(57) Die Erfindung betrifft eine Blende (100), insbesondere für eine bildgebende Einrichtung
(200), welche geeignet ist, von einer Strahlungsquelle (10) ausgehende, insbesondere
hochenergetische, Strahlung (12) zu begrenzen und entlang einer optischen Achse x nach dem Lochkameraprinzip auf einen Abbildungsbereich (14) zu richten, wobei die
Blende (100) die Strahlung (12) wenigstens teilweise absorbierende Bereiche (18, 28a,
28b, 26) umfasst und wobei in der Blende (100) ein erster Spalt (32) oder zumindest
ein erster die Strahlung (12) gering absorbierender Bereich vorhanden ist, welcher
mindestens eine erste nicht-ebene Oberfläche und eine zweite nicht-ebene Oberfläche
aufweist, welche ihn von den die Strahlung (12) wenigstens teilweise absorbierenden
Bereichen (18, 28a, 28b, 26) abgrenzen; wobei die Kontur der ersten nicht-ebenen Oberfläche
zumindest teilweise durch eine Funktion z(x,y)= f(y)*x+n(y) beschrieben werden kann und wobei die Kontur der zweiten nicht-ebenen Oberfläche
zumindest teilweise komplementär zu der Kontur der ersten nicht-ebenen Oberfläche
ist.
Es ist vorgesehen, dass in der Blende (100) mindestens ein zusätzlicher Spalt (32a,
32b) oder zumindest mindestens ein zusätzlicher die Strahlung (12) gering absorbierender
Bereich vorhanden ist, wobei jeder zusätzliche Spalt (32a, 32b) oder die Strahlung
(12) gering absorbierende Bereich jeweils mindestens eine erste zusätzliche nicht-ebene
Oberfläche und eine zweite zusätzliche nicht-ebene Oberfläche aufweist, welche ihn
von den die Strahlung (12) wenigstens teilweise absorbierenden Bereichen (18, 28a,
28b, 26) abgrenzen, und wobei zu jedem zusätzlichen Spalt (32a, 32b) oder die Strahlung
(12) gering absorbierenden Bereich eine zugehörige affine Abbildung existiert, wobei
jeweils die Kontur der ersten zusätzlichen nicht-ebenen Oberfläche nach Anwendung
der zugehörigen affinen Abbildung zumindest teilweise durch die Funktion z(x,y) beschrieben werden kann und wobei jeweils die Kontur der zweiten zusätzlichen nicht-ebenen
Oberfläche zumindest teilweise komplementär zu der Kontur der ersten zusätzlichen
nicht-ebenen Oberfläche ist.
|
|
