[0001] Die Erfindung betrifft ein Vakuumbehandlungsgefäß zum Behandeln einer Metallschmelze,
insbesondere für eine RH-Anlage, umfassend ein Grundgefäß mit einem Behandlungsraum
und mindestens zwei am Grundgefäß angeordnete und mit dem Behandlungsraum verbundene
Tauchrohre. Die Erfindung betrifft weiterhin eine RH-Anlage mit einem derartigen Vakuumbehandlungsgefäß.
[0002] Vakuumbehandlungsgefäße zur Behandlung von Metallschmelzen, insbesondere für RH-Anlagen
(RH = Ruhrstahl-Heraeus), sind bekannt, siehe zum Beispiel die
DE 10 2009 039 260 A1.
[0003] Vakuumbehandlungsgefäße dienen dazu, eine Metallschmelze, insbesondere eine Stahlschmelze,
in einem RH-Verfahren sekundärmetallurgisch zu behandeln, um die Schmelze zu Entgasen
und weiterhin auch zu Entkohlen. Die Metallschmelze wird dabei üblicherweise in einer
Pfanne bereitgestellt. Ein Vakuumbehandlungsgefäß weist üblicherweise einen Behandlungsraum
und mindestens zwei damit verbundene Tauchrohre auf, welche in die Metallschmelze
eintauchen. Nach dem Eintauchen der Tauchrohre in die Metallschmelze wird der Behandlungsraum
mittels einer Vakuumpumpe evakuiert und eine Teilmenge der Metallschmelze über die
Tauchrohre in den Behandlungsraum im Inneren des Vakuumbehandlungsgefäßes gesaugt.
Durch Einblasen eines Inertgases in einen Teil der Tauchrohre, wobei das Inertgase
in der Metallschmelze aufsteigt und in den Behandlungsraum gelangt, wird eine Zirkulation
der Metallschmelze von der Pfanne in das begaste Tauchrohr, in das Behandlungsgefäß
und über das weitere Tauchrohr zurück in die Pfanne erzeugt. Im Behandlungsraum wird
üblicherweise permanent Sauerstoff über eine Lanze zugeführt (sogenanntes RH-OB-Verfahren,
mit OB = Oxygen Blowing bzw. Sauerstoffblasen). Die Metallschmelze wird aufgrund des
Vakuums entgast, v.a. von Wasserstoff, und entkohlt, wobei der Sauerstoff mit dem
Kohlenstoff in der Schmelze zu Kohlendioxid und/oder Kohlenmonoxid reagiert. Die entstehenden
Abgase werden über die Vakuumpumpe aus dem Behandlungsraum abgeführt.
[0004] Dabei gibt es verschiedene Möglichkeiten, die Tauchrohre in die Metallschmelze einzutauchen.
[0005] So sind Hubwerke oder Windensysteme zum Anheben der Pfanne enthaltend die Metallschmelze
bekannt, welche die unterhalb eines fest installierten Vakuumbehandlungsgefäßes angeordnete
Pfanne anheben, bis die Tauchrohre in die Metallschmelze eintauchen, siehe beispielsweise
DE 10 2006 026 330 B3.
[0006] Weiterhin sind Systeme zum Anheben der Pfanne inklusive eines Pfannenwagens bekannt,
in welchem die Pfanne transportiert wird. Derartige Systeme benötigen leistungsstarke
Hebemechanismen, da die anzuhebende Last umfassend die Pfanne, die Metallschmelze
und ggf. den Pfannenwagen beträchtlich ist.
[0007] Auch sind Windensysteme bekannt, mit denen das Vakuumbehandlungsgefäß bewegt werden
kann, während die Pfanne in ihrer Position unter dem Vakuumbehandlungsgefäß verbleibt.
Nachdem das Vakuumbehandlungsgefäß allerdings über ein temperaturresistentes Abgasrohrsystem
mit der Vakuumpumpe oder den Vakuumpumpen verbunden ist und weiterhin Zuführung für
Inertgas und Sauerstoff vorhanden sind, ist eine Bewegung des Vakuumbehandlungsgefäßes
technisch problematischer als ein Anheben der Pfanne.
[0008] Es ist daher Aufgabe der Erfindung, das erforderliche Zusammenführen von Metallschmelze
und Tauchrohren zu vereinfachen.
[0009] Die Aufgabe wird durch ein Vakuumbehandlungsgefäß zum Behandeln einer Metallschmelze
umfassend ein Grundgefäß mit einem Behandlungsraum und mindestens zwei am Grundgefäß
angeordnete und mit dem Behandlungsraum verbundene Tauchrohre gelöst, indem das Grundgefäß
zwei- oder mehrteilig ausgeführt ist, wobei mindestens zwei Grundgefäßteile ausgebildet
sind, die relativ zueinander beweglich und gasdicht miteinander verbindbar sind, wobei
zumindest das Grundgefäßteil umfassend die Tauchrohre beweglich ist, und wobei weiterhin
mindestens eine Hubeinrichtung vorhanden ist, welche eingerichtet ist, relativ zueinander
bewegliche, aneinander angrenzende Grundgefäßteile gegeneinander zu verschieben.
[0010] Das erfindungsgemäße Vakuumbehandlungsgefäß ermöglicht eine besonders einfache und
effektive Möglichkeit, die Tauchrohre in Kontakt zu einer Metallschmelze zu bringen.
Dadurch, dass zumindest das Grundgefäßteil des Grundgefäßes umfassend die Tauchrohre
beweglich ist, während andere Grundgefäßteile unbeweglich oder nur eingeschränkt beweglich
sein können, ist die Einbindung in eine RH-Anlage unproblematisch realisierbar. Da
nur das oder die beweglichen Grundgefäßteile durch die mindestens eine Hubeinrichtung
bewegt werden müssen, die eine relativ geringe Masse aufweisen, ist die Bewegung über
Aktoren geringer Leistung ausführbar.
[0011] Ein solches Vakuumbehandlungsgefäß wird somit insbesondere in einer RH-Anlage eingesetzt.
[0012] Dabei hat es sich besonders bewährt, wenn das Grundgefäß horizontal in zwei oder
mehr Grundgefäßteile geteilt ist, die teleskoprohrartig ineinander schiebbar sind.
Das ermöglicht eine platzsparende Anordnung und die Möglichkeit der Realisierung einer
einfachen gasdichten Abdichtung zwischen den Grundgefäßteilen.
[0013] Relativ zueinander bewegliche, aneinander angrenzende Grundgefäßteile sind dabei
insbesondere über eine Dichtungsanordnung gasdicht miteinander verbunden. Die Dichtungsanordnung
ist dabei bevorzugt durch eine Aufblasdichtung, insbesondere in Kombination mit einer
Kompensatoreinrichtung, gebildet. Unter einer Aufblasdichtung wird dabei eine Anpressdichtung
verstanden, die eine bewegliche Membrane, beispielsweise aus Edelstahl, umfasst, welche
durch Anlegen eines Gasdrucks ausgelenkt wird. Dabei wird die Membrane gegen das Grundgefäßteil
gedrückt, gegen das abgedichtet werden soll. Unter einer Kompensatoreinrichtung wird
eine flexible Verbindung zwischen einem beweglichen Grundgefäßteil und der Aufblasdichtung
verstanden, die dazu beiträgt, einen gasdichten Raum im Bereich der Dichtungsanordnung
zwischen Aufblasdichtung und beweglichem Grundgefäßteil auszubilden. Eine geeignete
Kompensatoreinrichtung wird beispielsweise durch einen in Richtung seiner Schlauchlängsachse
ziehharmonikaartig verlängerbaren und zusammenschiebbaren Metallschlauch gebildet.
[0014] Bevorzugt ist das Grundgefäß horizontal in ein oberes Grundgefäßteil und ein unteres
Grundgefäßteil geteilt, wobei nur das untere Grundgefäßteil umfassend die Tauchrohre
vertikal beweglich ist. So ist nur eine einzige ringförmige gasdichte Abdichtung zwischen
oberem und unterem Grundgefäßteil erforderlich. Das obere Grundgefäßteil und das untere
Grundgefäßteil weisen vorzugsweise unterschiedliche Durchmesser auf, wobei das obere
Grundgefäßteil und das untere Grundgefäßteil teleskopartig ineinander verschiebbar
sind. Insbesondere weist das obere Grundgefäßteil einen Außendurchmesser auf, der
geringer ist als ein Innendurchmesser des unteren Grundgefäßteils, wobei das untere
Grundgefäßteil platzsparend über das obere Grundgefäßteil schiebbar ist.
[0015] In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist weiterhin mindestens eine Hubeinrichtung
pro beweglichen Grundgefäßteil vorhanden, welche eingerichtet ist, relativ zueinander
bewegliche, aneinander angrenzende Grundgefäßteile gegeneinander zu verschieben.
[0016] Insbesondere sind insgesamt mindestens zwei oder drei Hubeinrichtungen, insbesondere
aber zwei oder drei Hubeinrichtungen pro beweglichem Grundgefäßteil, vorhanden. Eine
solche Hubeinrichtung ist bevorzugt durch einen Hubzylinder, einen Gewindespindeltrieb,
oder ein Seilzugsystem gebildet. Ein Hubzylinder oder ein Gewindespindeltrieb kann
dabei mit beiden Enden am Grundgefäß angeordnet sein oder aber mit einem Ende am Grundgefäß
und mit dem anderen Ende am Fundament befestigt sein.
[0017] Besonders bevorzugt sind zwei Hubzylinder, die einander gegenüberliegend außen am
Grundgefäß angeordnet sind. Genauso hat sich die Anordnung von drei Hubzylindern bewährt,
die in gleichen Abständen am Umfang des Grundgefäßes angeordnet sind. Ein Ende eines
jeden Hubzylinders ist dabei beispielsweise an dem unteren Grundgefäßteil und das
andere Ende eines jeden Hubzylinders am oberen Grundgefäßteil oder am Fundament befestigt.
Bei Betätigung der Hubzylinder wird das untere Grundgefäßteil vertikal nach oben oder
unten bewegt, wobei die Tauchrohre in eine darunter angeordnete Metallschmelze hinein
oder aus einer solchen Metallschmelze heraus bewegt werden.
[0018] In einer bevorzugten Ausgestaltung des Vakuumbehandlungsgefäßes ist ein jedes bewegliches
Grundgefäßteil über mindestens eine Arretiervorrichtung an einem benachbarten Grundgefäßteil
arretierbar. Dies ist sowohl für Wartungszwecke nutzbar und dient auch zur mechanischen
Entlastung der Dichtungsanordnung (en) .
[0019] Die Aufgabe wird weiterhin gelöst durch eine RH-Anlage umfassend ein erfindungsgemäßes
Vakuumbehandlungsgefäß, weiterhin mindestens eine Vakuumpumpe, die mit dem Behandlungsraum
über mindestens eine Abgasrohrleitung verbunden ist, mindestens eine Inertgaszuführleitung
zur Einleitung von Inertgas in das Innere mindestens eines Tauchrohrs, und mindestens
eine Sauerstoffzuführleitung zur Zuführung von Sauerstoff in den Behandlungsraum.
[0020] Eine solche RH-Anlage ist mit besonders niedrigem Energiebedarf betreibbar, da das
üblicherweise durchgeführte Anheben der schweren und unhandlichen Pfanne inklusive
Metallschmelze entfällt. Im Übrigen gelten auch hier die bereits oben beschriebenen
Vorteile für das erfindungsgemäße Vakuumbehandlungsgefäß selbst.
[0021] Die RH-Anlage umfasst bevorzugt weiterhin ein Schienensystem zur Zuführung eines
Pfannenwagens mit Pfanne zum Vakuumbehandlungsgefäß. Alternativ kann die Pfanne mittels
eines schienenunabhängigen Transportautos oder dergleichen zum Vakuumbehandlungsgefäß
gebracht werden.
[0022] Vorzugsweise ist weiterhin mindestens eine elektrische Steuereinheit zur Betätigung
der mindestens einen Hubeinrichtung vorhanden, um die beweglichen Grundgefäßteile
zu bewegen. Dadurch kann die Bewegung der Grundgefäßteile zueinander insbesondere
automatisiert durchgeführt werden.
[0023] Die Figuren 1 bis 3 sollen die Erfindung beispielhaft erläutern. So zeigt
- FIG 1
- ein Vakuumbehandlungsgefäß im Längsschnitt in einer ersten Position im Bereich einer
RH-Anlage,
- FIG 2
- das Vakuumbehandlungsgefäß aus FIG 1 im Längsschnitt in einer zweiten Position im
Bereich der RH-Anlage, und
- FIG 3
- einen vergrößerten Längsschnitt durch ein Grundgefäß eines Vakuumbehandlungsgefäßes
im Bereich einer Dichtungsanordnung.
[0024] FIG 1 zeigt ein erstes Vakuumbehandlungsgefäß 1 im Längsschnitt in einer ersten Position
im Bereich einer ersten RH-Anlage 100. Das Vakuumbehandlungsgefäß 1 wird zum Behandeln
einer Metallschmelze 14, hier einer Stahlschmelze, eingesetzt. Es umfasst ein wassergekühltes
Grundgefäß 1a mit einem Behandlungsraum 1b und zwei am Grundgefäß 1a angeordnete und
mit dem Behandlungsraum 1b verbundene Tauchrohre 1c, 1c'. Das Grundgefäß 1a ist hier
zweiteilig ausgeführt, wobei durch eine horizontale Trennung zwei Grundgefäßteile
1aa, 1ab ausgebildet sind, die teleskoprohrartig ineinander schiebbar sind. Das obere
Grundgefäßteil 1aa und das untere Grundgefäßteil 1ab sind relativ zueinander beweglich
und gasdicht über eine ringförmige umlaufende Dichtungsanordnung 3a, 3b miteinander
verbunden, von welcher hier lediglich das Schnittbild ersichtlich ist. Dabei ist das
untere Grundgefäßteil 1ab umfassend die Tauchrohre 1c, 1c' beweglich, während das
obere Grundgefäßteil 1aa unbeweglich angeordnet ist.
[0025] Das obere Grundgefäßteil 1aa weist einen Außendurchmesser auf, der geringer ist als
ein Innendurchmesser des unteren Grundgefäßteils 1ab, sodass das untere Grundgefäßteil
1ab über das obere Grundgefäßteil 1aa schiebbar ist.
[0026] Das obere Grundgefäßteil 1aa und das untere Grundgefäßteil 1ab sind durch zwei Hubeinrichtungen
4a, 4b in Form von elektrisch betätigbaren Hubzylindern miteinander verbunden. Alternativ
könnten die Hubzylinder auch einerseits am unteren Grundgefäßteil 1ab und andererseits
am Fundament 16 angeordnet sein.
[0027] Neben dem Vakuumbehandlungsgefäß 1 umfasst die RH-Anlage 100 eine Vakuumpumpe 10,
die mit dem Behandlungsraum 1b über eine Abgasrohrleitung 11 zum Abführen von Abgas
11a verbunden ist, eine Inertgaszuführleitung 5 zur Einleitung von Inertgas 5a in
das Innere des Tauchrohrs 1c, und eine Sauerstoffzuführleitung 6 zur Zuführung von
Sauerstoff 6a in den Behandlungsraum 1b.
[0028] Unterhalb des Vakuumbehandlungsgefäßes 1 ist ein Schienensystem 15 auf dem Fundament
16 angeordnet, über das ein Pfannenwagen 12 auf Rollen 12a unter das Vakuumbehandlungsgefäß
1 transportierbar ist. Der Pfannenwagen 12 transportiert eine Pfanne 13 mit der Metallschmelze
14, wobei Pfanne 13 und Metallschmelze 14 zur besseren Übersicht im Schnittbild dargestellt
sind.
[0029] Beim Ausfahren der Hubzylinder bewegt sich das untere Grundgefäßteil 1ab vertikal
nach unten in eine zweite Position gemäß FIG 2, in der die Tauchrohre 1c, 1c' in die
Metallschmelze 14 eintauchen. Gleiche Bezugszeichen wie in FIG 1 kennzeichnen gleiche
Elemente. Auf die Darstellung der Inertgaszuführung 6 wurde hier jedoch der Übersichtlichkeit
wegen verzichtet. Durch Einbringen des Inertgases 6a in das Tauchrohr 1c (vergleiche
FIG 1) wird die Metallschmelze 14 umgewälzt. Die Vakuumpumpe 10 evakuiert den Behandlungsraum
1b, wobei Gase, insbesondere Wasserstoff, innerhalb des Behandlungsraumes 1b aus der
Metallschmelze 14 entweichen. Eingeblasener Sauerstoff 6a reagiert mit Kohlenstoff
in der Metallschmelze 14 und entweicht als Kohlendioxid und/oder Kohlenmonoxid zusammen
mit weiteren Gasen als Abgas 11a. Beim Einfahren der Hubzylinder bewegt sich das untere
Grundgefäßteil 1ab zusammen mit den Tauchrohre 1c, 1c' wieder vertikal nach oben und
die Tauchrohre 1c, 1c' werden aus der behandelten Metallschmelze 14 herausgezogen.
[0030] Nachdem lediglich das untere Grundgefäßteil 1ab durch die Hubzylinder bewegt werden
muss, können diese besonders klein und energiesparend ausgeführt werden.
[0031] FIG 3 zeigt einen vergrößerten Längsschnitt durch ein Grundgefäß 1a eines Vakuumbehandlungsgefäßes
im Bereich einer Dichtungsanordnung 3. Gleiche Bezugszeichen wie in den Figuren 1
und 2 kennzeichnen gleiche Elemente. Es sind mit den Hubzylindern starr verbundene
Arretiervorrichtungen 9a, 9b vorhanden, um das untere Grundgefäßteil 1ab gegenüber
dem oberen Grundgefäßteil 1aa in der gewünschten Position zu fixieren und die Dichtungsanordnung
3 sowie die Hubzylinder mechanisch zu entlasten. Die Dichtungsanordnung 3 umfasst
eine Aufblasdichtung 7 umfassend eine Rohrkonstruktion mit beweglicher Membrane 7a
aus Stahlblech sowie eine Kompensatoreinrichtung 8 in Form eines in Richtung seiner
Schlauchlängsachse ziehharmonikaförmig verformbaren Metallschlauch. Dabei ist die
Rohrkonstruktion an der Arretiervorrichtung 9a, 9b befestigt und die Membrane 7a dem
oberen Grundgefäßteil 1aa zugewandt angeordnet. Die längenveränderliche schlauchförmige
Kompensatoreinrichtung 8 verbindet die Aufblasdichtung 7 allseitig mit dem unteren
Grundgefäßteil 1ab. In die Rohrkonstruktion wird ein Gas unter Druck eingeblasen,
so dass die Membrane 7a ausgelenkt wird und im Bereich des Umfangs des oberen Grundgefäßteils
1aa gegen dieses drückt und damit das untere Grundgefäßteil 1ab mit dem oberen Grundgefäßteil
1aa gasdicht verbindet. Demnach werden bei einer Bewegung des unteren Grundgefäßteils
1ab gegenüber dem oberen Grundgefäßteil 1aa von den Hubzylindern die gewünschte Position
- bei gleichzeitig gelöster Arretiervorrichtung 9a, 9b - angefahren, wobei sich die
Kompensatoreinrichtung 8 verlängert oder verkürzt. Anschließend werden die Arretiervorrichtungen
9a, 9b betätigt und die Position fixiert. Nun wird Gas in die Rohrkonstruktion eingeblasen
und die Membran 7a gegen das obere Grundgefäßteil 1aa gedrückt, so dass eine gasdichte
Verbindung zwischen diesen entsteht. Der Behandlungsraum 1b ist nun nach unten über
die Metallschmelze 14, in welche die hier nicht sichtbaren Tauchrohre eintauchen,
das Grundgefäß 1a und die Dichtungsanordnung 13 gegenüber der Umgebung abgedichtet
und kann über die Vakuumpumpe 10 (siehe Figuren 1 und 2) evakuiert werden. Alternativ
zu der in FIG 3 gezeigten Ausführungsform kann die Aufblasdichtung auch am unteren
Grundgefäßteil 1ab angeordnet sein, so dass auf eine Kompensatoreinrichtung 8 verzichtet
werden kann.
[0032] Die in den Figuren 1 bis 3 dargestellten Vakuumbehandlungsgefäße und RH-Anlagen sollen
die Erfindung lediglich beispielhaft erläutern. Es sind demnach eine Vielzahl weiterer
Ausführungsformen möglich, die sich dem Fachmann ohne weiteres in Kenntnis der Erfindung
erschließen.
1. Vakuumbehandlungsgefäß (1) zum Behandeln einer Metallschmelze (14), insbesondere für
eine RH-Anlage (100), umfassend ein Grundgefäß (1a) mit einem Behandlungsraum (1b)
und mindestens zwei am Grundgefäß (1a) angeordnete und mit dem Behandlungsraum (1b)
verbundene Tauchrohre (1c, 1c'), dadurch gekennzeichnet, dass das Grundgefäß (1a) zwei- oder mehrteilig ausgeführt ist, wobei mindestens zwei Grundgefäßteile
(1aa, 1ab) ausgebildet sind, die relativ zueinander beweglich und gasdicht miteinander
verbunden sind, wobei zumindest das Grundgefäßteil (1ab) umfassend die Tauchrohre
(1c, 1c') beweglich ist, und wobei weiterhin mindestens eine Hubeinrichtung (4a, 4b)
vorhanden ist, welche eingerichtet ist, relativ zueinander bewegliche, aneinander
angrenzende Grundgefäßteile (1aa, 1ab) gegeneinander zu verschieben.
2. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass das Grundgefäß (1a) horizontal in zwei oder mehr Grundgefäßteile (1aa, 1ab) geteilt
ist, die teleskoprohrartig ineinander schiebbar sind.
3. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass relativ zueinander bewegliche, aneinander angrenzende Grundgefäßteile (1aa, 1ab)
über eine Dichtungsanordnung (3, 3a, 3b) gasdicht miteinander verbunden sind.
4. Vakuumbehandlungsgefäß nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtungsanordnung (3) durch eine Aufblasdichtung gebildet ist.
5. Vakuumbehandlungsgefäß nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Grundgefäß (1a) horizontal in ein oberes Grundgefäßteil (1aa) und ein unteres
Grundgefäßteil (1ab) geteilt ist, wobei nur das untere Grundgefäßteil (1ab) beweglich
ist.
6. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, dass das obere Grundgefäßteil (1aa) und das untere Grundgefäßteil (1ab) unterschiedliche
Durchmesser aufweisen und dass das obere Grundgefäßteil (1aa) und das untere Grundgefäßteil
(1ab) teleskopartig ineinander verschiebbar sind.
7. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, dass das obere Grundgefäßteil (1aa) einen Außendurchmesser aufweist, der geringer ist
als ein Innendurchmesser des unteren Grundgefäßteils (1ab), wobei das untere Grundgefäßteil
(1ab) über das obere Grundgefäßteil (1aa) schiebbar ist.
8. Vakuumbehandlungsgefäß nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass weiterhin mindestens eine Hubeinrichtung (4a, 4b) pro beweglichen Grundgefäßteil
(1ab) vorhanden ist, welche eingerichtet ist, relativ zueinander bewegliche, aneinander
angrenzende Grundgefäßteile (1aa, 1ab) gegeneinander zu verschieben.
9. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, dass mindestens zwei Hubeinrichtungen (4a, 4b) pro beweglichem Grundgefäßteil (1ab) vorhanden
sind.
10. Vakuumbehandlungsgefäß nach Anspruch 8 oder Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Hubeinrichtung (4a, 4b) durch einen Hubzylinder, einen Gewindespindeltrieb oder
ein Seilzugsystem gebildet ist.
11. Vakuumbehandlungsgefäß nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass ein jedes bewegliche Grundgefäßteil (1ab) über mindestens eine Arretiervorrichtung
(9a, 9b) an einem benachbarten Grundgefäßteil (1aa) arretierbar ist.
12. RH-Anlage (100, 100') umfassend ein Vakuumbehandlungsgefäß (1, 1') nach einem der
Ansprüche 1 bis 11, weiterhin mindestens eine Vakuumpumpe (10), die mit dem Behandlungsraum
(1b) über mindestens eine Abgasrohrleitung (11) verbunden ist, mindestens eine Inertgaszuführleitung
(5) zur Einleitung von Inertgas (5a) in das Innere mindestens eines Tauchrohrs (1c),
und mindestens eine Sauerstoffzuführleitung (6) zur Zuführung von Sauerstoff (6a)
in den Behandlungsraum (1b).
13. RH-Anlage nach Anspruch 12,
wobei weiterhin ein Pfannenwagen (12) mit Pfanne (13) und ein Schienensystem (15)
zur Zuführung des Pfannenwagens (12) mit Pfanne (13) zum Vakuumbehandlungsgefäß (1,
1') vorhanden ist.
14. RH-Anlage nach Anspruch 12 oder Anspruch 13,
wobei weiterhin mindestens eine elektrische Steuereinheit zur Betätigung der mindestens
einen Hubeinrichtung (4a, 4b) vorhanden ist.