ATBECHDEDKESFRGBGRITLILUNLSEMCPTIESILTLVFIROMKCYALTR............................*XDIM350 (Ver 2.1 Jan 2001) 1100000/0 1710000/01425776A120040609EP01973705.52001090620040402EnEnEn20040609200424200406092004247 7H 01J 37/28 AdeEMISSIONSRAUSCHUNTERDRÜCKUNG FÜR MIKROSAÜLEN ANWENDUNGEN IN DER ELEKTRONENSTRAHLPRÜFUNGenSUPPRESSION OF EMISSION NOISE FOR MICROCOLUMN APPLICATIONS IN ELECTRON BEAM INSPECTIONfrSUPPRESSION DE BRUIT D'EMISSION DESTINEE A DES APPLICATIONS DE MICROCOLONNES DANS L'INSPECTION D'UN FAISCEAU D'ELECTRONSApplied Materials, Inc.02149607P71281EP00P.O. Box 450ASanta Clara,California 95052USMANKOS, Marian333 Presidio 3San Francisco, CA 94115USCHANG, Tai-Hon, Philip1105 Nimitz LaneMilpitas, CA 94404USLEE, Kim, Y.2672 Benchmark AvenueFremont, CA 94536USYU, Ming41019 Pajaro DriveFremont, CA 94539USBayliss, Geoffrey Cyrilet al00028152BOULT WADE TENNANT,Verulam Gardens70 Gray's Inn RoadLondon WC1X 8BTGBATBECHCYDEDKESFIFRGBGRIEITLILUMCNLPTSETRALLTLVMKROSIUS200104207620010906EnWO200303446220030424200317