PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA GRAVURE DE SUBSTRAT PAR PLASMA INDUCATIF A TRES FORTE PUISSANCE - Patent 1529305

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EP 1 529 305 A2

(12)

(88)	Date de publication A3:
	10.03.2005

(43)	Date de publication:
	11.05.2005 Bulletin 2005/19

(21)	Numéro de dépôt: 03763951.5

(22)	Date de dépôt: 10.07.2003

(51)	Int. Cl.⁷: H01J 37/32

(86)	Numéro de dépôt:
	PCT/FR2003/002157

(87)	Numéro de publication internationale:
	WO 2004/008816 (22.01.2004 Gazette 2004/04)

(84)	Etats contractants désignés:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LI LU MC NL PT RO SE SI SK TR

(30)

Priorité:

11.07.2002 FR 0208729

(71)	Demandeur: ALCATEL
	75008 Paris (FR)

(72)	Inventeur:
	PUECH, Michel F-74370 Metz Tessy (FR)

(74)	Mandataire: Sciaux, Edmond
	COMPAGNIE FINANCIERE ALCATELDépartement Propriété Industrielle54, rue La Boétie 75008 Paris 75008 Paris (FR)

(54)	PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA GRAVURE DE SUBSTRAT PAR PLASMA INDUCATIF A TRES FORTE PUISSANCE