<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE ep-patent-document PUBLIC "-//EPO//EP PATENT DOCUMENT 1.3//EN" "ep-patent-document-v1-3.dtd">
<ep-patent-document id="EP06002118A3" file="EP06002118NWA3.xml" lang="de" country="EP" doc-number="1688964" kind="A3" date-publ="20080813" status="n" dtd-version="ep-patent-document-v1-3">
<SDOBI lang="de"><B000><eptags><B001EP>ATBECHDEDKESFRGBGRITLILUNLSEMCPTIESILTLVFIROMKCYALTRBGCZEEHUPLSKBAHRISYU........</B001EP><B005EP>J</B005EP><B007EP>DIM360 Ver 2.12 (05 Jun 2008) -  1620000/0</B007EP></eptags></B000><B100><B110>1688964</B110><B120><B121>EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG</B121></B120><B130>A3</B130><B140><date>20080813</date></B140><B190>EP</B190></B100><B200><B210>06002118.5</B210><B220><date>20060202</date></B220><B250>de</B250><B251EP>de</B251EP><B260>de</B260></B200><B300><B310>102005005801</B310><B320><date>20050204</date></B320><B330><ctry>DE</ctry></B330></B300><B400><B405><date>20080813</date><bnum>200833</bnum></B405><B430><date>20060809</date><bnum>200632</bnum></B430></B400><B500><B510EP><classification-ipcr sequence="1"><text>G21K   1/087       20060101AFI20060626BHEP        </text></classification-ipcr></B510EP><B540><B541>de</B541><B542>Elektrostatisches Ablenksystem für Korpuskularstrahlung</B542><B541>en</B541><B542>Electrostatic deflection system for corpuscular radiation</B542><B541>fr</B541><B542>Système de déviation électrostatique pour rayonnement corpusculaire</B542></B540><B590><B598>3</B598></B590></B500><B700><B710><B711><snm>Leica Microsystems Lithography GmbH</snm><iid>02886080</iid><irf>B200-11035-EP</irf><adr><str>Göschwitzer Strasse 25</str><city>07745 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B711></B710><B720><B721><snm>Risse, Stefan, Dr.</snm><adr><str>Leo-Sachse-Straße 45</str><city>07749 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Peschel, Thomas, Dr.</snm><adr><str>Closewitzer Straße 21g</str><city>07743 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Damm, Christoph</snm><adr><str>Schäfferstraße 6</str><city>07743 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Gebhardt, Andreas</snm><adr><str>Friedrich-Engels-Straße 28</str><city>99510 Apolda</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Rohde, Mathias</snm><adr><str>Tieckstraße 10</str><city>07747 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Schenk, Christoph</snm><adr><str>Judith-Auer-Straße 19</str><city>07747 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Elster, Thomas, Dr.</snm><adr><str>Grenzstraße 1a</str><city>07745 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Döring, Hans-Joachim</snm><adr><str>Franz-Gresitza-Straße 42</str><city>07749 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721><B721><snm>Schubert, Gerhard</snm><adr><str>Iltisweg 9</str><city>07749 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B721></B720><B740><B741><snm>Freitag, Joachim</snm><sfx>et al</sfx><iid>00064751</iid><adr><str>Patentanwälte 
Oehmke &amp; Kollegen 
Neugasse 13</str><city>07743 Jena</city><ctry>DE</ctry></adr></B741></B740></B700><B800><B840><ctry>AT</ctry><ctry>BE</ctry><ctry>BG</ctry><ctry>CH</ctry><ctry>CY</ctry><ctry>CZ</ctry><ctry>DE</ctry><ctry>DK</ctry><ctry>EE</ctry><ctry>ES</ctry><ctry>FI</ctry><ctry>FR</ctry><ctry>GB</ctry><ctry>GR</ctry><ctry>HU</ctry><ctry>IE</ctry><ctry>IS</ctry><ctry>IT</ctry><ctry>LI</ctry><ctry>LT</ctry><ctry>LU</ctry><ctry>LV</ctry><ctry>MC</ctry><ctry>NL</ctry><ctry>PL</ctry><ctry>PT</ctry><ctry>RO</ctry><ctry>SE</ctry><ctry>SI</ctry><ctry>SK</ctry><ctry>TR</ctry></B840><B844EP><B845EP><ctry>AL</ctry></B845EP><B845EP><ctry>BA</ctry></B845EP><B845EP><ctry>HR</ctry></B845EP><B845EP><ctry>MK</ctry></B845EP><B845EP><ctry>YU</ctry></B845EP></B844EP><B880><date>20080813</date><bnum>200833</bnum></B880></B800></SDOBI>
<abstract id="abst" lang="de">
<p id="pa01" num="0001">Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.
<img id="iaf01" file="imgaf001.tif" wi="84" he="55" img-content="drawing" img-format="tif"/></p>
</abstract>
<search-report-data id="srep" lang="de" srep-office="EP" date-produced=""><doc-page id="srep0001" file="srep0001.tif" wi="150" he="233" type="tif"/><doc-page id="srep0002" file="srep0002.tif" wi="157" he="233" type="tif"/></search-report-data>
</ep-patent-document>
