(19)
(11) EP 1 688 964 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
13.08.2008  Patentblatt  2008/33

(43) Veröffentlichungstag A2:
09.08.2006  Patentblatt  2006/32

(21) Anmeldenummer: 06002118.5

(22) Anmeldetag:  02.02.2006
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G21K 1/087(2006.01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
AL BA HR MK YU

(30) Priorität: 04.02.2005 DE 102005005801

(71) Anmelder: Leica Microsystems Lithography GmbH
07745 Jena (DE)

(72) Erfinder:
  • Risse, Stefan, Dr.
    07749 Jena (DE)
  • Peschel, Thomas, Dr.
    07743 Jena (DE)
  • Damm, Christoph
    07743 Jena (DE)
  • Gebhardt, Andreas
    99510 Apolda (DE)
  • Rohde, Mathias
    07747 Jena (DE)
  • Schenk, Christoph
    07747 Jena (DE)
  • Elster, Thomas, Dr.
    07745 Jena (DE)
  • Döring, Hans-Joachim
    07749 Jena (DE)
  • Schubert, Gerhard
    07749 Jena (DE)

(74) Vertreter: Freitag, Joachim et al
Patentanwälte Oehmke & Kollegen Neugasse 13
07743 Jena
07743 Jena (DE)

   


(54) Elektrostatisches Ablenksystem für Korpuskularstrahlung


(57) Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.







Recherchenbericht