[0001] Die Erfindung betrifft eine Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls sowie
eine Elektrode für eine solche Ionenquelle. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren
zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine solche Ionenquelle.
[0002] Bei einer Partikeltherapie, insbesondere von Krebserkrankungen, wird ein Partikelstrahl
beispielsweise aus Protonen oder Schwerionen, wie z.B. Kohlenstoffionen, erzeugt.
Der Partikelstrahl wird in einem Beschleunigungssystem generiert und in einen Behandlungsraum
geführt und tritt dort über ein Austrittsfenster ein. In einer besonderen Ausführung
kann der Partikelstrahl von dem Beschleunigungssystem abwechselnd in verschiedene
Behandlungsräume gelenkt werden. In dem Bestrahlungsraum ist ein zu therapierender
Patient z.B. auf einem Patiententisch positioniert und gegebenenfalls immobilisiert.
[0003] Zum Erzeugen des Partikelstrahls enthält das Beschleunigungssystem eine Ionenquelle,
beispielsweise eine Elektron-Zyklotron-Resonanz-Ionenquelle (EZR-Ionenquelle). In
der Ionenquelle wird eine gerichtete Bewegung von freien Ionen mit einer bestimmten
Energieverteilung erzeugt, wobei die Austrittsenergie der Ionen sehr exakt ist. Dabei
sind positiv geladene Ionen, wie Protonen oder Kohlenstoffionen, ideal für die Bestrahlung
bestimmter Tumore. Der Grund dafür ist, dass sie mit Hilfe des Beschleunigers auf
hohe Energie gebracht werden können und zum anderen geben sie diese Energie im Körpergewebe
sehr präzise wieder ab. Die in der Ionenquelle erzeugten Partikel laufen in einem
Ringbeschleuniger mit mehr als 50MeV/u auf einer Kreisbahn um. Es wird somit für die
Therapie ein gepulster oder kontinuierlicher Partikelstrahl mit exakt vorher definierter
Energie, Fokussierung und Intensität geliefert.
[0004] Die Ionenquelle umfasst eine Plasmakammer zum Ionisieren eines Betriebsgases, in
der Vakuum herrscht. Um die Plasmakammer sind Permanentmagnete konzentrisch angeordnet,
die das Plasma formen und halten. Das zu ionisierende Gas wird in die Plasmakammer
über ein Verbindungsteil eingespeist. Freie Elektronen in der Plasmakammer, die das
eingespeiste Gas ionisieren, werden durch eine Mikrowellenstrahlung beschleunigt.
Die Mikrowellenstrahlung wird über ein in im Verbindungsteil angeordneten Hohlleiter
ebenfalls in die Plasmakammer eingeleitet. Durch das Verbindungsteil verläuft außerdem
in Richtung der Plasmakammer eine Elektrode, eine so genannte Bias-Elektrode, die
gegenüber einem Gehäuse der Plasmakammer negativ geladen ist und die freien Elektronen
von der Plasmakammer abstößt und diese somit innerhalb der Plasmakammer einschließt.
Die Elektronen erzeugen durch Stoßionisation die Ionen (das Plasma) innerhalb der
Plasmakammer.
[0005] Am Verbindungsteil quer zur Elektrode ist ein Kupplungszylinder, an dem sich seitliche
ein Rohr erstreckt. Durch das Rohr gelangt über eine gebogene Gasleitung, deren Auslass
zum Verbindungsteil hin gerichtet ist, das zu ionisierende Gas ins Verbindungsteil
und von da aus über den Hohlleiter in die Plasmakammer. Am Kupplungszylinder ist eine
Vakuum pumpe vorgesehen, um das Gas, welches nicht in die Plasmakammer gelangt, hinzuleiten.
[0006] Die beschriebene Anordnung zum Einleiten von Gas in die Plasmakammer weist eine Reihe
von Nachteilen auf. Der Durchmesser der Gasleitung variiert in den unterschiedlichen
Abschnitten sehr stark, so dass sich Totzonen für die Gasströmung bilden. Da sich
dadurch die Verweilzeit einiger Gasteilchen deutlich verlängert, kann der Wechsel
von einem Betriebsgas auf ein anderes mehrere Minuten dauern. Zudem wird das Gas aus
der Gasleitung direkt über der Vakuumpumpe in den Kupplungszylinder eingeleitet, so
dass ein Großteil des Gases angesaugt wird und die Plasmakammer nicht erreicht. Der
Anteil vom Gas, der in die Plasmakammer gelangt, hängt von der Effizienz der Vakuumpumpe
ab und kann nur geschätzt werden.
[0007] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine effiziente Gaszufuhr sowie eine schnellere
Reaktionszeit beim Wechseln des Betriebsgases einer Ionenquelle zu ermöglichen.
[0008] Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Ionenquelle zum Erzeugen eines
Partikelstrahls, umfassend eine Plasmakammer und eine Elektrode, die sich zur Plasmakammer
erstreckt, wobei eine Gasleitung für ein zu ionisierendes Gas über die gesamte Länge
der Elektrode parallel zur Elektrode verläuft.
[0009] Bei der Elektrode handelt es sich hierbei um eine in Bezug auf die Ionenquellenspannung
negativ geladene Bias-Elektrode, die zum Abstoßen der Elektronen, die in der Plasmakammer
freigelassen werden, eingesetzt ist.
[0010] Die Erfindung geht von der Überlegung aus, dass eine besonders effiziente Gaszufuhr
vorliegt, indem das zu ionisierende Gas möglichst weit in die Ionenquelle eingeleitet
wird, so dass es in der unmittelbaren Nähe der Plasmakammer aus der Gasleitung hinausströmt
und somit ein sehr großer Anteil von Gasteilchen in die Plasmakammer gelangen. Um
dies zu ermöglichen, wird das Gas nicht "von unten" über einen Kupplungszylinder für
eine Vakuumpumpe eingeleitet, sondern die Gasleitung wird von einer anderen Seite,
nämlich im Bereich der Elektrode eingeführt und weist innerhalb der Ionenquelle einen
geradlinigen Verlauf parallel zur Elektrode auf, d.h. dass der Gasstrom innerhalb
der Ionenquelle umlenkungsfrei fließt. Da die Gasleitung geradlinig ist, ist sie besonders
einfach technisch zu realisieren und in die Ionenquelle einzubringen. Darüber hinaus
weist die Gasleitung insbesondere einen im Wesentlichen konstanten Querschnitt auf,
so dass keine Totzonen entstehen. Außerdem verläuft die Gasleitung entlang der gesamten
Länge der Elektrode, so dass der Gasstrom mindestens so tief in die Ionenquelle eingeleitet
wird, wie sich die Elektrode erstreckt. Die Gasleitung mündet dabei in unmittelbarer
Nähe der Plasmakammer, so dass die Gaszufuhr durch den Betrieb der Vakuumpumpe nicht
beeinträchtigt ist und damit die Effizienz der erzeugten Ionen aus dem eingelassenen
Gas deutlich verbessert.
[0011] Eine konstruktiv besonders einfache Ausführung liegt vor, indem die Gasleitung bevorzugt
innerhalb eines Elektrodenrohrs verläuft. Da die Elektrode im Wesentlichen als Hohlkörper
ausgebildet ist, wird eine gute Raumnutzung erreicht, indem die Gasleitung innerhalb
des Elektrodenrohrs geführt ist. Es sind dabei keine zusätzlichen Öffnungen an der
Ionenquelle zum Durchführen der Gasleitung erforderlich.
[0012] Bevorzugt ist die Gasleitung konzentrisch zur Elektrode angeordnet. Im Hinblick auf
eine besonders gute Effizienz beim Abstoßen der aus der Plasmakammer kommenden Elektronen
erstreckt sich die Elektrode entlang einer Symmetrieachse der Plasmakammer. Bei einer
Anordnung der Gasleitung konzentrisch zur Elektrode verläuft auch die Gasleitung entlang
der Symmetrieachse der Plasmakammer, so dass das Gas mittig in die Plasmakammer einströmen
kann.
[0013] Ein umlenkungsfreier Gasstrom wird realisiert, indem vorzugsweise die Elektrode einen
Anschlussflansch mit einem Gasanschluss zum Verbinden der Gasleitung mit einer Zuleitung
aufweist, wobei der Gasanschluss mit der Gasleitung fluchtet. Dies bedeutet, dass
der Gasanschluss auf einer Linie mit der Gasleitung liegt und erst die trennbare Zufuhrleitung,
über welche das Gas aus einem Gasspeicher zur Gasleitung und somit in die Ionenquelle
gelangt, ggf. Biegungen aufweist.
[0014] Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung ist das Elektrodenrohr von einem Kühlmittel
durchströmbar und weist eine Rücklaufleitung für das Kühlmittel auf, in der die Gasleitung
angeordnet ist. Zu Kühlzwecken wird im Bereich des Anschlussflansches ein elektrisch
nicht leitendes Kühlmittel, wie z.B. entionisiertes Wasser oder Öl, in das Elektrodenrohr
eingespeist, wobei das Kühlmittel in Richtung einer an die Plasmakammer anliegende
Elektrodenspitze fließt. Im Bereich der Elektrodenspitze ist eine Öffnung einer Rücklaufleitung
vorgesehen, in die das erwähnte Kühlmittel hineinströmt und am anderen Ende der Rücklaufleitung
im Bereich des Anschlussflansches aus der Elektrode hinausgeführt wird.
[0015] Vorzugsweise ist die Gasleitung konzentrisch zur umschließenden Rücklaufleitung und
die Rücklaufleitung ist konzentrisch zum Elektrodenrohr angeordnet. Damit sich in
Radialrichtung des Elektrodenrohrs eine gleichmäßige Temperaturverteilung einstellt,
ist die Rücklaufleitung für gewöhnlich konzentrisch zum Elektrodenrohr angeordnet.
Im Hinblick auf eine symmetrische Anordnung der Gasleitung in Bezug auf das Elektrodenrohr
ist es daher besonders vorteilhaft, dass die Gasleitung innerhalb der Rücklaufleitung
angeordnet ist.
[0016] Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist der Anschlussflansch einen ersten
Anschluss zum Einleiten und einen zweiten Anschluss zum Ausführen des Kühlmittels
auf und der Gasanschluss ist in einem der Anschlüsse angeordnet. Es sind hierbei keine
zusätzlichen Bohrungen im Bereich des Anschlussflansches erforderlich, um den Gasanschluss
auszubilden und die Gasleitung in ein Verbindungsstück der Ionenquelle einzuführen.
[0017] Vorteilhafterweise ist stirnseitig des Elektrodenrohrs eine Auslassöffnung für das
zu ionisierende Gas vorgesehen. Die Auslassöffnung ist somit zur Plasmakammer gerichtet,
so dass das Betriebsgas auch nach dem Verlassen des Elektrodenrohrs ebenfalls direkt
und umlenkungsfrei in die Plasmakammer zuströmt.
[0018] Nach einer bevorzugten Variante weist das Elektrodenrohr eine auswechselbare Elektrodenspitze
auf, in der die Auslassöffnung ausgebildet ist. Da im Betrieb der Ionenkammer die
Elektrodenspitze sehr oft durch die hohen Temperaturen, denen sie ausgesetzt ist,
beschädigt wird, ist diese auswechselbar ausgebildet und durch ein Gewinde am Elektrodenrohr
befestigt. Die Elektrodenspitze weist im Regelfall eine offene Stirnseite auf, so
dass die Auslassöffnung für die Gasleitung insbesondere durch die offene Stirnseite
der Elektrodenspitze ausgebildet ist.
[0019] Nach einer weiteren bevorzugten Variante ist zwischen dem Elektrodenrohr und der
auswechselbaren Elektrodenspitze ein Ankopplungsstück angeordnet, in welchem eine
Bohrung ausgebildet ist. Das Elektrodenrohr und die Elektrodenspitze sind beide als
Hohlkörper ausgebildet, jedoch ist das zwischen den beiden angeordnete Ankopplungsstück
für gewöhnlich ein massiver Körper. Um den Gasstrom durch das Ankopplungsstück führen
zu können, ist daher eine Bohrung vorgesehen, die insbesondere mittig verläuft. Der
Fluss des Kühlmittels in Längsrichtung der Elektrode wird durch das Ankopplungsstück
begrenzt. Damit das Kühlmittel durch die Bohrung nicht aus der Elektrode ausfließen
kann, kontaktiert die Gasleitung Ankopplungsstück oder reicht in die Bohrung hinein,
wobei der Kontaktbereich zwischen der Gasleitung und dem Ankopplungsstück abgedichtet
ist.
[0020] Die Aufgabe wird weiterhin erfindungsgemäß gelöst durch eine Elektrode für eine Ionenquelle,
umfassend einen Anschlussflansch und ein Elektrodenrohr, wobei am Anschlussflansch
ein Gasanschluss für eine Gasleitung vorgesehen ist, die sich über die gesamte Länge
des Elektrodenrohrs erstreckt.
[0021] Die in Bezug auf die Ionenquelle aufgeführten Vorteile und bevorzugten Ausgestaltungen
sind sinngemäß auf die Elektrode zu übertragen.
[0022] Vorteilhafterweise ist die Gasleitung konzentrisch zum Elektrodenrohr angeordnet.
Weiterhin von Vorteil ist, dass das Elektrodenrohr von einem Kühlmittel durchströmbar
ist und eine Rücklaufleitung für das Kühlmittel aufweist, in der die Gasleitung angeordnet
ist.
[0023] Die Aufgabe wird außerdem erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zum Einleiten
eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls,
wobei die Ionenquelle eine Plasmakammer und eine Elektrode, die sich zur Plasmakammer
erstreckt, umfasst und wobei das Gas über die gesamte Länge der Elektrode parallel
zur Elektrode und insbesondere innerhalb der Elektrode in die Plasmakammer eingeleitet
wird.
[0024] Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anhand einer Zeichnung näher erläutert.
Hierin zeigen
- FIG 1
- in einem Längsschnitt einen Teil einer Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls,
- FIG 2
- eine vergrößerte Darstellung des Ausschnitts A ge- mäß FIG 1, und
- FIG 3
- schematisch einen Querschnitt entlang der Linie B- B' gemäß FIG 1.
[0025] Einander entsprechende und gleichwirkende Teile sind in allen Figuren mit gleichen
Bezugszeichen versehen.
[0026] In FIG 1 ist eine Ionenquelle 2 zum Erzeugen eines Partikelstrahls gezeigt, die Teil
einer nicht näher dargestellten Partikeltherapieanlage ist. Die Ionenquelle 2 umfasst
eine Plasmakammer 4, in der der Partikelstrahl durch Ionisieren eines Betriebsgases
erzeugt wird. Das zu ionisierende Gas wird mittels einer Gasleitung 6 in die Plasmakammer
4 eingeleitet. Die Gasleitung 6 erstreckt sich dabei entlang einer Elektrode 8, die
zum Abstoßen der freien Elektronen in der Plasmakammer 4 vorgesehen ist. Zur Ionisation
des Gases wird in die Plasmakammer 4 außerdem eine Mikrowellenstrahlung durch einen
Mikrowellenanschluss 10 in ein Verbindungsteil 12 eingeleitet und von dort aus wird
die Mikrowellenstrahlung über einen Hohlleiter 14, in dem sich auch die Elektrode
8 mit der Gasleitung 6 erstreckt, der Plasmakammer 4 zugeführt. Dem Mikrowellenanschluss
10 entgegengesetzt ist am Verbindungsteil 12 ein Pumpenanschluss 15 für eine Vakuum-Pumpe
vorgesehen, die Gasteilchen aus den Hohlräumen des Verbindungsstücks ansaugt.
[0027] Die Elektrode 8 umfasst einen Anschlussflansch 16, mit dem sie am Verbindungsteil
12 befestigt ist, sowie ein hohles Elektrodenrohr 18, welches sich zur Plasmakammer
4 erstreckt. Die Elektrode 8 weist außerdem eine auswechselbare Elektrodenspitze 20
auf, die in einem Ankopplungsstück 22 eingeschraubt ist und somit über das Ankopplungsstück
22 am Elektrodenrohr 18 befestigt ist.
[0028] Im Betrieb der Ionenquelle 2 wird die Elektrode 8 kontinuierlich mit Hilfe eines
Kühlmittels, welches durch die Pfeile K angedeutet ist, beispielsweise mit Hilfe von
Kühlwasser, gekühlt. Zum Einleiten des Kühlwassers ist am Anschlussflansch 16 ein
erster Anschluss 24 vorgesehen. Durch einen zweiten Anschluss 26 wird das Kühlwasser
K aus der Elektrode 8 ausgeführt. Das eingeleitete Kühlwasser K fließt entlang einer
inneren Umlaufwand des Elektrodenrohrs 18, bis es das Ankopplungsstück 22 erreicht
hat. Konzentrisch zum Elektrodenrohr 18 verläuft eine Rücklaufleitung 28, über welche
das erwärmte Kühlmittel K bis zum zweiten Anschluss 26 geführt wird. Die Gasleitung
6 ist innerhalb der Rücklaufleitung 28 angeordnet und verläuft geradlinig zwischen
einem Gasanschluss 29, der mit einer separaten Zufuhrleitung zur Gaszufuhr aus einem
nicht gezeigten Gasspeicher verbindbar ist, und dem Ankopplungsstück 22 am distalen
Ende der Elektrode 8.
[0029] Das Elektrodenrohr 18, die Rücklaufleitung 28 und die Gasleitung 6 sind konzentrisch
zueinander angeordnet, wie dies aus FIG 3 ersichtlich ist. Das Elektronenrohr 18 verläuft
außerdem konzentrisch zum Hohlleiter 14, so dass die Gasleitung 6 sich entlang einer
Symmetrieachse D der Plasmakammer erstreckt. Dabei wird das Gas mittig in die Plasmakammer
eingeleitet, so dass eine hohe Symmetrie bei der Erzeugung des Plasmas vorliegt, welche
für einen stabilen Partikelstrahl wichtig ist.
[0030] Der genaue Aufbau und die Anordnung der Gasleitung 6 im Bereich der Elektrodenspitze
20 sind in der vergrößerten Darstellung in FIG 2 gezeigt. Die Elektrodenspitze 20
ist im Wesentlichen hohl ausgebildet und weist eine offene Stirnseite auf, die eine
Auslassöffnung 30 für das Gas bildet. Damit der Gasstrom die hohle Elektrodenspitze
20 erreicht, ist im Ankopplungsstück 22 eine Bohrung 32 ausgebildet. Dabei ist der
Bereich, in dem die Gasleitung 6 in das Ankopplungsstück 22 hineingeht, wasserdicht
abgedichtet, so dass das Kühlmittel K nicht in die Bohrung 32 gelangt.
[0031] Die Gasleitung 6 weist im gezeigten Ausführungsbeispiel einen geradlinigen Verlauf
und über ihre gesamte Länge bis zur Elektrodenspitze 20 einen im Wesentlichen konstanten
Querschnitt auf. Das zu ionisierende Gas kann somit umlenkungsfrei in die Ionenquelle
2 eingeleitet werden. Aufgrund dieser Ausgestaltung der Gasleitung 6 entstehen insbesondere
keine Totzonen, in welchen Gasteilchen über längere Zeiten verweilen können. Ein Wechsel
des Betriebsgases, wie z.B. von Kohlenstoffdioxid auf Wasserstoff, kann daher sehr
schnell erfolgen und nach kurzen Zeiten von wenigen Sekunden stellt sich ein konstanter
Gasstrom und somit ein stabiler Partikelstrahl ein.
[0032] Die beschriebene Gasleitung 6 zeichnet sich durch einen weiteren Vorteil aus, nämlich,
dass sie sich weit ins Innere der Ionenquelle 2 bis unmittelbar vor einem Eingang
34 der Plasmakammer 4 erstreckt, so dass die Gasteilchen ungestört von der Vakuumpumpe
in die Plasmakammer 4 gelangen.
Bezugszeichenliste
[0033]
- 2
- Ionenquelle
- 4
- Plasmakammer
- 6
- Gasleitung
- 8
- Elektrode
- 10
- Mikrowellenanschluss
- 12
- Verbindungsteil
- 14
- Hohlleiter
- 15
- Pumpenanschluss
- 16
- Anschlussflansch
- 18
- Elektrodenrohr
- 20
- Elektrodenspitze
- 22
- Ankopplungsstück
- 24
- erster Anschluss
- 26
- zweiter Anschluss
- 28
- Rücklaufleitung
- 29
- Gasanschluss
- 30
- Auslassöffnung
- 32
- Bohrung
- 34
- Eingang der Plasmakammer
- A
- Ausschnitt
- D
- Symmetrieachse
- K
- Kühlmittelstrom
1. Ionenquelle (2) zum Erzeugen eines Partikelstrahls, umfassend eine Plasmakammer (4)
und eine Elektrode (8) die sich zur Plasmakammer (4) erstreckt, wobei eine Gasleitung
(6) für ein zu ionisierendes Gas sich über die gesamte Länge der Elektrode (8) parallel
zur Elektrode (8) erstreckt.
2. Ionenquelle (2) nach Anspruch 1,
wobei die Gasleitung (6) innerhalb eines Elektrodenrohrs (18) verläuft.
3. Ionenquelle (2) nach Anspruch 2,
wobei die Gasleitung (6) konzentrisch zum Elektrodenrohr (18) angeordnet ist.
4. Ionenquelle (2) nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
wobei die Elektrode (8) einen Anschlussflansch (16) mit einem Gasanschluss (29) zum
Verbinden der Gasleitung (6) mit einer Zuleitung aufweist, wobei der Gasanschluss
(29) mit der Gasleitung (6) fluchtet.
5. Ionenquelle (2) nach einem der Ansprüche 2 oder 4,
wobei das Elektrodenrohr (18) von einem Kühlmittel (K) durchströmbar ist und eine
Rücklaufleitung (28) für das Kühlmittel (K) aufweist, in der die Gasleitung (6) angeordnet
ist.
6. Ionenquelle (2) nach Anspruch 3 und Anspruch 5,
wobei die Gasleitung (6) konzentrisch zur umschließenden Rücklaufleitung (28) und
die Rücklaufleitung (28) konzentrisch zum Elektrodenrohr (18) angeordnet sind.
7. Ionenquelle (2) nach Anspruch 4,
wobei der Anschlussflansch (16) einen ersten Anschluss (24) zu Einleiten und einen
zweiten Anschluss (26) zum Ausführen des Kühlmittels (K) aufweist und der Gasanschluss
(29) in einen der Anschlüsse (24, 26) angeordnet ist.
8. Ionenquelle (2) nach einem der Ansprüche 2 bis 7,
wobei stirnseitig des Elektrodenrohrs (18) eine Auslassöffnung (30) für das zu ionisierende
Gas vorgesehen ist.
9. Ionenquelle (2) nach einem der Ansprüche 2 bis 8,
wobei das Elektrodenrohr (18) eine auswechselbare Elektrodenspitze (20) aufweist,
in der die Auslassöffnung (30) ausgebildet ist.
10. Ionenquelle (2) nach Anspruch 9,
wobei zwischen dem Elektrodenrohr (18) und der auswechselbaren Elektrodenspitze (30)
ein Ankopplungsstück (22) angeordnet ist, in welchem eine Bohrung (32) ausgebildet
ist.
11. Elektrode (8) für eine Ionenquelle (2), umfassend einen Anschlussflansch (16) und
ein Elektrodenrohr (18), wobei am Anschlussflansch (16) ein Gasanschluss (29) für
eine Gasleitung (6) vorgesehen ist, die sich über die gesamte Länge des Elektronenrohrs
(18) erstreckt.
12. Elektrode (8) nach Anspruch 11,
wobei die Gasleitung (6) konzentrisch zum Elektrodenrohr (28) angeordnet ist.
13. Elektrode (8) nach Anspruch 11 oder 12,
wobei das Elektrodenrohr (18) von einem Kühlmittel (K) durchströmbar ist und eine
Rücklaufleitung (28) für das Kühlmittel aufweist, in der die Gasleitung (6) angeordnet
ist.
14. Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle (2) zum Erzeugen
eines Partikelstrahls,
wobei die Ionenquelle (2) eine Plasmakammer (4) und eine Elektrode (8), die sich zur
Plasmakammer (4) erstreckt, umfasst und wobei das Gas über die gesamte Länge der Elektrode
(8) parallel zur Elektrode (8) und insbesondere innerhalb der Elektrode (8) in die
Plasmakammer (4) eingeleitet wird.