(19)
(11)
EP 1 502 153 A2
(12)
(88)
Date de publication A3:
04.11.2004
(43)
Date de publication:
02.02.2005
Bulletin 2005/05
(21)
Numéro de dépôt:
03749925.8
(22)
Date de dépôt:
06.05.2003
(51)
Int. Cl.
7
:
G03F
1/14
,
G03F
1/00
(86)
Numéro de dépôt:
PCT/FR2003/001400
(87)
Numéro de publication internationale:
WO 2003/096121
(
20.11.2003
Gazette 2003/47)
(84)
Etats contractants désignés:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR
(30)
Priorité:
07.05.2002
FR 0205718
(71)
Demandeur:
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
75752 Paris Cédex 15 (FR)
(72)
Inventeurs:
THONY, Philippe
F-38134 Saint-Joseph de Rivière (FR)
ASPAR, Bernard
F-38140 RIVES (FR)
FANGET, Gilles
F-38140 REAUMONT (FR)
(74)
Mandataire:
Poulin, Gérard et al
Brevatome3, rue du Docteur Lancereaux
75008 Paris
75008 Paris (FR)
(54)
MASQUE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE A ELEMENTS ABSORBEURS/DEPHASEURS INCLUS