(19)
(11) EP 1 311 907 A1

(12)

(43) Date de publication:
21.05.2003  Bulletin  2003/21

(21) Numéro de dépôt: 01940668.5

(22) Date de dépôt:  01.06.2001
(51) Int. Cl.7G03F 7/039, G03F 7/004
(86) Numéro de dépôt:
PCT/FR0101/708
(87) Numéro de publication internationale:
WO 0109/5034 (13.12.2001 Gazette  2001/50)
(84) Etats contractants désignés:
AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR
Etats d'extension désignés:
AL LT LV MK RO SI

(30) Priorité: 05.06.2000 FR 0007145

(71) Demandeur: RHODIA CHIMIE
92512 Boulogne Billancourt Cedex (FR)

(72) Inventeurs:
  • PRAT, Evelyne
    F-93500 PANTIN (FR)
  • DESTARAC, Mathias
    F-75005 PARIS (FR)

(74) Mandataire: Andrieu, Isabelle A. J. 
Rhodia Services,Direction Propriété Industrielle,40, rue de la Haie-Coq
93306 Aubervilliers Cedex
93306 Aubervilliers Cedex (FR)

   


(54) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POUR LA FABRICATION DE PHOTORESIST