POLYMERISIERBARE ZUSAMMENSETZUNG, POLYMER, RESIST UND LITHOGRAPHIEVERFAHREN - Patent 1523698

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EP 1 523 698 A1

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(43)	Veröffentlichungstag:
	20.04.2005 Patentblatt 2005/16

(21)	Anmeldenummer: 03787737.0

(22)	Anmeldetag: 21.07.2003

(51)	Internationale Patentklassifikation (IPC)⁷: G03F 7/075, C08F 30/08, C08F 230/08, G03F 7/039

(86)	Internationale Anmeldenummer:
	PCT/DE2003/002502

(87)	Internationale Veröffentlichungsnummer:
	WO 2004/017142 (26.02.2004 Gazette 2004/09)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR
	Benannte Erstreckungsstaaten:
	AL LT LV MK

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Priorität:

22.07.2002 DE 10233849

(71)	Anmelder: Infineon Technologies AG
	81669 München (DE)

(72)	Erfinder:
	ELIAN, Klaus 91088 Erlangen (DE)

(74)	Vertreter: Gross, Felix, Dr. et al
	PatentanwälteMaikowski & NinnemannPostfach 15 09 20 10671 Berlin 10671 Berlin (DE)

(54)	POLYMERISIERBARE ZUSAMMENSETZUNG, POLYMER, RESIST UND LITHOGRAPHIEVERFAHREN