[0001] La présente invention concerne une installation de trempe par gaz, du type comprenant
une cellule de trempe destinée à recevoir des objets à tremper et adaptée pour résister
à une pression de trempe déterminée du gaz de trempe, et des moyens de fourniture
de gaz de trempe sous pression, raccordés à cette cellule.
[0002] Elle s'applique notamment aux installations de trempe par gaz de pièces en acier.
[0003] On connaît des installations de trempe par gaz. Une telle installation comprend une
cellule de trempe dans laquelle sont disposés les objets à tremper et des moyens de
fourniture de gaz de trempe sous pression, raccordés à cette cellule. De telles installations
de trempe comprennent généralement une capacité tampon de stockage intermédiaire du
gaz située entre la source de gaz et la cellule de trempe.
[0004] Dans le cas d'une installation de trempe à haute pression (par exemple 20 bars et
plus), les moyens de fourniture de gaz comprennent un compresseur relié en permanence
à la source de gaz de trempe.
[0005] L'utilisation d'un compresseur dans une telle installation présente notamment les
inconvénients suivants : le coût de l'investissement du compresseur, l'indisponibilité
de l'installation de trempe pour le temps d'entretien du compresseur, la consommation
électrique du compresseur et les nuisances sonores dues au compresseur.
[0006] L'invention a pour but de pallier ces inconvénients au moyen d'une installation de
trempe qui soit économique.
[0007] A cet effet, l'invention a pour objet une installation conforme à la revendication
1, et notamment caractérisée en ce que les moyens de fourniture de gaz comprennent:
- un évaporateur dont la sortie est reliée à une entrée du réservoir tampon, par des
deuxièmes moyens de liaison, et
- un réservoir haute pression de stockage du gaz de trempe à l'état liquide, sous une
pression de stockage (Pstockage) comprise entre 15 et 40 bars, relié à une entrée de l'évaporateur par des troisièmes
moyens de liaison;
- lesdits deuxièmes moyens de liaison étant dépourvus de tout moyen de compression du
gaz entre l'évaporateur et le réservoir tampon.
[0008] On doit entendre par « réservoir haute pression » selon la présente invention un
réservoir dont la pression de stockage (P
stockage) est supérieure à la pression tampon (P
tampon), et est comprise entre 15 et 40 bars.
[0009] Suivant des modes particuliers de réalisation de l'installation, celle-ci peut comporter
l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes :
- les premiers moyens d'obturation divisent lesdits premiers moyens de liaison en une
partie tampon associée au réservoir tampon et en une partie cellule associée à la
cellule de trempe et en ce que le volume (Vtampon) du réservoir tampon et le volume (Vct) de la partie tampon des moyens de liaison forment un volume tampon effectif (Vtampon-eff), tandis que le volume (Vcellule) de la cellule de trempe et le volume (Vcc) de la partie cellule des moyens de liaison forment un volume de cellule effectif
(Vcellule-eff), le volume tampon effectif (Vtampon-eff) étant supérieur au volume de cellule effectif (Vcellule-eff).
- le volume tampon effectif (Vtampon-eff) est supérieur à 1,2 fois le volume de cellule effectif (Vcellule-eff), et notamment compris entre 1,4 fois et 5 fois ce volume.
- la pression tampon (Ptampon) est supérieure à la pression de trempe (Ptrempe), et le volume tampon et le volume de cellule effectifs sont liés par la relation

- le volume tampon effectif et le volume de cellule effectif sont liés par la relation

- la pression tampon (Ptampon) est supérieure ou égale à 1,2 fois la pression de trempe (Ptrempe), et est de préférence comprise entre 1,2 et 1,8 fois cette pression.
- la pression tampon (Ptampon) est comprise entre 15 et 35 bars.
- la pression de trempe (Ptrempe) est comprise entre 10 et 20 bars.
- l'installation comprend en outre une source auxiliaire de gaz de trempe reliée au
réservoir tampon par des moyens auxiliaires de liaison, aptes à alimenter le réservoir
tampon en gaz auxiliaire de trempe.
- la source auxiliaire de gaz de trempe comprend au moins l'un des gaz du groupe formé
par l'hydrogène et l'hélium.
- ledit gaz de trempe est de l'azote.
- ledit gaz de trempe est du CO2 ou comporte du CO2.
[0010] L'invention a en outre pour objet un procédé d'exploitation d'une installation telle
que définie ci-dessus, caractérisé par les étapes successives suivantes :
- le réservoir tampon est empli de gaz de trempe à la pression tampon ;
- l'objet à tremper est disposé dans la cellule de trempe;
- les premiers moyens d'obturation commandables sont ouverts, établissant une liaison
entre le réservoir tampon et la cellule de trempe, jusqu'à l'établissement de la pression
de trempe dans la cellule de trempe,
- l'objet à tremper est refroidi à une température déterminée ; et
- l'objet trempé est retiré de la cellule de trempe.
[0011] L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée
uniquement à titre d'exemple et faite en se référant au dessin annexé dont la Figure
unique représente schématiquement une installation suivant l'invention.
[0012] La Figure unique montre une installation de trempe par gaz selon l'invention, désignée
par la référence générale 2.
[0013] L'installation est destinée à la trempe d'un objet 3 par traitement thermique. L'objet
est par exemple une pièce en acier.
[0014] L'installation de trempe 2 comprend un réservoir de stockage haute pression 4 d'un
gaz de trempe 6 à l'état liquide, un évaporateur 8 de ce gaz, un réservoir tampon
10 ainsi qu'une cellule de trempe 12.
[0015] Le réservoir de stockage 4 est un réservoir de stockage dit « haute pression ». Le
gaz de trempe 6 y est stocké sous une pression de stockage P
stockage comprise entre 15 et 40 bars. Le gaz de trempe 6 est par exemple de l'azote.
[0016] Le réservoir de stockage 4 est muni d'une sortie 14, qui est reliée à une entrée
16 de l'évaporateur 8 par une première conduite de liaison 18. L'évaporateur 8 est
préférentiellement un évaporateur dit « haute pression », qui est adapté pour générer
un gaz sous une haute pression, à partir du réservoir de stockage 4. Cette pression
est située légèrement au-dessous de la pression de stockage.
[0017] L'évaporateur 8 comporte une sortie 20 qui est reliée à une entrée 22 du réservoir
tampon 10 par une deuxième conduite de liaison 24 munie d'une première vanne d'arrêt
26. La première vanne d'arrêt 26 est disposée à l'entrée du réservoir tampon 10.
[0018] Conformément à l'invention, ces moyens de liaison sont dépourvus de tout moyen de
compression du gaz entre l'évaporateur et le réservoir tampon.
[0019] Le réservoir tampon 10 est adapté pour résister à une pression du gaz pendant l'exploitation
de l'installation, appelée pression tampon P
tampon. Elle est sensiblement identique à la pression du gaz à la sortie de l'évaporateur
8.
[0020] Une sortie 28 du réservoir tampon 10 est reliée à une entrée 30 de la cellule de
trempe 12 par l'intermédiaire d'une troisième conduite de liaison 32 munie d'une seconde
vanne d'arrêt 34.
[0021] La cellule de trempe 12 est adaptée pour résister à une pression du gaz lors de la
trempe, appelée pression de trempe P
trempe.
[0022] Le réservoir tampon 10 proprement dit a un volume V
tampon. Le volume de la troisième conduite 32 est constituée d'une première partie V
ct associée au réservoir tampon 10, s'étendant entre le réservoir tampon 10 et la seconde
vanne d'arrêt 34, ainsi que d'une seconde partie V
cc, associée à la cellule de trempe 12 et s'étendant entre la seconde vanne 34 et cette
cellule 12. La cellule de trempe a un volume V
cellule.
[0023] Les deux volumes V
tampon et V
ct pris ensemble définissent un volume tampon effectif V
tampon-eff, tandis que les deux volumes V
cellule et V
cc prises ensemble définissent un volume de cellule effectif V
cellule-eff.
[0024] Selon un mode avantageux de mise en oeuvre de l'invention, le volume tampon effectif
V
tampon-eff est supérieur au volume de cellule effectif V
cellule-eff. De préférence, le volume tampon effectif V
tampon-eff est supérieur à 1,2 fois le volume de cellule effectif V
cellule-eff, et est notamment compris entre 1,4 fois et 5 fois ce volume.
[0025] Le volume tampon effectif V
tampon-eff satisfait avantageusement la condition

Dans un mode de réalisation particulier, le volume tampon effectif et le volume de
cellule effectif sont liés par la relation

ce qui permet de minimiser l'encombrement du réservoir 10.
[0026] L'installation comporte par ailleurs des moyens de mise sous vide de la cellule de
trempe 12. Ces moyens de mise sous vide sont constitués par une pompe à vide 36 reliée
à la cellule de trempe 12 par une quatrième conduite 38.
[0027] L'installation selon l'invention fonctionne de la façon suivante.
[0028] Initialement, le réservoir tampon 10 comprend du gaz de trempe à une pression résiduelle,
et la cellule de trempe 12 comprend une atmosphère résiduelle généralement à un pression
inférieure à la pression atmosphérique. Dans la cellule de trempe il n'y a pas d'objet
à tremper.
[0029] La seconde vanne d'arrêt 34 est fermée et la première vanne 26 d'arrêt est ouverte.
L'évaporateur 8 est ainsi mis en route et produit du gaz de trempe, qui a sensiblement
la pression tampon P
tampon, et une température T
tampon. Cette pression P
tampon est comprise ici entre 25 et 35 bars.
[0030] Lorsque la pression dans le réservoir tampon 10 atteint la pression P
tampon, l'évaporateur 8 est arrêté par fermeture de la première vanne 26. L'emplissage du
réservoir tampon 10 dure typiquement entre 5 et 20 minutes.
[0031] Pendant ce temps, l'objet à tremper 3 subit un traitement thermique (non représenté).
[0032] Puis l'objet 3 à tremper chaud est disposé dans la cellule de trempe 12 et celle-ci
est fermée. La pression régnant dans la cellule de trempe 12 est souvent la pression
ambiante i.e. environ 1000 hPa (mais elle pourrait également être sous vide initialement),
et la température est la température ambiante.
[0033] Ensuite, la seconde vanne d'arrêt 34 est ouverte. Le gaz de trempe 6 contenu dans
le réservoir tampon 10 s'écoule rapidement par l'intermédiaire de la troisième conduite
32 dans la cellule de trempe 12, jusqu'à ce que la pression de trempe désirée soit
atteinte. Cette pression de trempe P
trempe est comprise entre 10 et 25 bars, de préférence entre 10 et 20 bars. Par ailleurs,
il est avantageux que la pression tampon P
tampon soit choisie entre 1,2 et 1,8 fois la pression de trempe afin de pouvoir utiliser
un réservoir tampon qui ne soit pas très encombrant.
[0034] Lorsque l'objet à tremper 3 a atteint la température souhaitée, la cellule de trempe
12 est dépressurisée, et l'objet trempé 3 est retiré de la cellule. Enfin, la seconde
vanne d'arrêt 34 est fermée et la première vanne d'arrêt 26 est ouverte.
[0035] Le cycle de traitement peut recommencer.
[0036] L'installation suivant l'invention présente les avantages suivants.
[0037] Etant donné que le volume tampon effectif V
tampon-eff est supérieur au volume de cellule effectif V
cellule-eff, la pression du gaz dans le réservoir tampon P
tampon est relativement faible, pour une pression de trempe P
trempe donnée. En conséquence, l'épaisseur de paroi du réservoir tampon 10 peut être relativement
faible.
[0038] En outre, cette installation est dépourvue d'un compresseur disposé entre l'évaporateur
8 et le réservoir tampon 10, ce qui supprime la consommation d'énergie électrique
pendant la génération de gaz sous pression P
tampon. L'installation présente également une haute disponibilité grâce au faible temps
d'entretien nécessaire.
[0039] De plus, l'installation est peu encombrante et produit peu de bruit.
[0040] En variante, le réservoir tampon 10 peut être disposé adjacent à la cellule de trempe
12, de telle sorte que la troisième conduite 32 peut être supprimée. Dans ce cas,
les volumes V
ct et V
cc sont égaux à 0, et les volumes effectifs V
tampon-eff et V
cellule-eff sont identiques aux volumes respectifs du réservoir tampon 10 et de la cellule de
trempe 12.
[0041] Si l'invention a été tout particulièrement illustrée dans ce qui précède par une
structure où le réservoir tampon est alimenté uniquement à partir de l'ensemble stockage
liquide haute pression/évaporateur, on conçoit qu'il est possible également et extrêmement
avantageux de prévoir selon l'invention la possibilité d'alimenter le réservoir tampon
également en un gaz auxiliaire de trempe, via une source auxiliaire de gaz de trempe
reliée au réservoir tampon par des moyens auxiliaires de liaison, un tel gaz auxiliaire
de gaz de trempe comprenant avantageusement au moins l'un des gaz du groupe formé
par l'hydrogène et l'hélium, par exemple afin de disposer ainsi de mélanges de trempe
azote-helium, azote-hydrogène, CO
2-hélium etc....
[0042] De même comme il apparaîtra clairement à l'homme du métier, on a utilisé dans tout
ce qui précède la terminologie « réservoir de stockage haute pression du gaz de trempe
à l'état liquide » pour signifier que l'on dispose ainsi d'une réserve haute pression
sous forme liquide du gaz de trempe. Cette réserve se présentera avantageusement tout
simplement sous la forme d'un stockage haute pression mais on conçoit que l'on peut
également (par exemple pour des raisons pratiques liées au site local), et sans sortir
en aucune façon du cadre de la présente invention, envisager ce « réservoir de stockage
haute pression » sous la forme de la combinaison d'un réservoir de stockage sous forme
liquide à basse pression, qui alimente un système de pressurisation du gaz de trempe
à l'état liquide. Ceci bien sur dans la mesure où la condition selon l'invention selon
laquelle les deuxièmes moyens de liaison entre l'évaporateur et le réservoir tampon
sont dépourvus de tout moyen de compression du gaz est bien respectée.
1. Installation de trempe par gaz, du type comprenant :
- une cellule de trempe (12) destinée à recevoir des objets à tremper (3) et adaptée
pour résister à une pression de trempe (Ptrempe) déterminée du gaz de trempe, comprise entre 10 et 25 bars; et
- des moyens de fourniture de gaz de trempe sous pression, raccordés à cette cellule,
les moyens de fourniture de gaz comprenant :
i) un réservoir tampon (10) adapté pour contenir le gaz de trempe (6) et pour résister
à une pression tampon (Ptampon) déterminée du gaz de trempe,
j) des premiers moyens de liaison (32) de gaz reliant le réservoir tampon (10) à la
cellule de trempe (12);
k) des premiers moyens d'obturation (34) commandables desdits premiers moyens de liaison
(32) ;
l) des moyens d'alimentation (4, 8, 18, 24, 26) en gaz de trempe du réservoir tampon
(10) sous une pression supérieure à la pression atmosphérique ;
caractérisée en ce que les moyens d'alimentation en gaz comprennent :
- un évaporateur (8) dont la sortie (20) est reliée à une entrée (22) du réservoir
tampon (10), par des deuxièmes moyens de liaison (24), et
- un réservoir de stockage (4) haute pression du gaz de trempe (6) à l'état liquide,
sous une pression de stockage (Pstockage) comprise entre 15 et 40 bars, relié à une entrée (16) de l'évaporateur (8) par des
troisièmes moyens de liaison (18) ;
- lesdits deuxièmes moyens de liaison étant dépourvus de tout moyen de compression
du gaz entre l'évaporateur et le réservoir tampon.
2. Installation suivant la revendication 1, caractérisée en ce que les premiers moyens d'obturation (34) divisent lesdits premiers moyens de liaison
(32) en une partie tampon associée au réservoir tampon (10) et en une partie cellule
associée à la cellule de trempe (12), et en ce que le volume (Vtampon) du réservoir tampon (10) et le volume (Vct) de la partie tampon des moyens de liaison (32) forment un volume tampon effectif
(Vtampon-eff), tandis que le volume (Vcellule) de la cellule de trempe (12) et le volume (Vcc) de la partie cellule des moyens de liaison (32) forment un volume de cellule effectif
(Vcellule-eff), et en ce que le volume tampon effectif (Vtampon-eff) est supérieur au volume de cellule effectif (Vcellule-eff).
3. Installation suivant la revendication 2, caractérisée en ce que le volume tampon effectif (Vtampon-eff) est supérieur à 1,2 fois le volume de cellule effectif (Vcellule-eff), et notamment compris entre 1,4 fois et 5 fois ce volume.
4. Installation suivant l'une quelconque des revendications 2 ou 3,
caractérisée en ce que la pression tampon (P
tampon) est supérieure à la pression de trempe (P
trempe), et
en ce que le volume tampon et le volume de cellule effectifs sont liés par la relation
5. Installation suivant la revendication 4,
caractérisée en ce que le volume tampon effectif et le volume de cellule effectif sont liés par la relation
6. Installation suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la pression tampon (Ptampon) est supérieure ou égale à 1,2 fois la pression de trempe (Ptrempe), et est de préférence comprise entre 1,2 et 1,8 fois cette pression.
7. Installation suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la pression tampon (Ptampon) est comprise entre 15 et 35 bars.
8. Installation suivant l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que la pression de trempe (Ptrempe) est comprise entre 10 et 20 bars.
9. Installation suivant l'une des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comprend une source auxiliaire de gaz de trempe reliée au réservoir tampon par
des moyens auxiliaires de liaison, aptes à alimenter le réservoir tampon en gaz auxiliaire
de trempe.
10. Installation suivant la revendication 9, caractérisée en ce que ladite source auxiliaire de gaz de trempe comprend au moins l'un des gaz du groupe
formé par l'hydrogène et l'hélium.
11. Installation suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit gaz de trempe est de l'azote.
12. Installation suivant l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que ledit gaz de trempe est du CO2 ou comporte du CO2.
13. Procédé de trempe par gaz d'objets à tremper (3), dans une cellule de trempe (12),
à une pression de trempe (P
trempe) comprise entre 10 et 25 bars, selon lequel :
A/ on fournit la cellule en gaz de trempe à l'aide de moyens de fourniture de gaz
de trempe sous pression, raccordés à cette cellule, les moyens de fourniture de gaz
comprenant :
i) un réservoir tampon (10) adapté pour contenir le gaz de trempe (6) et pour résister
à une pression tampon (Ptampon) déterminée du gaz de trempe,
j) des premiers moyens de liaison (32) de gaz reliant le réservoir tampon (10) à la
cellule de trempe (12);
k) des premiers moyens d'obturation (34) commandables desdits premiers moyens de liaison
(32) ;
l) des moyens d'alimentation (4, 8, 18, 24, 26) en gaz de trempe du réservoir tampon
(10) sous une pression supérieure à la pression comprenant :
- un évaporateur (8) dont la sortie (20) est reliée à une entrée (22) du réservoir
tampon (10), par des deuxièmes moyens de liaison (24), et
- un réservoir de stockage (4) haute pression du gaz de trempe (6) à l'état liquide,
sous une pression de stockage (Pstockage) comprise entre 15 et 40 bars, relié à une entrée (16) de l'évaporateur (8) par des
troisièmes moyens de liaison (18) ;
- lesdits deuxièmes moyens de liaison étant dépourvus de tout moyen de compression
du gaz entre l'évaporateur et le réservoir tampon ;
B/ le réservoir tampon (10) est empli de gaz de trempe à la pression tampon (Ptampon);
C/ l'objet à tremper (3) est disposé dans la cellule de trempe (12);
D/ les premiers moyens d'obturation (34) commandables sont ouverts, établissant une
liaison entre le réservoir tampon (10) et la cellule de trempe (12), jusqu'à l'établissement
de la pression de trempe (Ptrempe)dans la cellule de trempe (12),
E/ l'objet à tremper (30) est refroidi à une température déterminée ;et
F/ l'objet trempé (3) est retiré de la cellule de trempe (12).
1. Anlage zum Härten durch Gas des Typs umfassend:
- eine Härtzelle (12), die dazu bestimmt ist, die zu härtenden Objekte (3) aufzunehmen
und geeignet, um einem bestimmten Härtdruck (PHärt) des Härtgases, zwischen 10 und 25 bar liegend, standzuhalten, und
- Mittel zum Liefern von Härtgas unter Druck, die an diese Zelle angeschlossen sind,
wobei die Gasliefermittel Folgendes umfassen:
i) einen Pufferbehälter (10), der dazu geeignet ist, das Härtgas (6) zu enthalten,
und einem bestimmten Pufferdruck (PPuffer) des Härtgases standzuhalten,
j) erste Gasverbindungsmittel (32), die den Pufferbehälter (10) mit der Härtzelle
(12) verbinden,
k) erste steuerbare Verschlussmittel (34) der ersten Verbindungsmittel (32);
l) Mittel (4, 8, 18, 24, 26) zum Speisen mit Härtgas (10) des Pufferbehälters unter
einem Druck, der höher ist als der Luftdruck;
dadurch gekennzeichnet, dass die Gasspeisungsmittel umfassen:
- einen Verdampfer (8), dessen Ausgang (20) mit einem Eingang (22) des Pufferbehälters
(10) durch zweite Verbindungsmittel (24) verbunden ist, und
- einen Hochdrucklagerbehälter (4) des Härtgases (6) im flüssigen Zustand unter einem
Lagerdruck (PLager) zwischen 15 und 40 bar, verbunden mit einem Eingang (16) des Verdampfers (8) durch
dritte Verbindungsmittel (18);
- wobei die zweiten Verbindungsmittel kein Gasverdichtungsmittel zwischen dem Verdampfer
und dem Pufferbehälter haben.
2. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Verschlussmittel (34) die ersten Verbindungsmittel (32) in einen Pufferteil,
der mit dem Pufferbehälter (10) verbunden ist, und in einen Zellenteil, der mit der
Härtzelle (12) verbunden ist, unterteilen, und dadurch, dass das Volumen (VPuffer) des Pufferbehälters (10) und das Volumen (Vct) des Pufferteils der Verbindungsmittel (32) ein Effektivpuffervolumen (VPuffer-eff) bilden, während das Volumen (VZelle) der Härtzelle (12) und das Volumen (Vcc) des Zellenteils der Verbindungsmittel (32) ein Effektivzellenvolumen (VZellen-eff) bilden, und dadurch, dass das Effektivpuffervolumen (VPuffer-eff)größer ist als das Effektivzellenvolumen (VZelle-eff).
3. Anlage nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Effektivpuffervolumen (VPuffer-eff) größer ist als das 1,2-fache des Effektivzellenvolumens (VZelle-eff) und insbesondere zwischen dem 1,4 und 5-fachen diese Volumens liegt.
4. Anlage nach einem der Ansprüche 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, dass der Pufferdruck (P
Puffer) größer ist als der Härtdruck (P
Härt), und
dadurch, dass das Effektivpuffervolumen und das Effektivzellenvolumen durch die folgende
Beziehung verbunden sind
5. Anlage nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, dass das Effektivpuffervolumen und das Effektivzellenvolumen durch die Beziehung

verbunden sind.
6. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Pufferdruck (PPuffer) größer oder gleich dem 1,2-fachen des Härtdrucks (PHärt) ist, und vorzugsweise zwischen dem 1,2 und 1,8-fachen dieses Drucks liegt.
7. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Pufferdruck (PPuffer) zwischen 15 und 35 bar liegt.
8. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Härtdruck (PHärt) zwischen 10 und 20 bar liegt.
9. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Härtgashilfsquelle umfasst, die mit dem Pufferbehälter durch Hilfsverbindungsmittel,
die den Pufferbehälter mit Hilfshärtgas versorgen können, verbunden ist.
10. Anlage nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Härtgashilfsquelle mindestens eines der Gase der Gruppe bestehend aus Wasserstoff
und Helium umfasst.
11. Anlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Härtgas Stickstoff ist.
12. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Härtgas CO2 ist oder CO2 umfasst.
13. Gashärtverfahren für Objekte (3), die in einer Härtzelle (12) bei einem Härtdruck
(P
Härt) zwischen 10 und 25 bar zu härten sind, gemäß welchem:
A/ man die Härtgaszelle mit Hilfe von Liefermitteln von Härtgas unter Druck, die an
diese Zelle angeschlossen sind, beliefert, wobei die Gasliefermittel Folgendes umfassen:
i) einen Pufferbehälter (10), der geeignet ist, um das Härtgas (6) zu enthalten und
um einem bestimmten Pufferdruck (PPuffer) des Härtgases standzuhalten,
j) erste Gasverbindungsmittel (32), die den Pufferbehälter (10) mit der Härtzelle
(12) verbinden,
k) steuerbare erste Verschlussmittel (34) der ersten Verbindungsmittel (32);
l) Gasspeisemittel (4, 8, 18, 24, 26) des Pufferbehälters (10) unter einem Druck,
der höher ist als der Luftdruck, Folgendes umfassend:
- einen Verdampfer (8), dessen Ausgang (20) mit einem Eingang (22) des Pufferbehälters
(10) durch zweite Verbindungsmittel (24) verbunden ist, und
- einen Hochdrucklagerbehälter (4) des Härtgases (6) im flüssigen Zustand unter einem
Lagerdruck (PLager) zwischen 15 und 40 bar, der an einen Eingang (16) des Verdampfers (8) durch dritte
Verbindungsmittel (18) angeschlossen ist;
- wobei die zweiten Verbindungsmittel keine Gasverdichtungsmittel zwischen dem Verdampfer
und dem Pufferbehälter haben;
B/ der Pufferbehälter (10) mit Härtgas mit dem Pufferdruck (PPuffer) gefüllt ist;
C/ das zu härtende Objekt (3) in der Härtzelle (12) angeordnet ist;
D/ die ersten steuerbaren Verschlussmittel (34) offen sind und eine Verbindung zwischen
dem Pufferbehälter (10) und der Härtzelle (12) bis zu dem Erstellen des Härtdrucks
(PHärt) in der Härtzelle (12) herstellen,
E/ das zu härtende Objekt (30) auf eine bestimmte Temperatur abgekühlt ist, und
F/ das gehärtete Objekt (3) aus der Härtzelle (12) entnommen wird.
1. Gas quenching plant of the type comprising:
- a quenching cell (12) intended to receive objects (3) to be quenched and suitable
for withstanding a specified quenching pressure (Pquench) of the quench gas, which pressure is between 10 and 25 bar; and
- pressurized quench gas delivery means connected to this cell, the gas delivery means
comprising:
i) a buffer tank (10) suitable for containing the quench gas (6) and for withstanding
a specified buffer pressure (Pbuffer) of the quench gas,
j) first gas connecting means (32) that connect the buffer tank (10) to the quenching
cell (12),
k) first controllable shut-off means (34) of the said first connecting means (32)
and
l) means (4, 8, 18, 24, 26) for feeding the buffer tank (10) with quench gas at a
pressure above atmospheric pressure comprising:
- an evaporator (8), the outlet (20) of which is connected to an inlet (22) of the
buffer tank (10) via second connecting means (24) and
- a high-pressure storage tank (4) for storing the quench gas (6) in the liquid state,
under a storage pressure (Pstorage) between 15 and 40 bar, the said high-pressure storage tank being connected to an
inlet (16) of the evaporator (8) via third connecting means (18); and
- the said second connecting means having no gas compression means between the evaporator
and the buffer tank.
2. Plant according to Claim 1, characterized in that the first shut-off means (34) divide the said first connecting means (32) into a
buffer part associated with the buffer tank (10) and into a cell part associated with
the quenching cell (12) and in that the volume (Vbuffer) of the buffer tank (10) and the volume (Vct) of the buffer part of the connecting means (32) form an effective buffer volume
(Vbuffer,eff), whereas the volume (Vcell) of the quenching cell (12) and the volume (Vcc) of the cell part of the connecting means (32) form an effective cell volume (Vcell,eff), and in that the effective buffer volume (Vbuffer,eff) is greater than the effective cell volume (Vcell,eff).
3. Plant according to Claim 2, characterized in that the effective buffer volume (Vbuffer,eff) is greater than 1.2 times the effective cell volume (Vcell,eff), and especially between 1.4 times and 5 times this volume.
4. Plant according to either of Claims 2 and 3,
characterized in that the buffer pressure (P
buffer) is higher than the quenching pressure (P
quench), and
in that the effective buffer volume and the effective cell volume are related by the relationship:
5. Plant according to Claim 4,
characterized in that the effective buffer volume and the effective cell volume are related by the equation:
6. Plant according to any one of the preceding claims, characterized in that the buffer pressure (Pbuffer) is greater than or equal to 1.2 times the quenching pressure (Pquench) and is preferably between 1.2 and 1.8 times this pressure.
7. Plant according to any one of the preceding claims, characterized in that the buffer pressure (Pbuffer) is between 15 and 35 bar.
8. Plant according to any one of Claims 1 to 7, characterized in that the quenching pressure (Pquench) is between 10 and 20 bar.
9. Plant according to one of the preceding claims, characterized in that it includes an auxiliary quench gas supply connected to the buffer tank via auxiliary
connecting means that are capable of supplying the buffer tank with auxiliary quench
gas.
10. Plant according to Claim 10, characterized in that the said auxiliary quench gas supply comprises at least one of the gases of the group
formed by hydrogen and helium.
11. Plant according to any one of the preceding claims, characterized in that the said quench gas is nitrogen.
12. Plant according to any one of Claims 1 to 11, characterized in that the said quench gas is CO2 or comprises CO2.
13. Process for the gas-quenching of objects (3) to be quenched, in a quenching cell (12),
at a quenching pressure (P
quench) of between 10 and 25 bar, in which:
A/ quench gas is delivered to the cell by pressurized quench gas delivery means that
are connected to this cell, the gas delivery means comprising:
i) a buffer tank (10) suitable for containing the quench gas (6) and for withstanding
a specified buffer pressure (Pbuffer) of the quench gas,
j) first gas connecting means (32) that connect the buffer tank (10) to the quenching
cell (12),
k) first controllable shut-off means (34) of the said first connecting means (32)
and
l) means (4, 8, 18, 24, 26) for feeding the buffer tank (10) with quench gas at a
pressure above atmospheric pressure comprising:
- an evaporator (8), the outlet (20) of which is connected to an inlet (22) of the
buffer tank (10) via second connecting means (24) and
- a high-pressure storage tank (4) for storing the quench gas (6) in the liquid state,
under a storage pressure (Pstorage) between 15 and 40 bar, the said high-pressure storage tank being connected to an
inlet (16) of the evaporator (8) via third connecting means (18);
- the said second connecting means having no gas compression means between the evaporator
and the buffer tank:
B/ the buffer tank (10) is filled with quench gas at the buffer pressure (Pbuffer);
C/ the object (3) to be quenched is placed in the quenching cell (12);
D/ the first controllable shut-off means (34) are opened, establishing a connection
between the buffer tank (10) and the quenching cell (12) until the quenching pressure
(Pquench) is established in the quenching cell (12);
E/ the object (30) to be quenched is cooled to a specified temperature; and
F/ the quenched object (3) is removed from the quenching cell (12).