HOCHEMPFINDLICHER UND HOCHAUFLÖSENDER FOTORESIST FÜR ELEKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE - Patent 1540421

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EP 1 540 421 A1

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(43)	Veröffentlichungstag:
	15.06.2005 Patentblatt 2005/24

(21)	Anmeldenummer: 03798060.4

(22)	Anmeldetag: 03.09.2003

(51)	Internationale Patentklassifikation (IPC)⁷: G03F 7/004, G03F 7/039, G03F 7/40

(86)	Internationale Anmeldenummer:
	PCT/DE2003/002923

(87)	Internationale Veröffentlichungsnummer:
	WO 2004/029717 (08.04.2004 Gazette 2004/15)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	DE FR GB IE IT NL

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Priorität:

20.09.2002 DE 10243742

(71)	Anmelder: Infineon Technologies AG
	81669 München (DE)

(72)	Erfinder:
	KIRCH, Oliver 91058 Erlangen (DE)

(74)	Vertreter: Kottmann, Heinz Dieter, Dipl.-Ing.
	Patentanwälte,Müller . Hoffmann & Partner,Innere Wiener Strasse 17 81667 München 81667 München (DE)

(54)	HOCHEMPFINDLICHER UND HOCHAUFLÖSENDER FOTORESIST FÜR ELEKTRONENSTRAHL-LITHOGRAPHIE