(57) Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen weist eine längliche
UV-Lampe (3) mit Reflektor (4) entlang einer Längsachse (A) auf. Die Lampe (3) ist
derart in einem Gehäuse (1) angeordnet, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt an einer
Austrittsseite aus dem Gehäuse (1) austreten. Es ist eine erste Kühlanordnung (7,
8, 13, 14) zum Kühlen der UV-Lampe (3) durch einen Kühlgasstrom vorgesehen und eine
zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) zum Kühlen des Kühlgasstromes mittels eines Fluids.
Die Austrittsseite des Gehäuses (1) ist durch eine UV-durchlässige Platte (2) abgeschlossen.
Zum Kühlen der UV-Lampe (3) sind nun mindestens zwei quer zur Längsachse (A) blasende
Einheiten mit je einem Gebläse (8) vorgesehen, durch deren Luftführung die Kühlluft
auf die UV-Lampe (3) leitbar, an den Wandungen des Reflektors (4) vorbei leitbar und
schliesslich wieder dem Gebläse (8) zuführbar ist. Die zweite Kühlanordnung (5, 5',
17) weist Kühlflächen (13, 15) am Wege der Kühlluft auf und führt so die Wärme nach
aussen ab.
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