(19) |
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(11) |
EP 2 236 163 A3 |
(12) |
EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG |
(88) |
Veröffentlichungstag A3: |
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15.01.2014 Patentblatt 2014/03 |
(43) |
Veröffentlichungstag A2: |
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06.10.2010 Patentblatt 2010/40 |
(22) |
Anmeldetag: 09.03.2010 |
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(51) |
Internationale Patentklassifikation (IPC):
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(84) |
Benannte Vertragsstaaten: |
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AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO
PL PT RO SE SI SK SM TR |
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Benannte Erstreckungsstaaten: |
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AL BA ME RS |
(30) |
Priorität: |
02.04.2009 DE 102009002153
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(71) |
Anmelder: Biotronik VI Patent AG |
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6341 Baar (CH) |
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(72) |
Erfinder: |
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- Hausbeck, Timo
91052, Erlangen (DE)
- Rzany, Alexander
90449, Nürnberg (DE)
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(74) |
Vertreter: Lindner-Vogt, Karin L. |
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Biotronik SE & Co. KG
Woermannkehre 1 12359 Berlin 12359 Berlin (DE) |
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(54) |
Implantat aus einem biokorrodierbaren metallischen Werkstoff mit einer nanopartikel-haltigen
Silanbeschichtung und dazugehöriges Herstellungsverfahren |
(57) Die Erfindung betrifft ein Implantat aus einem biokorrodicrbarcn metallischen Werkstoff
mit einer passivierenden Beschichtung aus einer nanopartikel-haltigen Silanbeschichtung
sowie ein dazugehöriges Verfahren zur Herstellung des Implantats. Das Verfahren umfasst
dazu die Schritte:
(i) Bereitstellen eines Rohlings für das Implantat bestehend aus dem biokorrodierbaren
metallischen Werkstoff; und
(ii) Beschichten des Rohlings mit einer homogen-kolloidalen Lösung aus
A) einem oder mehreren Bis-Silanen der Formel (1):
(RO)
3-Si-X-Si(OR)
3 (1)
wobei R einzeln ausgewählt für C
1-C
10-Alkyl oder C
2-C
10-Acyl steht; und
X eine substituierte oder unsubstituierte C
1-C
20-Alkandiylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte C
1-C
20-Heteroalkandiylgruppe mit 1 bis 5 Heteroatomen ausgewählt aus der Gruppe O, N und
S ist; und
B) Siliziumdioxid-Nanopartikeln mit einem mittleren Partikeldurchmesser im Bereich
von 10 nm bis 1 µm
in Wasser, Ethanol oder einem Gemisch derselben, wobei die Lösung 1 bis 20 Vol.% Bis-Silan
enthält und die Konzentration der Siliziumdioxid-Nanopartikel in der Lösung im Bereich
von 1 bis 100 ppm liegt.