(19)
(11) EP 2 959 342 A1

(12)

(43) Veröffentlichungstag:
30.12.2015  Patentblatt  2015/53

(21) Anmeldenummer: 14708512.0

(22) Anmeldetag:  25.02.2014
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
G03F 7/039(2006.01)
C08G 77/28(2006.01)
C07F 7/18(2006.01)
G03F 7/075(2006.01)
(86) Internationale Anmeldenummer:
PCT/EP2014/053580
(87) Internationale Veröffentlichungsnummer:
WO 2014/128303 (28.08.2014 Gazette  2014/35)
(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR
Benannte Erstreckungsstaaten:
BA ME

(30) Priorität: 25.02.2013 DE 102013003329

(71) Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
80686 München (DE)

(72) Erfinder:
  • COLLIN, Daniela
    97440 Werneck (DE)
  • DOMANN, Gerhard
    97204 Höchberg (DE)

(74) Vertreter: Pfenning, Meinig & Partner GbR 
Patent- und Rechtsanwälte Theresienhöhe 11a
80339 München
80339 München (DE)

   


(54) PHOTOLACK MIT POSITIV-RESIST VERHALTEN, VERFAHREN ZU DESSEN PHOTOCHEMISCHER STRUKTURIERUNG, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILANEN UND VON KIESELSÄURE(HETERO)POLY(CO)KONDENSATEN MIT POSITIV-RESIST-VERHALTEN SOWIE KIESELSÄURE(HETERO)POLY(CO)KONDENSATEN