(19)
(11)
EP 1 976 797 A2
(12)
(88)
Veröffentlichungstag A3:
13.09.2007
(43)
Veröffentlichungstag:
08.10.2008
Patentblatt 2008/41
(21)
Anmeldenummer:
07702708.4
(22)
Anmeldetag:
12.01.2007
(51)
Internationale Patentklassifikation (IPC):
C01B
33/00
(2006.01)
A61K
9/16
(2006.01)
A01N
25/08
(2006.01)
A61K
9/48
(2006.01)
(86)
Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2007/000235
(87)
Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2007/080117
(
19.07.2007
Gazette 2007/29)
(84)
Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR
(30)
Priorität:
14.01.2006
DE 102006001941
(71)
Anmelder:
Bayer Technology Services GmbH
51368 Leverkusen (DE)
(72)
Erfinder:
NENNEMANN, Arno
51469 Bergisch Gladbach (DE)
KIJLSTRA, Johan
51519 Odenthal (DE)
RUDHARDT, Daniel
50823 Köln (DE)
SICKING, Frank
51491 Overath (DE)
(54)
SCHICHTSILICATFORMULIERUNG FÜR EINE KONTROLLIERTE WIRKSTOFFFREISETZUNG