(19)
(11) EP 2 172 570 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
07.09.2011  Patentblatt  2011/36

(43) Veröffentlichungstag A2:
07.04.2010  Patentblatt  2010/14

(21) Anmeldenummer: 09008503.6

(22) Anmeldetag:  30.06.2009
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
C21C 7/10(2006.01)
F27D 3/18(2006.01)
 F27D 3/16(2006.01)
F27D 99/00(2010.01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
AL BA RS

(30) Priorität: 01.10.2008 AT 15382008

(71) Anmelder: Inteco special melting technologies GmbH
8600 Bruck/Mur (AT)

(72) Erfinder:
  • Holzgruber, Harald, Dipl.-Ing.
    8600 Bruck an der Mur (AT)
  • Luven, Michael, Dipl.-Ing.
    47906 Kempen (DE)

(74) Vertreter: Wagner, Kilian et al
Hiebsch Behrmann Wagner Patentanwälte Hegau-Tower Maggistrasse 5 (10. OG)
78224 Singen
78224 Singen (DE)

   


(54) Lanzendurchführung für Vakuumbehandlungsanlagen


(57) Zur metallurgischen Behandlung von Stahlschmelzen wird eine Lanze (7) durch ein Führungsrohr (8) mit Stopfbüchse (14) in ein Reaktionsgefäß geführt, auf welchem sich ein wassergekühlter Stutzen (1) mit Anschlussflansch (4) und einem vakuumdichten Gehäuse (5) mit Gehäuseflansch (3) befindet sowie einem zwischen Gehäuse und Stopfbüchsen-Führungsrohr (8) eingebauten Kompensator (12) zum Ausgleich von lateralen als auch axialen oder angularen Relativbewegungen zwischen Führungsrohr (8) und Gehäuse (5) während des Bewegungsablaufs. Dabei wird der untere Flansch des Kompensators (12) mit einem am Führungsrohr (8) mit Stopfbüchse (14) angebrachten Flansch (10) verbunden und der obere Flansch des Kompensators (12) mit dem oberen Gehäuseflansch (11) verschraubt, so daß der im Inneren zwischen den Kompensatorwänden und den Flanschen einerseits und der Außenfläche des Führungsrohres (8) andererseits gebildete ringförmige Raum (6) in Verbindung mit der Außenluft steht, wogegen der den Kompensator (12) umgebende Innenraum (5) der Gehäusekammer mit dem im Reaktionsgefäß herrschenden Vakuumdruck in Verbindung steht.







Recherchenbericht