ATBECHDEDKESFRGBGRITLILUNLSEMCPTIESILTLVFIROMKCYALTRBGCZEEHUPLSK..HRIS..MTNO....SM..................JJDIM360 Ver 1.28 (29 Oct 2014) - 2999001/02818928CORRECTED EUROPEAN PATENT SPECIFICATIONB8B120161130W172deBibliographieenBibliographyfrBibliographieEP14179101.2201008242014073020150212enenen236704 P20090825US86009720100820US2016113020164820141231201501201609282016392016071820161130201648G03F 7/20 20060101AFI20160622BHEP G03F 9/00 20060101ALI20160622BHEP G01B 11/27 20060101ALI20160622BHEP H01L 21/68 20060101ALI20160622BHEP deBelichtungsverfahren, Belichtungsapparat sowie Verfahren zur Herstellung einer VorrichtungenExposure method, exposure apparatus, and device manufacturing methodfrProcédé d'exposition, appareil d'exposition et procédé de fabrication d'un dispositifEP-A1- 1 762 897EP-A2- 1 826 615DE-A1-102007 046 927US-A1- 2007 263 197US-A1- 2008 094 59210752443.124709612010082416166162.4309865520160420Shibazaki, Yuichic/o NIKON CORPORATION, Intellectual Property Division, 15-3 Konan 2-chome, Minato-ku,Tokyo 108-6290JPNikon Corporation101538193174 071 a/dst15-3, Konan 2-chome Minato-kuTokyo 108-6290JPHoffmann Eitle100061036Patent- und Rechtsanwälte PartmbB Arabellastraße 3081925 MünchenDEALATBEBGCHCYCZDEDKEEESFIFRGBGRHRHUIEISITLILTLULVMCMKMTNLNOPLPTROSESISKSMTR20141231201501