[0001] Die vorliegende Erfindung betrifft ein Implantat zur Implantation in einen Knochen
sowie Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers gemäss den Oberbegriffen
der unabhängigen Ansprüche.
[0002] Zur Verankerung von Implantaten, insbesondere von Endoprothesen in Knochen, ist eine
Vielzahl von Oberflächenstrukturen bekannt. Diese reichen von aufgerauten Oberflächen
über spezielle Beschichtungen bis hin zur Ausstattung der Implantatoberfläche mit
komplexen Strukturelementen.
[0003] So ist es beispielsweise bei Hüftgelenksprothesen von Vorteil, wenn Implantatteile,
insbesondere die im Hüftknochen angebrachte Gelenkpfanne, ausreiss- und drehfest im
Knochengewebe verankert sind. Während einige Gelenkpfannen mit Schrauben fixiert werden,
erfolgt bei anderen die Befestigung mittels Knochenzement, während weitere durch Einschlagen
oder Einschrauben direkt im Knochen gehalten werden.
[0004] Um das Ausreissverhalten sowie die Drehfestigkeit einer mittels Knochenzement, Einschrauben
oder Einschlagen befestigten Gelenkpfanne zu erhöhen, ist die Oberfläche einer solchen
üblicherweise mit einer rauen Oberflächenstruktur versehen. So können durch zumeist
spanabhebende Verfahren Strukturelemente in die Oberfläche eingearbeitet werden, die
eine gleichmässige Verteilung der auftretenden Kräfte, sowohl beim Einsetzen als auch
bei späterer Belastung der Gelenkpfanne, ermöglichen, und so ein Drehen oder gar ein
Ausreissen verhindern. Im Falle eines Einschlagens des Implantates ermöglichen Strukturelemente
darüber hinaus ein Einwachsen des Knochens in deren Zwischenräume.
[0005] So ist durch die
WO 2012/126944 A1 beispielsweise ein Hüftgelenkpfannenimplantat in Form einer Kugelkalottenschale bekannt,
dessen Oberflächenstruktur eine Vielzahl von Strukturelementen umfasst, die durch
jeweils mehrere, sich überkreuzende Rillen mit entgegengesetzter Steigung gebildet
sind.
[0006] Die
US 5,645,593 beschreibt ebenfalls ein Knochenimplantat mit Strukturelementen. Allerdings sind
die Zwischenräume zwischen diesen Strukturelementen vollständig mit einem Granulat
gefüllt. Das Granulat bildet eine poröse Beschichtung, welche eine gute Sekundärfixierung
durch Osteointegration ermöglicht. Durch das Vorhandensein von Strukturelementen wird
dabei ein Abscheren der porösen Beschichtung beim Einsetzen des Implantates in den
Knochen verhindert. Da die Vertiefungen zwischen den Strukturelementen allerdings
vollständig mit porösem Material gefüllt sind, resultiert eine reduzierte Primärfixation
des Implantates und eine erhöhte Belastung des Knochens beim Einsetzen des Implantates.
[0007] Die
US 4,883,491 zeigt ebenfalls eine künstliche Hüftgelenkpfanne, die allerdings mit Gewindezügen
zum Einschrauben in einen Knochen versehen ist. Die besagten Gewindezüge sind durch
Bereiche mit einer porösen Beschichtung unterbrochen. Allerdings ist die poröse Beschichtung
nicht gegen ein Abscheren im Zuge des Einschraubens des Implantates geschützt. Die
poröse Beschichtung kann daher beim Transport des Implantates oder bei dessen Handhabung
im Operationssaal abgerieben werden. Die dadurch freigesetzten Partikel können im
Körper des Patienten Schädigungen verursachen und im schlimmsten Fall in die Artikulationsflächen
der Gelenkprothese gelangen, wo sie dessen Verschleiss signifikant erhöhen. Dies kann
bis zum Versagen des gesamten Gelenkimplantates führen.
[0008] Es ist die Aufgabe der Erfindung, die Nachteile im Stand der Technik zu überwinden.
[0009] Insbesondere ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein verbessertes Implantat zur Implantation
in einen Knochen zu schaffen, welches eine Oberflächenstruktur mit einer porösen Beschichtung
aufweist. Dabei soll das Implantat eine verbesserte Primärfixation in einem Knochen
ermöglichen und gleichzeitig eine Oberfläche mit verbessertem Abriebverhalten aufweisen.
[0010] Diese Aufgaben werden durch ein Implantat gelöst, welches die Merkmale im Anspruch
1 aufweist, sowie durch ein Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers
gemäss den Ansprüchen 9 und 11.
[0011] Die Erfindung betrifft ein Implantat, insbesondere ein Hüftgelenkpfannenimplantat,
zur Implantation in einen Knochen. Das Implantat weist mindestens teilweise eine Oberflächenstruktur
auf, welche Erhebungen und Vertiefungen umfasst. Die Vertiefungen weisen Zonen mit
einer porösen Beschichtung auf.
[0012] Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass
- a) die Erhebungen unbeschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten Zonen in
den Vertiefungen angrenzen,
- b) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Schichtdicke der porösen Beschichtung
auf den Erhebungen kleiner ist als in den Vertiefungen,
- c) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Beschichtung auf den Erhebungen weniger
porös ist als in den Vertiefungen,
- d) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Abriebfestigkeit der porösen Beschichtung
auf den Erhebungen grösser ist als in den Vertiefungen.
[0013] Dabei erstreckt sich die poröse Beschichtung der Kontur der Vertiefungen folgend.
[0014] Die Begriffe "Erhebung" und "Vertiefung" sind dabei im relativen Bezug zueinander
zu verstehen. Der Begriff "Abriebfestigkeit" bezeichnet in diesem Zusammenhang die
Widerstandsfähigkeit der porösen Beschichtung gegenüber mechanischer Beanspruchung,
insbesondere Reibung. Sie wird hauptsächlich durch deren Rauheit und Härte, aber auch
von der Haftfestigkeit am Implantatgrundkörper, bestimmt. Experimentell kann die Abriebfestigkeit
durch standardisierte Verfahren wie z.B. durch abrasive Methoden oder Abreisstests
bestimmt werden.
[0015] Die poröse Beschichtung muss nicht zwingend über die gesamte Schichtdicke porös sein.
Denkbar ist auch eine stellenweise Kompaktierung, so dass eine geschlossene Oberfläche
entsteht. Da sich beschichtete Zonen mit geringer Abriebfestigkeit oder verhältnismässig
grosser Schichtdicke, wenn überhaupt, nur im Bereich der Vertiefungen der Oberflächenstruktur
erstrecken, und damit geschützt sind, ist das gesamthafte Abriebverhalten der porösen
Beschichtung, beispielsweise beim Einsetzen des Implantates in einen Knochen, erheblich
verbessert. Da die Vertiefungen allerdings nicht vollständig mit porösem Material
gefüllt sind, ermöglicht das Implantat dennoch eine gute Primärverankerung im Knochen.
Die poröse Beschichtung folgt aus diesem Grund stets der Kontur der Vertiefungen,
was nicht zwingend heisst, dass die Beschichtung ein exaktes Abbild der Vertiefungen
sein muss. Der wesentliche Aspekt besteht darin, dass unabhängig von der Dicke der
porösen Beschichtung stets eine Aussenkontur mit Vertiefungen und Erhöhungen verbleibt.
[0016] Beim Implantat kann die Schichtdicke der porösen Beschichtung zwischen 15 % und 50
% der Profiltiefe betragen. Wenn das Verhältnis zwischen Profiltiefe und Schichtdicke
in diesem Bereich liegt, resultiert ein besonders vorteilhaftes Zusammenspiel zwischen
Primärfixation und Sekundärfixation. Unter dem Begriff "Profiltiefe" wird im vorliegenden
Zusammenhang der mittlere Versatz zwischen höchsten Punkten der einzelnen Erhebungen
und den tiefsten Punkten der einzelnen Vertiefungen verstanden.
[0017] In den Vertiefungen kann die Schichtdicke der porösen Beschichtung von 0.1 mm bis
0.5 mm betragen. Eine derartige Schichtdicke ermöglicht eine gute Sekundärfixierung
im Knochen, wobei die mechanische Stabilität des Implantates gewährleistet bleibt.
[0018] Das Implantat kann eine Grundstruktur bestehend aus Titan, Zirkonium, Niob, Tantal
oder Legierungen davon, Kobalt-Chrom-legierung, Medizinstahl, Keramik oder Polyethylen
umfassen. Auch die poröse Beschichtung kann mit Ausnahme von Medizinalstahl, Keramik
und Polyethylen aus diesen Materialien bestehen. Derartige Materialien sind bei der
Herstellung von Knochenimplantaten weit verbreitet. Sie lassen sich mit gängigen Methoden
auf dem Gebiet der Herstellung gattungmässiger Implantate bearbeiten und weisen eine
hervorragende Verträglichkeit beim Patienten auf.
[0019] Darüber hinaus können derartige Materialien eine Stützstruktur für die nachwachsenden
Knochenzellen bilden, wodurch das natürliche Knochenwachstum begünstigt wird. Durch
die Verwendung derartiger Materialien kann entsprechend der Heilungsprozess des Knochens
nach einer Implantation sowie die Bildung einer stabilen Verbindung zwischen dem Implantat
und dem Knochen unterstützt werden. In besonders bevorzugten Fällen können die genannten
Materialien sogar einen direkten, funktionellen, strukturellen Verbund mit dem lebenden
Knochengewebe eingehen. Dadurch wird eine äusserst feste Verankerung des Implantates
in einem Knochen erzielt.
[0020] Die poröse Beschichtung kann eine Partikelbeschichtung sein und vorzugweise Partikel
aufweisen, die sphärisch, kubisch oder zylindrisch in der Form sind. Partikelbeschichtungen
weisen eine vorteilhafte Porosität auf. Darüber hinaus sind im Stand der Technik zuverlässige
Methoden zum Aufbringen von Partikelbeschichtungen auf Implantatgrundkörper bekannt,
wie beispielsweise das atmosphärische Plasmaspritzverfahren (APS) oder das Vakuum
Plasmaspritzverfahren (VPS). Durch die Wahl der Partikelform lässt sich die Implantatoberfläche
auf den jeweiligen Anwendungsbereich abstimmen.
[0021] Die poröse Beschichtung kann, insbesondere grobe und feine, Partikel mit einer mittleren
Grösse von 200 µm bis 500 µm aufweisen. Eine derartige Partikelgrösse ergibt eine
Porosität, die besonders gut für ein Einwachsen des Knochens geeignet ist. Durch die
Wahl der Partikelgrösse lässt sich die Implantatoberfläche auf eine jeweilige Anwendung
abstimmen.
[0022] Die Porosität der Beschichtung kann derart eingestellt sein, dass sie am Grund der
Vertiefungen grösser ist als im Bereich der Seitenflanken der Erhebungen oder auf
den Erhebungen. Durch diese Verteilung der Porosität wird ein Abrieb der Partikel
beim Einsetzen des Implantates in einen Knochen weiter vermieden.
[0023] Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers,
insbesondere zur Herstellung eines oben beschriebenen Implantates, umfassend die Schritte
- Bereitstellen eines unbeschichteten Grundkörpers, wobei der Grundkörper mindestens
teilweise eine Oberflächenstruktur aufweist, welche Erhebungen und Vertiefungen umfasst,
- Selektives aufbringen einer porösen Beschichtung, derart, dass beschichtete Zonen
im Bereich der Vertiefungen an unbeschichtete Zonen im Bereich der Erhebungen angrenzen,
und dass sich die poröse Beschichtung der Kontur der Vertiefungen folgend erstreckt.
[0024] Ein derartiges Verfahren hat den Vorteil, dass nach Aufbringen der porösen Beschichtung
nicht ein Teil davon wieder abgetragen werden muss.
[0025] Das selektive Aufbringen der porösen Beschichtung kann dabei durch Auftragen einer
Schicht im Bereich der Erhebungen erfolgen, die ein Anhaften der porösen Beschichtung
verhindert. Eine solche Schicht wird auch als Maskierung bezeichnet. Diese Variante
stellt eine einfache Methode zum selektiven Aufbringen der porösen Beschichtung im
Bereich der Vertiefungen dar, die ohne spezialisierte Werkzeuge auskommt.
[0026] Ein selektives Aufbringen der porösen Beschichtung ist allerdings auch durch Einstellen
von Parametern des Prozesses denkbar, wie beispielsweise der Strahlrichtung, Fokus
oder Intensität eines Partikelstrahls.
[0027] Ein alternatives Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers, insbesondere
zur Herstellung eines oben beschriebenen Implantates, umfasst die folgenden Schritte:
- Bereitstellen des unbeschichteten Grundkörpers, wobei der Grundkörper mindestens teilweise
eine Oberflächenstruktur aufweist, welche Erhebungen und Vertiefungen umfasst,
- Aufbringen einer porösen Beschichtung im Bereich mit der Oberflächenstruktur,
- Abtragen der porösen Beschichtung im Bereich der Erhebungen, derart dass
- a) die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten Zonen in
den Vertiefungen angrenzen, und dass die Schichtdicke der porösen Beschichtung auf
den Erhebungen kleiner ist als in den Vertiefungen,
- b) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, und dass die Abriebfestigkeit der porösen Beschichtung
auf den Erhebungen grösser ist als in den Vertiefungen,
und dass sich die poröse Beschichtung der Kontur der Vertiefungen folgend erstreckt.
[0028] Ein derartiges Verfahren stellt eine besonders einfache und kostengünstige Methode
zur Herstellung eines oben beschriebenen Implantates dar. Dadurch dass in einem Verfahrensschritt
eine poröse Beschichtung im Bereich mit der Oberflächenstruktur aufgebracht wird,
ohne zwischen den Bereichen der Erhebungen und den Bereichen der Vertiefungen zu unterscheiden,
sind beim besagten Verfahren herkömmliche Beschichtungsmethoden, die dem Fachmann
bestens bekannt sind, anwendbar.
[0029] Das Abtragen der porösen Beschichtung im Bereich der Erhebungen kann dabei durch
Kugelstrahlen, Abscheren, Bürsten, Drehen, Fräsen, Schleifen, Gleitschleifen (Trowalisieren),
chemisches oder elektrochemisches Abtragen erfolgen. Diese Techniken sind auf dem
Gebiet der Herstellung gattungmässiger Implantate weit verbreitet und gebräuchlich.
[0030] Das Aufbringen der porösen Beschichtung kann durch ein Plasmabeschichten, insbesondere
durch ein atmosphärisches Plasmaspritzverfahren (APS) oder ein Vakuum Plasmaspritzverfahren
(VPS), durch Präzipitation, oder Additive Manufacturing erfolgen. Diese Methoden sind
auf dem Gebiet weit verbreitet und erlauben je nach den zu erfüllenden Erfordernissen
ein zuverlässiges, wahlweise selektives, auf jeden Fall jedoch effizientes Auftragen
der porösen Beschichtung.
[0031] Die oben genannten Verfahren können einen zusätzlichen Schritt, welcher das Sintern
des mit der porösen Beschichtung beschichteten Grundkörpers beinhaltet, umfassen.
Dadurch wird einerseits eine hohe Festigkeit der porösen Beschichtung an sich, andererseits
aber auch eine gute Anhaftung am Implantatgrundkörper, erreicht.
[0032] Weitere Vorteile und Einzelmerkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden
Beschreibung zweier Ausführungsbeispiele und aus den Zeichnungen.
[0033] Es zeigen schematisch:
- Figur 1:
- Querschnittsprofil der Oberflächenstruktur eines erfindungsgemässen Implantates;
- Figur 2:
- Querschnittsprofil der Oberflächenstruktur eines alternativen Ausführungsbeispiels
eines erfindungsgemässen Implantates;
- Figur 3:
- Unbeschichteter Implantatgrundkörper für ein erfindungsgemässes Implantat;
- Figur 4:
- Erfindungsgemässes Implantat aufweisend eine Oberflächenstruktur mit einem Querschnittsprofil
gemäss Figur 1;
- Figur 5:
- Schnittbild der Oberflächenstruktur eines erfindungsgemässen Implantates;
- Figur 6:
- Vergrössertes Schnittbild der Oberflächenstruktur eines erfindungsgemässen Implantates.
[0034] Wie aus Figur 1 hervorgeht, umfasst die Oberflächenstruktur 2 eines erfindungsgemässen
Implantates 1 Erhebungen 3 und Vertiefungen 4. Im vorliegenden Fall erstrecken sich
die mit einer porösen Beschichtung 5 beschichteten Zonen 6 nur über die Vertiefungen
4, während die Erhebungen 3 unbeschichtete Zonen 7a aufweisen. Die Oberflächenstruktur
2 weist eine Profiltiefe t und die poröse Beschichtung 5 in den beschichteten Zonen
6 eine Schichtdicke d auf.
[0035] Wie Figur 2 zu entnehmen ist, unterscheidet sich das dort dargestellte Ausführungsbeispiel
dahingehend von demjenigen aus Figur 1, dass sowohl die Erhebungen 3 als auch die
Vertiefungen 4 mit einer porösen Beschichtung 5 beschichtet sind. Allerdings weisen
die Erhebungen 3 beschichtete Zonen 7b auf, in denen die Schichtdicke der porösen
Beschichtung 5 kleiner ist als in den Vertiefungen 4. Die Beschichtung kann hier aber
auch einfach eine geringere Porosität bzw. eine grössere Kompaktheit aufweisen, als
in der Vertiefung 4. Darum ist die Abriebfestigkeit der porösen Beschichtung 5 in
den Zonen 7b grösser als in den Vertiefungen 4. Bei der dargestellten porösen Beschichtung
5 handelt es sich um eine Partikelbeschichtung, die sich aus den Partikeln 9 zusammensetzt.
[0036] Der Implantatgrundkörper 8 gemäss Figur 3 wurde durch Anbringen von rillenförmigen
Vertiefungen 4 auf einem Metallrohling hergestellt. Es handelt sich um einen kugelkalottenschalenförmigen
Implantatgrundkörper 8 mit einem Pol 10 und einem Äquator 11. Die Oberflächenstruktur
2 weist neben den bereits angesprochenen Vertiefungen 4 Erhebungen 3 auf.
[0037] Das in Figur 4 abgebildete erfindungsgemässe Implantat 1 wurde aus einem Grundkörper
8 von der Art des in Figur 3 abgebildeten hergestellt, wobei ein Verfahren gemäss
Anspruch 11 angewendet wurde. Entsprechend wurde nach Bereitstellen eines unbeschichteten
Grundkörpers 8 im Bereich mit einer Oberflächenstruktur, welche sich in diesem Fall
vom Pol 10 bis zum Äquator 11 erstreckt, eine poröse Beschichtung 5 aufgetragen. Daraufhin
wurde die poröse Beschichtung 5 im Bereich der Erhebungen 3 wieder derart abgetragen,
dass die Schichtdicke der porösen Beschichtung 5 auf den Erhebungen 3 kleiner ist
als in den Vertiefungen 4. Durch das Abtragen werden Partikel mit geringerer Haftung
entfernt, was zu einer Verringerung der Schichtdicke führt. Dadurch ist die die Abriebfestigkeit
der porösen Beschichtung 5 auf den Erhebungen 3 grösser als in den Vertiefungen 4.
[0038] Die Figuren 5 und 6 zeigen Schnittbilder der Oberflächenstruktur erfindungsgemässer
Implantate.
[0039] Gemäss Figur 5 ist die Erhebung 3 im Querschnitt asymmetrisch ausgebildet. Die Beschichtung
5 bestehend aus Titanpartikeln ist auf der steil abfallenden linken und auf der etwas
flacheren rechten Flanke unterschiedlich verteilt. Die dunklen Bereiche der Beschichtung
entsprechen Poren zwischen den hellen Titanpartikeln. Deutlich sichtbar ist die Schichtdicke
in den Vertiefungen 4 grösser, als auf dem Scheitel der Erhebung 3.
[0040] In Figur 6 ist gegenüber Figur 5 noch weiter vergrössert eine offenporige Struktur
der Beschichtung 5 sichtbar. Die hellen Bereiche der Titanpartikel bilden eine zerklüftete
Struktur, die das Einwachsen von Knochensubstanz ermöglicht.
1. Implantat (1), insbesondere Hüftgelenkpfannenimplantat, zur Implantation in einen
Knochen, wobei das Implantat (1) mindestens teilweise eine Oberflächenstruktur (2)
aufweist, welche Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) umfasst, wobei die Vertiefungen
(4) Zonen (6) mit einer porösen Beschichtung (5) aufweisen,
dadurch gekennzeichnet, dass
a) die Erhebungen (3) unbeschichtete Zonen (7) aufweisen, die an die beschichteten
Zonen (6) in den Vertiefungen angrenzen,
b) oder dass die Erhebungen (3) beschichtete Zonen (7) aufweisen, die an die beschichteten
Zonen (6) in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Schichtdicke der porösen Beschichtung
(5) auf den Erhebungen kleiner ist als in den Vertiefungen (4),
c) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Beschichtung auf den Erhebungen weniger
porös ist als in den Vertiefungen,
d) oder dass die Erhebungen (3) beschichtete Zonen (7) aufweisen, die an die beschichteten
Zonen (6) in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Abriebfestigkeit der porösen Beschichtung
(5) auf den Erhebungen grösser ist als in den Vertiefungen (4),
und dass sich die poröse Beschichtung (5) der Kontur der Vertiefungen (4) folgend
erstreckt.
2. Implantat (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke (d) der porösen Beschichtung (5) in den Vertiefungen (4) zwischen
15 % und 50 % der Profiltiefe (t) beträgt.
3. Implantat (1) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke (d) der poröser Beschichtung (5) in den Vertiefungen (4) zwischen
0.2 mm und 0.5 mm beträgt.
4. Implantat (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Implantat (1) einen Grundkörper (8) bestehend aus Titan, Zirkonium, Niob, Tantal,
oder Legierungen davon, Kobalt-Chrom-Legierung, Medizinstahl, Keramik oder Polyethylen
umfasst.
5. Implantat (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Implantat (1) eine poröse Beschichtung (5) bestehend aus Titan, Zirkonium, Niob,
Tantal, oder Legierungen davon, Kobalt-Chrom-Legierung aufweist.
6. Implantat (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die poröse Beschichtung (5) eine Partikelbeschichtung ist und vorzugsweise Partikel
(9) aufweist, die sphärisch, kubisch oder zylindrisch in der Form sind.
7. Implantat (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die poröse Beschichtung (5) Partikel (9) mit einer mittleren Grösse von 200 µm bis
500 µm aufweist.
8. Implantat (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Porosität der Beschichtung derart eingestellt ist, dass sie am Grund der Vertiefungen
(4) grösser ist als im Bereich der Seitenflanken der Erhebungen (3) oder auf den Erhebungen.
9. Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers (8), insbesondere zur Herstellung
eines Implantates (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, umfassend die Schritte
- Bereitstellen des unbeschichteten Grundkörpers (8), wobei der Grundkörper (8) mindestens
teilweise eine Oberflächenstruktur (2) aufweist, welche Erhebungen (3) und Vertiefungen
(4) umfasst,
- Selektives Aufbringen einer porösen Beschichtung (5), derart, dass beschichtete
Zonen (6) im Bereich der Vertiefungen (4) an unbeschichtete Zonen (7) im Bereich der
Erhebungen (3) angrenzen, und dass sich die poröse Beschichtung (5) der Kontur der
Vertiefungen (4) folgend erstreckt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das selektive Aufbringen der porösen Beschichtung (5) durch Auftragen einer Schicht
im Bereich der Erhebungen (3) erfolgt, die ein Anhaften der porösen Beschichtung (5)
weitestgehend verhindert.
11. Verfahren zum Beschichten eines Implantatgrundkörpers (8), insbesondere zur Herstellung
eines Implantates (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, umfassend die Schritte
- Bereitstellen des unbeschichteten Grundkörpers (8), wobei der Grundkörper (8) mindestens
teilweise eine Oberflächenstruktur (2) aufweist, welche Erhebungen (3) und Vertiefungen
(4) umfasst,
- Aufbringen einer porösen Beschichtung (5) im Beriech mit der Oberflächenstruktur
(2),
- Abtragen der porösen Beschichtung (5) im Bereich der Erhebungen (3), derart dass
a) die Erhebungen (3) beschichtete Zonen (7) aufweisen, die an die beschichteten Zonen
(6) in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Schichtdicke der porösen Beschichtung
(5) auf den Erhebungen kleiner ist als in den Vertiefungen (4),
b) oder dass die Erhebungen (3) beschichtete Zonen (7) aufweisen, die an die beschichteten
Zonen (6) in den Vertiefungen angrenzen, und dass die Abriebfestigkeit der porösen
Beschichtung (5) auf den Erhebungen grösser ist als in den Vertiefungen (4),
c) oder dass die Erhebungen beschichtete Zonen aufweisen, die an die beschichteten
Zonen in den Vertiefungen angrenzen, wobei die Beschichtung auf den Erhebungen weniger
porös ist als in den Vertiefungen
und dass sich die poröse Beschichtung (5) der Kontur der Vertiefungen (4) folgend
erstreckt.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Abtragen der porösen Beschichtung (5) im Bereich der Erhebungen (3) durch Kugelstrahlen,
Abscheren, Bürsten, Drehen, Fräsen, Schleifen, Gleitschleifen (Trowalisieren), chemisches
oder elektrochemisches Abtragen erfolgt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen der porösen Beschichtung (5) durch ein Plasmabeschichten, insbesondere
durch ein atmosphärisches Plasmaspritzverfahren (APS) oder ein Vakuum Plasmaspritzverfahren
(VPS), durch Präzipitation, oder Additive Manufacturing erfolgt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren zusätzlich den Schritt
- Sintern des mit der porösen Beschichtung (5) beschichteten Grundkörpers (8)
umfasst.