Einheit. Auf diese Weise sind
für n IGDTs n+1 Gateansteuerungen notwendig.
[0042] Fig. 7 zeigt schliesslich eine dritte Anordnung, bei welcher von einer Gateansteuerung
wiederum die beiden benachbarten Gates zweier serigeschalteter IGDTs angesteuert werden.
Allerdings sind die Energieversorgungen gemäss der ersten Anordnung ausgeführt, womit
jeder IGDT eine eigene Energieversorgung für seine beiden Gates aufweist.
Bezugszeichenliste
[0043]
- 1
- Halbleitersubstrat
- A
- Anode
- G1, G2
- Gate
- GU1, GU2
- Gateansteuerungseinheiten
- IA, IK
- Anodenstrom, Kathodenstrom
- IG1, IG2
- Gatestrom
- K
- Kathode
- UAG, UGK
- Gatespannung
- UAK
- Anode-Kathodenspannung
1. Verfahren zum Ansteuern eines Leistungshalbleiterelementes, wobei das Leistungshalbleiterelement
ein Integrated-Gate Dual-Transistor (IGDT) ist, welcher
- zwischen einer Anode (A) und einer Kathode (K) ein vierschichtiges Halleitersubstrat
(1), mit
- einer anodenseitigen äusseren p-dotierten Anodenschicht,
- einer zweiteiligen, n-dotierten Basisschicht mit integriertem n-Buffer,
- einer p-dotierten Basisschicht sowie
- einer kathodenseitigen äusseren n-dotierten Kathodenschicht,
- sowie zwei über niederinduktive Gatanschlüsse steuerbare Gates (G1, G2) umfasst,
bei welchem Verfahren durch hartes Ansteuern nur des ersten Gates (G1), nur des zweiten
Gates (G
2) oder gleichzeitig oder zeitlich versetzt beider Gates, oder durch hartes Steuern
eines der beiden Gates und Strom- oder Spannungssteuern des anderen Gates
- im Ausschaltvorgang des IGDTs die Schaltverluste über die beiden Gates (G1, G2) reduziert werden, und/ oder
- im Ausschaltvorgang des IGDTs die Anstiegsgeschwindigkeit der Spannung (UAK) über dem IGDT über die beiden Gates (G1, G2) begrenzt wird, und/ oder
- im ausgeschalteten Zustand des IGDTs der Sperrstrom (IA) zwischen Anode und Kathode über die beiden Gates (G1, G2) gesteuert wird, undl oder
- im Einschaltvorgang des IGDTs die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms (IA) über die beiden Gates (G1, G2) begrenzt wird, und/ oder
- im eingeschalteten Zustand des IGDTs der Anodenstrom (IA) über die beiden Gates (G1, G2) begrenzt und/ oder gesteuert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
- die Schaltverluste reduziert werden, indem
- in der Anfangsphase des Ausschaltvorgangs der zweite Gatestrom (IG2)mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 aufgebaut wird, und
- bis zu 6 µs nach dem zweiten Gatestrom (IG2) auch der erste Gatestrom (IG1) mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 aufgebaut wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
- die Anstiegsgeschwindigkeit der Anodenspannung begrenzt wird, indem entweder
- durch einen mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ansteigenden ersten Gatestroms (IG1) der Kathodenstrom (IK) auf Null gebracht wird, und
- anschliessend der zweite Gatestrom (IG2) von seinem Maximalwert auf Null zurückgefahren wird,
- oder
- durch einen mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ansteigenden zweiten Gatestroms (IG2) der Anodenstrom (IA) auf Null gebracht wird, und
- anschliessend der erste Gatestrom (IG1) von seinem Maximalwert auf Null zurückgefahren wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, dass
- der Sperrstrom (IA) gesteuert wird, indem
- das erste Gate (G1) mit einer negativen Spannung (UGK) beaufschlagt wird, und
- zum Vergrössern des Sperrstroms (IA) ein positiver zweiter Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) angelegt wird, und
- zum Verkleinern des Sperrstroms (IA) das zweite Gate (G2) mit einer negativen Spannung (UAG) beaufschlagt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, dass
- die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms (IA) begrenzt wird, indem entweder
- das erste Gate (G1) mit einer kontinuierlichen negativen Gatespannung (UAK) beaufschlagt wird, und
- der Aufbau des Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) gesteuert wird,
oder
- das zweite Gate (G2) mit einer kontinuierlichen negativen Gatespannung (UAG) beaufschlagt wird, und
- der Aufbau des Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG1) am ersten Gate (G1) gesteuert wind.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, dass
- der Anodenstroms (IA) begrenzt und/ oder gesteuert wird, indem entweder
- das erste Gate (G1) mit einem negativen Gatestrom (IG1) mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ausgeschaltet wird, und
- der Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) gesteuert wird,
oder
- das zweite Gate (G2) mit einem negativen Gatestrom (IG2) mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ausgeschaltet wird, und
- der Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG1) am ersten Gate (G1) gesteuert wird.
7. Schaltungsanordnung zum Durchführen des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
7, umfassend
- eine Serienschaltung von IGDTs mit jeweils zwei steuerbaren Gates, wobei ein erstes
Gate kathodenseitig angebracht ist, und ein zweites Gate anodenseitig angebracht ist,
- mehrere Gateansteuerungen umfassend zwei Steuereinheiten zum Ansteuern von jeweils
einem Gate,
- mehrere Einheiten zur Energieversorgung der Gatesansteuerungen,
wobei
- eine erste Steuereinheit einer Gateansteuerung jeweils ein kathodenseitiges Gate
eines ersten IGDTs ansteuert, und
- eine zweite Steuereinheit der Gateansteuerung jeweils ein anodenseitiges Gate eines
anodenseitig mit der Kathode des ersten IGDTs verbundenen zweiten IGDTs ansteuert.
8. Schaltungsanordnung zum Durchführen des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
7, umfassend
- eine Serienschaltung von IGDTs mit jeweils zwei steuerbaren Gates, wobei ein erstes
Gate kathodenseitig angebracht ist, und ein zweites Gate anodenseitig angebracht ist,
- mehrere Gateansteuerungen umfassend zwei Steuereinheiten zum Ansteuern von jeweils
einem Gates,
- Einheiten zur Energieversorgung der Gateansteuerungen,
wobei
- die beiden Steuereinheiten einer Gateansteuerung jeweils die beiden Gates eines
einzelnen IGDTs ansteuem.
9. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 8 oder 9,
dadurch gekennzeichnet, dass
- eine Energieversorgungseinheit jeweils beide Steuereinheiten einer Gateansteuerung
mit Energie versorgen.
10. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 8 oder 9,
dadurch gekennzeichnet, dass
- eine Energieversorgungseinheit eine zweite Steuereinheit einer ersten Gateansteuerung
undl oder eine erste Steuereinheit einer zweiten Gateansteuerung mit Energie versorgen.
Geänderte Patentansprüche gemäss Regel 86(2) EPÜ.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, dass
- der Sperrstrom (IA) gesteuert wird, indem
- das erste Gate (G1) mit einer negativen Spannung (UGK) beaufschlagt wird, und
- zum Vergrössern des Sperrstroms (IA) ein positiver zweiter Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) angelegt wird, und
- zum Verkleinern des Sperrstroms (IA) das zweite Gate (G2) mit einer negativen Spannung (UAG) beaufschlagt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, dass
- die Anstiegsgeschwindigkeit des Anodenstroms (IA) begrenzt wird, indem entweder
- das erste Gate (G1) mit einer kontinuierlichen negativen Gatespannung (UAK) beaufschlagt wird, und
- der Aufbau des Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) gesteuert wird,
oder
- das zweite Gate (G2) mit einer kontinuierlichen negativen Gatespannung (UAG) beaufschlagt wird, und
- der Aufbau des Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG1) am ersten Gate (G1) gesteuert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, dass
- der Anodenstroms (IA) begrenzt und/ oder gesteuert wird, indem entweder
- das erste Gate (G1) mit einem negativen Gatestrom (IG1) mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ausgeschaltet wird, und
- der Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG2) am zweiten Gate (G2) gesteuert wird,
oder
- das zweite Gate (G2) mit einem negativen Gatestrom (IG2) mit einer Anstiegsgeschwindigketi von mehr als 20 A/µs/cmsi2 ausgeschaltet wird, und
- der Anodenstroms (IA) über einen positiven Gatestrom (IG1) am ersten Gate (G1) gesteuert wird.
7. Schaltungsanordnung zum Durchführen des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
6, umfassend
- eine Serienschaltung von IGDTs mit jeweils zwei steuerbaren Gates, wobei ein erstes
Gate kathodenseitig angebracht ist, und ein zweites Gate anodenseitig angebracht ist,
- mehrere Gateansteuerungen umfassend zwei Steuereinheiten zum Ansteuern von jeweils
einem Gate,
- mehrere Einheiten zur Energieversorgung der Gatesansteuerungen,
wobei
- eine erste Steuereinheit einer Gateansteuerung jeweils ein kathodenseitiges Gate
eines ersten IGDTs ansteuert, und
- eine zweite Steuereinheit der Gateansteuerung jeweils ein anodenseitiges Gate eines
anodenseitig mit der Kathode des ersten IGDTs verbundenen zweiten IGDTs ansteuert.
8. Schaltungsanordnung zum Durchführen des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis
6, umfassend
- eine Serienschaltung von IGDTs mit jeweils zwei steuerbaren Gates, wobei ein erstes
Gate kathodenseitig angebracht ist, und ein zweites Gate anodenseitig angebracht ist,
- mehrere Gateansteuerungen umfassend zwei Steuereinheiten zum Ansteuern von jeweils
einem Gates,
- Einheiten zur Energieversorgung der Gateansteuerungen,
wobei
- die beiden Steuereinheiten einer Gateansteuerung jeweils die beiden Gates eines
einzelnen IGDTs ansteuern.
9. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 7 oder 8,
dadurch gekennzeichnet, dass
- eine Energieversorgungseinheit jeweils beide Steuereinheiten einer Gateansteuerung
mit Energie versorgen.
10. Schaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 7 oder 8,
dadurch gekennzeichnet, dass
- eine Energieversorgungseinheit eine zweite Steuereinheit einer ersten Gateansteuerung
und/ oder eine erste Steuereinheit einer zweiten Gateansteuerung mit Energie versorgen.