(19)
(11) EP 2 195 472 A1

(12)

(43) Date de publication:
16.06.2010  Bulletin  2010/24

(21) Numéro de dépôt: 08837638.9

(22) Date de dépôt:  16.09.2008
(51) Int. Cl.: 
C23C 16/511(2006.01)
H01J 37/32(2006.01)
H05H 1/46(2006.01)
(86) Numéro de dépôt:
PCT/FR2008/051660
(87) Numéro de publication internationale:
WO 2009/047442 (16.04.2009 Gazette  2009/16)
(84) Etats contractants désignés:
AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MT NL NO PL PT RO SE SI SK TR
Etats d'extension désignés:
AL BA MK RS

(30) Priorité: 20.09.2007 FR 0757720

(71) Demandeur: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
75007 Paris (FR)

(72) Inventeurs:
  • ROSTAING, Jean-Christophe
    F-78000 Versailles (FR)
  • GUERIN, Daniel
    F-77500 Chelles (FR)
  • NOEL, Frédéric
    F-45140 Saint Jean de la Ruelle (FR)
  • DANIEL, Hélène
    F-78150 Le Chesnay (FR)

(74) Mandataire: Mellul-Bendelac, Sylvie Lisette 
L'Air Liquide, Service Propriété Industrielle, 75, Quai d'Orsay
75321 Paris Cedex 07
75321 Paris Cedex 07 (FR)

   


(54) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DEPOT CVD ASSISTE PAR PLASMA TRES HAUTE FREQUENCE A LA PRESSION ATMOSPHERIQUE, ET SES APPLICATIONS