(19)
(11) EP 1 304 594 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
10.11.2004  Patentblatt  2004/46

(43) Veröffentlichungstag A2:
23.04.2003  Patentblatt  2003/17

(21) Anmeldenummer: 02020850.0

(22) Anmeldetag:  18.09.2002
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)7: G03F 7/20
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
AL LT LV MK RO SI

(30) Priorität: 17.10.2001 DE 10151309

(71) Anmelder: CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG
73446 Oberkochen (DE)

(72) Erfinder:
  • Ulrich, Wilhelm
    73434 Aalen (DE)
  • Wagner, Christian
    5521 KS Eersel (NL)

(74) Vertreter: Gnatzig, Klaus et al
Carl Zeiss Patentabteilung
73446 Oberkochen
73446 Oberkochen (DE)

   


(54) Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für 200 nm


(57) Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
  • mit einer Lichtquelle mit einer Wellenlänge unter 200 nm und
  • einer Bandbreite kleiner als 0,3 pm vorzugsweise unter 0,25 pm und größer als 0,1 pm.
  • mit einem rein refraktiven Projektionsobjektiv mit nur einem Linsenmaterial, wobei die Ausbildung
  • mit einer größten Bildhöhe über 12 mm bis etwa 25 mm
  • mit einer bildseitigen numerischen Apertur von über 0,75 bis etwa 0,95
  • mit einer monochromatischen Korrektur der Wellenfront auf rms < 15‰ der Wellenlänge der Lichtquelle erfolgt.






Recherchenbericht