Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls, Elektrode für eine Ionenquelle sowie Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle

(19)

(11)

EP 2 242 087 A3

(12)	EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88)	Veröffentlichungstag A3:
	05.12.2012 Patentblatt 2012/49

(43)	Veröffentlichungstag A2:
	20.10.2010 Patentblatt 2010/42

(21)	Anmeldenummer: 10155569.6

(22)	Anmeldetag: 05.03.2010

(51)

Internationale Patentklassifikation (IPC):

H01J 27/16^(2006.01)

(84)	Benannte Vertragsstaaten:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO SE SI SK SM TR

(30)

Priorität:

16.04.2009 DE 102009017647

(71)	Anmelder: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
	80333 München (DE)

(72)	Erfinder:
	Uhl, Thomas 35102, Lohra (DE)

(54)	Ionenquelle zum Erzeugen eines Partikelstrahls, Elektrode für eine Ionenquelle sowie Verfahren zum Einleiten eines zu ionisierenden Gases in eine Ionenquelle

(57) Eine Ionenquelle (2) zum Erzeugen eines Partikelstrahls umfasst eine Plasmakammer (4) und eine Elektrode (8) die sich zur Plasmakammer (4) erstreckt. Ein zu ionisierendes Gas wird über eine Gasleitung in die Ionenquelle (2) eingeleitet, wobei die Gasleitung (6) sich über die gesamte Länge der Elektrode (8) parallel zur Elektrode (8) erstreckt, so dass das Gas in unmittelbarer Nähe eines Eingangs (4) der Plasmakammer (4) aus der Gasleitung (6) hinausströmt.

Recherchenbericht

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