(19)
(11) EP 1 721 215 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
15.11.2006  Patentblatt  2006/46

(21) Anmeldenummer: 05706527.8

(22) Anmeldetag:  23.02.2005
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G03F 1/14(2006.01)
 G03F 7/20(2006.01)
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/CH2005/000107
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2005/081059 (01.09.2005 Gazette  2005/35)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR

(30) Priorität: 25.02.2004 US 547694 P

(71) Anmelder: OC Oerlikon Balzers AG
9496 Balzers (LI)

(72) Erfinder:
  • WIKI, Max
    CH-1024 Ecublens (CH)
  • LANKER, Michael
    CH-9436 Balgach (CH)

   


(54) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON MASKEN FÜR PHOTOLITHOGRAPHIE UND VERWENDUNG SOLCHER MASKEN