(19)
(11) EP 1 502 153 A2

(12)

(88) Date de publication A3:
04.11.2004

(43) Date de publication:
02.02.2005  Bulletin  2005/05

(21) Numéro de dépôt: 03749925.8

(22) Date de dépôt:  06.05.2003
(51) Int. Cl.7G03F 1/14, G03F 1/00
(86) Numéro de dépôt:
PCT/FR2003/001400
(87) Numéro de publication internationale:
WO 2003/096121 (20.11.2003 Gazette  2003/47)
(84) Etats contractants désignés:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR

(30) Priorité: 07.05.2002 FR 0205718

(71) Demandeur: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
75752 Paris Cédex 15 (FR)

(72) Inventeurs:
  • THONY, Philippe
    F-38134 Saint-Joseph de Rivière (FR)
  • ASPAR, Bernard
    F-38140 RIVES (FR)
  • FANGET, Gilles
    F-38140 REAUMONT (FR)

(74) Mandataire: Poulin, Gérard et al
Brevatome3, rue du Docteur Lancereaux
75008 Paris
75008 Paris (FR)

   


(54) MASQUE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE A ELEMENTS ABSORBEURS/DEPHASEURS INCLUS