VERFAHREN ZUR REGELUNG EINES REAKTIVEN HOCHLEISTUNGS-PULS-MAGNETRONSPUTTERPROZESSES UND VORRICHTUNG HIERZU - Patent 2036113

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EP 2 036 113 A1

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(43)	Veröffentlichungstag:
	18.03.2009 Patentblatt 2009/12

(21)	Anmeldenummer: 07764755.0

(22)	Anmeldetag: 20.06.2007

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Internationale Patentklassifikation (IPC):

H01J 37/34^(2006.01)
C23C 14/34^(2006.01)

C23C 14/00^(2006.01)

(86)	Internationale Anmeldenummer:
	PCT/EP2007/005442

(87)	Internationale Veröffentlichungsnummer:
	WO 2007/147582 (27.12.2007 Gazette 2007/52)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL PL PT RO SE SI SK TR
	Benannte Erstreckungsstaaten:
	AL BA HR MK RS

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Priorität:

20.06.2006 DE 102006028303
22.12.2006 DE 102006061324

(71)	Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
	80686 München (DE)

(72)	Erfinder:
	RUSKE, Florian 38118 Braunschweig (DE) SITTINGER, Volker 38106 Braunschweig (DE) SZYSZKA, Bernd 38108 Braunschweig (DE)

(74)	Vertreter: Pfenning, Meinig & Partner GbR
	Patent- und Rechtsanwälte Theresienhöhe 13 80339 München 80339 München (DE)

(54)	VERFAHREN ZUR REGELUNG EINES REAKTIVEN HOCHLEISTUNGS-PULS-MAGNETRONSPUTTERPROZESSES UND VORRICHTUNG HIERZU