(19)
(11) EP 1 434 977 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
07.07.2004  Patentblatt  2004/28

(21) Anmeldenummer: 02785122.9

(22) Anmeldetag:  18.09.2002
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)7G01J 4/00, G01N 21/21
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2002/010476
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2003/029770 (10.04.2003 Gazette  2003/15)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

(30) Priorität: 24.09.2001 DE 10146945

(71) Anmelder: Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH
07745 Jena (DE)

(72) Erfinder:
  • DOBSCHAL, Hans-Jürgen
    99510 Kleinromstedt (DE)
  • MASCHKE, Gunter
    07743 Jena (DE)
  • BISCHOFF, Jörg
    98693 Illmenau (DE)

(74) Vertreter: Grimm, Christian Jan Rainer et al
Geyer, Fehners & Partner,Patentanwälte,Perhamerstrasse 31
80687 München
80687 München (DE)

   


(54) SCATTEROMETRISCHE MESSANORDNUNG UND MESSVERFAHREN