MASQUE A MOTIFS PROTEGES, POUR LA LITHOGRAPHIE PAR REFLEXION DANS LE DOMAINE DE L’EXTREME UV ET DES RAYONS X MOUS - Patent 1709484

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EP 1 709 484 A2

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(43)	Date de publication:
	11.10.2006 Bulletin 2006/41

(21)	Numéro de dépôt: 05717492.2

(22)	Date de dépôt: 26.01.2005

(51)

Int. Cl.:

G03F 1/00^(2006.01)

(86)	Numéro de dépôt:
	PCT/FR2005/000168

(87)	Numéro de publication internationale:
	WO 2005/083516 (09.09.2005 Gazette 2005/36)

(84)	Etats contractants désignés:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR
	Etats d'extension désignés:
	AL BA HR LV MK YU

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Priorité:

30.01.2004 FR 0400907

(71)	Demandeur: SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEES SOPRA
	92270 Bois Colombes (FR)

(72)	Inventeur:
	STEHLE, Jean-Louis F-92700 Colombes (FR)

(74)	Mandataire: Plaçais, Jean Yves
	Cabinet Netter, 36, avenue Hoche 75008 Paris 75008 Paris (FR)

(54)	MASQUE A MOTIFS PROTEGES, POUR LA LITHOGRAPHIE PAR REFLEXION DANS LE DOMAINE DE L’EXTREME UV ET DES RAYONS X MOUS