DISPOSITIF D'ÉLABORATION À TEMPÉRATURE AMBIANTE DE NANOFILS DE SI PAR ÉLECTRODÉPOSITION, PRCÉDÉ DE PRÉPARATION ET NANOFILS OBTENUS - Patent 2462259

(19)

(11)

EP 2 462 259 A1

(12)

(43)	Date de publication:
	13.06.2012 Bulletin 2012/24

(21)	Numéro de dépôt: 09786111.6

(22)	Date de dépôt: 04.08.2009

(51)

Int. Cl.:

C25D 1/02^(2006.01)
C25D 3/66^(2006.01)
D01F 9/08^(2006.01)

C25D 1/10^(2006.01)
C25D 9/08^(2006.01)

(86)	Numéro de dépôt:
	PCT/IB2009/006466

(87)	Numéro de publication internationale:
	WO 2011/027184 (10.03.2011 Gazette 2011/10)

(84)	Etats contractants désignés:
	AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO SE SI SK SM TR

(71)	Demandeur: Universite De Reims Champagne Ardenne (U.R.C.A.)
	51097 Reims Cedex (FR)

(72)	Inventeurs:
	MALLET, Jérémy 51100 Reims (FR) TROYON, Michel 51390 Gueux (FR) MARTINEAU, Florie 51100 Reims (FR)

(74)	Mandataire: Debay, Yves et al
	Cabinet Debay 126, Elysee 2 F-78170 La Celle Saint Cloud F-78170 La Celle Saint Cloud (FR)

(54)	DISPOSITIF D'ÉLABORATION À TEMPÉRATURE AMBIANTE DE NANOFILS DE SI PAR ÉLECTRODÉPOSITION, PRCÉDÉ DE PRÉPARATION ET NANOFILS OBTENUS