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(11) | EP 1 570 951 A3 |
(12) | EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG |
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(54) | Verfahren zur Herstellung von Wafern mit defektarmen Oberflächen, die Verwendung solcher Wafer and damit erhaltene elektronische Bauteile |
(57) Es wird ein Verfahren zur Herstellung von insbesonders spannungsarmen Waferscheiben
mit mindestens einer auf an sich bekannte Weise zu beschichtenden aktiven Oberfläche
beschrieben, wobei die aktive Oberfläche arm an Beschichtungsfehler erzeugenden Defekten
ist. Das Verfahren umfasst ein Glätten der Oberfläche mittels eines Polierschritts,
bei dem die aktive Oberfläche mittels eines Polierelements poliert wird. Dabei wird
die Waferoberfläche mit einer sich ändernden Polierrichtung vom Polierwerkzeug derart
überstrichen, dass jede Stelle der Oberfläche in jeder Richtung eines 360°Vollwinkels
statistisch gleichmäßig überstrichen wird.
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