(19)
(11) EP 3 012 858 B8

(12) KORRIGIERTE EUROPÄISCHE PATENTSCHRIFT
Hinweis: Bibliographie entspricht dem neuesten Stand

(15) Korrekturinformation:
Korrigierte Fassung Nr.  1 (W1 B1)

(48) Corrigendum ausgegeben am:
27.09.2017  Patentblatt  2017/39

(45) Hinweis auf die Patenterteilung:
09.08.2017  Patentblatt  2017/32

(21) Anmeldenummer: 14003620.3

(22) Anmeldetag:  24.10.2014
(51) Internationale Patentklassifikation (IPC): 
H01L 21/677(2006.01)
 H01L 21/67(2006.01)

(54)

Prozesskammeranordnung und Verfahren zum Bestrahlen eines Substrats in einer Prozesskammer

Process chamber assembly and method for irradiating a substrate in a process chamber

Système de chambre de traitement et procédé de rayonnement d'un substrat dans une chambre de traitement

(84) Benannte Vertragsstaaten:
AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

(43) Veröffentlichungstag der Anmeldung:
27.04.2016  Patentblatt  2016/17

(73) Patentinhaber: Von Ardenne GmbH
01328 Dresden (DE)

(72) Erfinder:
  • Haasemann, Georg
    01326 Dresden (DE)
  • Khvostikova, Olga
    01159 Dresden (DE)

(74) Vertreter: Viering, Jentschura & Partner mbB Patent- und Rechtsanwälte 
Am Brauhaus 8
01099 Dresden
01099 Dresden (DE)


(56) Entgegenhaltungen: : 
DE-B3-102013 104 577
US-A1- 2009 181 184
 JP-A- 2005 026 354
   
       
    Anmerkung: Innerhalb von neun Monaten nach der Bekanntmachung des Hinweises auf die Erteilung des europäischen Patents kann jedermann beim Europäischen Patentamt gegen das erteilte europäischen Patent Einspruch einlegen. Der Einspruch ist schriftlich einzureichen und zu begründen. Er gilt erst als eingelegt, wenn die Einspruchsgebühr entrichtet worden ist. (Art. 99(1) Europäisches Patentübereinkommen).