CHEMISAGE CHAUFFANT POUR REACTEUR DE GRAVURE PLASMA, ET PROCEDE DE GRAVURE POUR SA MISE EN OEUVRE - Patent 1523754

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EP 1 523 754 A2

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(88)	Date de publication A3:
	08.04.2004

(43)	Date de publication:
	20.04.2005 Bulletin 2005/16

(21)	Numéro de dépôt: 03763950.7

(22)	Date de dépôt: 10.07.2003

(51)	Int. Cl.⁷: H01J 37/32

(86)	Numéro de dépôt:
	PCT/FR2003/002156

(87)	Numéro de publication internationale:
	WO 2004/008477 (22.01.2004 Gazette 2004/04)

(84)	Etats contractants désignés:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR

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Priorité:

11.07.2002 FR 0208728

(71)	Demandeur: ALCATEL
	75008 Paris (FR)

(72)	Inventeur:
	PUECH, Michel F-74370 Metz Tessy (FR)

(74)	Mandataire: Sciaux, Edmond
	COMPAGNIE FINANCIERE ALCATELDépartement Propriété Industrielle54, rue La Boétie 75008 Paris 75008 Paris (FR)

(54)	CHEMISAGE CHAUFFANT POUR REACTEUR DE GRAVURE PLASMA, ET PROCEDE DE GRAVURE POUR SA MISE EN OEUVRE