(19)
(11) EP 1 402 317 A2

(12)

(88) Veröffentlichungstag A3:
31.07.2003

(43) Veröffentlichungstag:
31.03.2004  Patentblatt  2004/14

(21) Anmeldenummer: 02748607.5

(22) Anmeldetag:  28.06.2002
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)7: G03F 1/00
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/DE2002/002435
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2003/005123 (16.01.2003 Gazette  2003/03)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR

(30) Priorität: 05.07.2001 DE 10134763

(71) Anmelder: Micro Resist Technology GmbH
12555 Berlin (DE)

(72) Erfinder:
  • PFEIFFER, Karl
    16356 Werneuchen (DE)
  • AHRENS, Gisela
    15569 Woltersdorf (DE)
  • GRÜTZNER, Gabi
    12685 Berlin (DE)
  • REUTHER, Freimuth
    13158 Berlin (DE)

(74) Vertreter: Bergelt, Klaus 
Gördenallee 129A,
14772 Brandenburg
14772 Brandenburg (DE)

   


(54) VERFAHREN FUR DIE ERZEUGUNG VON MIKRO- UND NANOSTRUKTUREN MIT DER IMPRINTLITHOGRAPHIE