Verfahren zur Herstellung von InP-basierten Heterostruktur-Bipolartransistoren auf der Grundlage von III/V-Halbleitern

(19)

(11)

EP 1 494 274 A8

(12)	KORRIGIERTE EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(48)	Corrigendum ausgegeben am:
	13.04.2005 Patentblatt 2005/15

(43)	Veröffentlichungstag:
	05.01.2005 Patentblatt 2005/01

(21)	Anmeldenummer: 04090232.2

(22)	Anmeldetag: 14.06.2004

(51)	Internationale Patentklassifikation (IPC)⁷: H01L 21/331, H01L 21/306

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR
	Benannte Erstreckungsstaaten:
	AL HR LT LV MK

(30)

Priorität:

01.07.2003 DE 10330359

(71)	Anmelder: Forschungsverbund Berlin e.V.
	12489 Berlin (DE)

(72)	Erfinder:
	Kim, Seon-Ohk 50939 Köln (DE) Würfl, Joachim 15738 Zeuthen (DE) Wittrich, Harald 13129 Berlin (DE)

(74)	Vertreter: Hengelhaupt, Jürgen, Dipl.-Ing. et al
	Anwaltskanzlei Gulde Hengelhaupt Ziebig & Schneider Wallstrasse 58/59 10179 Berlin 10179 Berlin (DE)

(54)	Verfahren zur Herstellung von InP-basierten Heterostruktur-Bipolartransistoren auf der Grundlage von III/V-Halbleitern

(57) Mit bekannten Ätzverfahren beobachtet man beim Herstellungsprozess von Bipolartransistoren ein stark anisotropes, das heißt von der Kristallorientierung abhängiges Ätzverhalten.
Vorgeschlagen wird, dass später wegzuätzende Bereiche des III/V-Halbleitermaterials durch Ionenimplantation gezielt geschädigt und anschließend durch nasschemisches Ätzen entfernt werden. Die damit mögliche dreidimensionale Strukturierung der Halbleitergebiete ermöglicht einen hohen Grad an Designfreiheit.