(57) Bei dem Verfahren zur Verringerung der Kupferlöslichkeit an der inneren Oberfläche
eines Kupferrohrs werden zum Erreichen eines gleichmäßigen gerichteten Kristallwachstums
im Verlauf der Zinnbeschichtung die Prozeßparameter Oberflächenbehandlung (Entfetten
und Beizen), Strömungsbedingungen (Strömungsgeschwindigkeit < 1 m/s), Temperatur (50
°C bis 80 °C) und Zeit (1 min bis 10 min) gezielt aufeinander abgestimmt. Insbesondere
werden die Ebenen (101) der Kupferund Zinnkristalle parallel zueinander und die Richtungen
[101] senkrecht aufeinander ausgerichtet.
[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verringerung der Kupferlöslichkeit an der
inneren Oberfläche eines Kupferrohrs.
[0002] Es ist bekannt, die innere Oberfläche eines Kupferrohrs mit Zinn zu beschichten,
um mit Hilfe einer derartigen Zinnschicht aus dem Kupfer gelöste Kupferionen daran
zu hindern, in Trinkwasser überzutreten, sofern ein derartiges Kupferrohr als Bestandteil
einer Trinkwasserleitung verwendet wird. In diesem Zusammenhang ist auch die europäische
Richtlinie für die Trinkwasserverordnung zu beachten.
[0003] Bei den bislang bekannten Verfahren zum Aufbringen einer Zinnschicht auf die innere
Oberfläche eines Kupferrohrs werden nur ungeordnete Kristalle gebildet. Die Packungsdichte
der Zinnkristalle war damit unbefriedigend. Kupferionen können daher über die Zinnschicht
in das Trinkwasser übertreten.
[0004] Der Erfindung liegt - ausgehend vom Stand der Technik - die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren zu schaffen, das eine deutliche Verringerung der Kupferlöslichkeit an der
inneren Oberfläche eines Kupferrohrs gewährleistet.
[0005] Diese Aufgabe wird mit den im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen gelöst.
[0006] Die Erfindung hat erkannt, daß bei einem gerichteten Kristallwachstum im Verlaufe
der Zinnbeschichtung eine hohe Packungsdichte der Zinnkristalle erreicht werden kann.
Die hohe Packungsdichte der Zinnschicht führt zu einer sehr homogenen, gleichmäßig
ausgebildeten und äußerst stabilen Kupfer/Zinn-Phase. Dazu wird die Zinnschicht gleichmäßig
und mit einer geringen Dicke in einer Größenordnung von etwa 0,1 µm bis 3 µm bei geringer
Porenanzahl aufgebracht. Das gerichtete Kristallwachstum wird durch eine gezielte
Einstellung der Prozeßparameter Oberflächenvorbehandlung (Entfetten und Beizen), Strömungsbedingungen
(Strömungsgeschwindigkeit < 1 m/s), Temperatur (50 °C bis 80 °C) und Zeit (1 min bis
10 min) erreicht.
[0007] Trotz des Sachverhalts, daß schon nach relativ kurzer Betriebszeit kein metallisches
Zinn mehr an der Rohroberfläche festgestellt werden kann, bleibt dennoch die Eigenschaft
der geringen Kupferlöslichkeit aufgrund der äußerst stabilen Cu/Sn-Phase erhalten.
Erfindungsgemäß behandelte Rohroberflächen zeichnen sich durch eine sehr geringe Kupferlöslichkeit
und hohe Beständigkeit aus.
[0008] Die Ermittlung der Kristallstruktur von Zinn wird bevorzugt mit Hilfe der Ergebnisse
von Röntgenbeugungsexperimenten durchgeführt. Bei der Wechselwirkung zwischen der
Röntgenstrahlung und Einkristallen werden die einfallenden Wellen wegen des gitterhaften
Aufbaus der Zinnkristalle in diskrete Raumrichtungen gebeugt. Während die Lage einer
Beugungsrichtung durch die Orientierung des Kristallgitters zum Primärstrahl, die
Gitterdimensionen und die verwendete Wellenlänge bestimmt wird, hängt die Intensität
des abgebeugten Strahls von der Verteilung der Zinnatome in der Elementarzelle ab.
[0009] Dazu wurde von einem erfindungsgemäß mit Zinn beschichteten Kupferrohr ein Längenabschnitt
als Probe abgeteilt. Diese Probe wurde dann in Längsrichtung geschlitzt und diese
längsgeschlitzte Probe anschließend zu einem Flachmaterial aufgebogen. Dieses Flachmaterial
mit der Zinnbeschichtung nach oben wurde dann mit Röntgenstrahlen mit λ(FeK
α) = 1.9373 Å bestrahlt, wobei der Röntgenstrahl unter verschiedenen Beugungswinkeln
auf die ebene Probe gerichtet wurde. Die Ergebnisse zeigen, daß unter verschiedenen
Winkeln eine hohe Röntgenstrahl-Beugungsintensität festgestellt wurde, womit der Beweis
erbracht ist, daß die Röntgenstrahlen nahezu 100% reflektiert werden. Die Zinnatome
weisen folglich eine sehr hohe Packungsdichte auf. Es wird eine zufriedenstellende
Sperrschicht für die Kupferionen gegen einen Übertritt in das Trinkwasser gebildet.
[0010] In vorteilhafter Weitergestaltung des erfindungsgemäßen Grundgedankens wird nach
Patentanspruch 2 die Ebene (101) der Zinnkristalle parallel zu der inneren Oberfläche
des Kupferrohrs ausgerichtet.
[0011] In diesem Zusammenhang ist es dann gemäß Patentanspruch 3 ferner von Vorteil, wenn
die Ebene (101) der Zinnkristalle parallel zu der Ebene (101) der Kupferkristalle
ausgerichtet wird.
[0012] Eine darüber hinausgehende weitere Verbesserung wird nach Patentanspruch 4 dadurch
erzielt, daß die Ebene (101) der Kupfer- und Zinnkristalle parallel zueinander und
die Richtungen [101] senkrecht aufeinander ausgerichtet werden.
[0013] Die vorteilhafte Zinnbeschichtung wurde durch folgende interne Vergleichsuntersuchung
bestätigt:
[0014] Ein erfindungsgemäß beschichtetes Kupferrohr wurde 15 Monate mit Trinkwasser in Kontakt
gebracht. Aufgrund dieses Kontakts entstand auf der inneren Oberfläche eine Zinnhydroxidschicht
(Sn
3O
2(OH)
2). Von diesem Kupferrohr wurde ebenfalls ein Längenabschnitt abgetrennt, in Längsrichtung
aufgeschnitten, flach gebogen und dann einer Röntgenbestrahlung mit λ (FeK
α) = 1.9373 Å unterworfen. Hierbei wurde festgestellt, daß die Reflektion der Röntgenstrahlen
(Röntgenstrahlenbeugungsintensität) deutlich unter 100 % lag. Man hätte also annehmen
können, daß das Ziel der Erfindung nicht erreicht wurde.
[0015] Anschließend wurde die Zinnhydroxidschicht vollkommen entfernt, so daß der ursprüngliche
Beschichtungszustand wieder vorhanden war. Das heißt, auf dem Kupfer lag eine Kupfer/Zinn-Phase
(Cu
6Sn
5).
[0016] Dann wurde wiederum eine Röntgenbestrahlung vorgenommen, bei der eine nahezu 100%ige
Reflektion festgestellt wurde. Hiermit ist das Verfahren gemäß der Erfindung vollauf
in seiner Vorteilhaftigkeit bestätigt.
1. Verfahren zur Verringerung der Kupferlöslichkeit an der inneren Oberfläche eines Kupferrohrs,
bei welchem zum Erreichen eines gleichmäßigen gerichteten Kristallwachstums im Verlauf
der Zinnbeschichtung und Bildung einer Kupfer/Zinn-Phase die Prozeßparameter Oberflächenbehandlung
(Entfetten und Beizen), Strömungsbedingungen (Strömungsgeschwindigkeit < 1 m/s), Temperatur
(50 °C bis 80 °C) und Zeit (1 min bis 10 min) gezielt aufeinander abgestimmt werden.
2. Verfahren nach Patentanspruch 1, bei welchem die Ebene (101) der Zinnkristalle parallel
zu der inneren Oberfläche des Kupferrohrs ausgerichtet wird.
3. Verfahren nach Patentanspruch 1 oder 2, bei welchem die Ebene (101) der Zinnkristalle
parallel zu der Ebene (101) der Kupferkristalle ausgerichtet wird.
4. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 3, bei welchem die Ebenen (101) der
Kupfer- und Zinnkristalle parallel zueinander und die Richtungen [101] senkrecht aufeinander
ausgerichtet werden.