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(11) |
EP 2 056 333 A8 |
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KORRIGIERTE EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG |
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Hinweis: Bibliographie entspricht dem neuesten Stand |
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Korrekturinformation: |
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Korrigierte Fassung Nr. 1 (W1 A1) |
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Corrigendum ausgegeben am: |
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08.07.2009 Patentblatt 2009/28 |
| (43) |
Veröffentlichungstag: |
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06.05.2009 Patentblatt 2009/19 |
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Anmeldetag: 29.10.2007 |
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| (51) |
Internationale Patentklassifikation (IPC):
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| (84) |
Benannte Vertragsstaaten: |
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AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL PL PT RO
SE SI SK TR |
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Benannte Erstreckungsstaaten: |
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AL BA HR MK RS |
| (71) |
Anmelder: ION-TOF Technologies GmbH |
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48149 Münster (DE) |
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Erfinder: |
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- Kollmer, Felix Dr.
48341 Altenberge (DE)
- Hoerster, Peter
48149 Münster (DE)
- Dütting, Andreas
48653 Coesfeld (DE)
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| (74) |
Vertreter: Pfenning, Meinig & Partner GbR |
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Patent- und Rechtsanwälte
Theresienhöhe 13
80339 München
80339 München (DE) |
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| (54) |
Flüssigmetallionenquelle, Sekundärionenmassenspektrometer, sekundärionenmassenspektrometisches
Analyseverfahren sowie deren Verwendungen |
(57) Die Erfindung betrifft eine Flüssigmetallionenquelle, ein Sekundärmassenspektrometer
sowie ein entsprechendes Analyseverfahren und deren Verwendungen. Insbesondere betrifft
es ein massenspektrometrisches Verfahren nach dem Gentle SIMS (G-SIMS)-Verfahren.
Hierfür wird eine Flüssigmetallionenquelle verwendet, die zum einen ein erstes Metall
mit einem Atomgewicht ≥ 190 U und zum anderen ein anderes Metall mit einem Atomgewicht
≤ 90 U enthält.
Erfindungsgemäß werden nun für das G-SIMS-Verfahren abwechselnd aus dem Primärionenstrahl
eine der beiden Ionenarten ausgefiltert und als massereiner Primärionenstrahl auf
das Target gerichtet.