(19)
(11) EP 1 481 287 A2

(12)

(88) Veröffentlichungstag A3:
19.02.2004

(43) Veröffentlichungstag:
01.12.2004  Patentblatt  2004/49

(21) Anmeldenummer: 03711941.9

(22) Anmeldetag:  07.03.2003
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC)7: G03F 7/20, B08B 7/00
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2003/002372
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2003/075098 (12.09.2003 Gazette  2003/37)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
AL LT LV MK

(30) Priorität: 07.03.2002 DE 10209493

(71) Anmelder: Carl Zeiss SMT AG
73447 Oberkochen (DE)

(72) Erfinder:
  • WEDOWSKI, Marco
    73431 Aalen (DE)
  • STIETZ, Frank
    73466 Lauchheim (DE)
  • MERTENS, Bas
    NL-2517 RK Den Haag (NL)
  • KLEIN, Roman
    12163 Berlin (DE)

(74) Vertreter: Fuchs Mehler Weiss & Fritzsche 
PatentanwälteSöhnleinstrasse 8
65201 Wiesbaden
65201 Wiesbaden (DE)

   


(54) VORRICHTUNG, EUV-LITHOGRAPHIEGERÄT UND VERFAHREN ZUR VERMEIDUNG UND REINIGUNG VON KONTAMINATION AUF OPTISCHEN ELEMENTEN