(19)
(11) EP 2 587 132 A3

(12) EUROPÄISCHE PATENTANMELDUNG

(88) Veröffentlichungstag A3:
18.06.2014  Patentblatt  2014/25

(43) Veröffentlichungstag A2:
01.05.2013  Patentblatt  2013/18

(21) Anmeldenummer: 12189928.0

(22) Anmeldetag:  25.10.2012
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
F21V 7/04(2006.01)
F21Y 101/02(2006.01)
F21V 7/09(2006.01)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME

(30) Priorität: 28.10.2011 DE 102011085418

(71) Anmelder: Trilux GmbH & Co. KG
59759 Arnsberg (DE)

(72) Erfinder:
  • Rudolph, Horst
    59067 Hamm (DE)
  • Dudel, Heinrich
    59846 Sundern (DE)
  • Langen, Uli
    51069 Köln (DE)

(74) Vertreter: Lippert, Stachow & Partner 
Patentanwälte Postfach 30 02 08
51412 Bergisch Gladbach
51412 Bergisch Gladbach (DE)

   


(54) Reflektor für Halbleiterlichtquellen


(57) Um bei einem Reflektor für Halbleiterlichtquellen, insbesondere für ein Downlight, der einen durch eine Reflektorumwandung begrenzten Innenraum sowie eine Lichtaustrittsseite umfasst, die an einem Längsende des Reflektors angeordnet ist und an der der Innenraum offen ist, wobei in dem Innenraum und in Querrichtung des Reflektors umfänglich von der Reflektorumwandung umgeben ein Lichtquellenpunkt (5) vorgesehen ist, an dem ein Mittelpunkt einer emittierenden Fläche (8) einer Lichtquelle (6) in dem Reflektor anordenbar ist, wobei die Reflektorumwandung eine Aussparung aufweist, durch die eine in dem Reflektor angeordnete Lichtquelle elektrisch kontaktierbar und fixierbar ist, wobei an der dem Innenraum zugewandten Innenseite der Reflektorumwandung Facetten (9) angeordnet sind, die eine reflektierende und in Längsrichtung und/oder Querrichtung gewölbte Oberfläche aufweisen, zu vermeiden, dass die Lichtdurchmischung in dem Reflektor gerade durch die Aufweitung des von der Halbleiterlichtquelle emittierten Lichtstrahls über die Streuung an den Facettenoberflächen erreicht wird schlägt die Erfindung vor, dass der der Wölbung in Längsrichtung zugeordnete Krümmungsradius der Facetten, gemittelt über sämtliche Facetten, deren Oberflächenmittelpunkt denselben Abstand von dem Lichtquellenpunkt hat, in Abhängigkeit von diesem Facettenabstand variiert.







Recherchenbericht









Recherchenbericht