(19)
(11) EP 2 055 395 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
30.03.2011  Patentblatt  2011/13

(43) Veröffentlichungstag A2:
06.05.2009  Patentblatt  2009/19

(21) Anmeldenummer: 08167886.4

(22) Anmeldetag:  30.10.2008
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
B07B 1/28(2006.01)
B07B 13/05(2006.01)
B07B 13/16(2006.01)
 B07B 13/00(2006.01)
B07B 13/10(2006.01)
B07B 4/08(2006.01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
AL BA MK RS

(30) Priorität: 02.11.2007 DE 102007052473

(71) Anmelder: SCHOTT Solar AG
63755 Alzenau (DE)

(72) Erfinder:
  • Von Campe, Dr., Hilmar
    61352, Bad Homburg (DE)
  • Buss, Werner
    63456, Hanau (DE)

(74) Vertreter: Stoffregen, Hans-Herbert 
Patentanwalt Friedrich-Ebert-Anlage 11b
63450 Hanau
63450 Hanau (DE)

   


(54) Verfahren und Vorrichtung zum Aussieben von Partikeln


(57) Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Aussieben von ersten Partikeln aus einem erste und zweite Partikel umfassenden Granulat durch Fördern des Granulats entlang einer von einer Vibrationseinrichtung (10) ausgehenden ersten Siebfläche (18), wobei die ersten Partikel ein Aspektverhältnis a1 mit a1 > 3 : 1, und die zweiten Partikel eine Dimensionierung aufweisen, die ein Hindurchfallen durch die Maschen der ersten Siebfläche (18) ermöglicht. Um aus dem Granulat eine bestimmte Materialfraktion abzusieben, die sich in zumindest einer Dimension geometrisch von dem übrigen Material unterscheidet, wird vorgeschlagen, dass das Granulat entlang der Siebfläche (18) zwischen dieser und einer sich entlang der Siebfläche (18) erstreckenden Abdeckung (42,114) gefördert wird und dass durch die Abdeckung (42,114) bedingt die ersten Partikel (38) mit ihren Längsachsen entlang der Siebfläche (18) verlaufend ausgerichtet werden, wobei Längenerstreckung eines jeden ersten Partikels (38) größer als Maschenweite des die erste Siebfläche (18) bildenden Siebs ist und Längenerstreckung der zweiten Partikel gleich oder kleiner als die Maschenweite ist.







Recherchenbericht